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Fターム[3B201CB11]の内容

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【課題】外壁を洗浄するための洗浄剤を洗い流す工程に関連し、環境汚染を防ぐための新規な技術を提案する。
【解決手段】酸性洗浄剤を建物外壁の汚れ部分に直接塗布する第3工程S3と、アルカリ性洗浄水により酸性洗浄剤を洗い流す第4工程S4を有する。酸性洗浄剤を含む排水を中性に近づけることができ、そのまま下水に排水してしまう場合と比較して、環境負荷を低減することができ、環境汚染を防ぐことが可能となる。また、アルカリ性洗浄水による中和の作用によって、残留してしまった酸性洗浄剤のpHを高めて中性に近づけることができるため、仮に、酸性洗浄剤が完全に洗い流されない場合であっても、酸性洗浄剤を中性に近づけることによって、外壁10の変色や劣化を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】スケールの溶解率を高めることができるとともに、スケールの溶解時間を短縮することができ、スケールの除去効率を向上させることができる酸によるスケールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】酸によるスケールの洗浄方法は、機器又は配管の内壁面に付着したスケールに洗浄剤としての酸を作用させて発泡させながらスケールの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。前記洗浄剤の酸は無機酸又は有機酸であり、無機酸としては塩酸、スルファミン酸等が挙げられ、有機酸としてはクエン酸、グリコール酸等が挙げられる。減圧状態における圧力は0.001〜0.09MPaであることが好ましい。また、洗浄時における洗浄液のpHは5以下であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】研磨材や研磨屑等の無機粒子に対する洗浄性が向上したガラスハードディスク基板の製造方法の提供。
【解決手段】以下の工程(1)〜(4)を含む、ガラスハードディスク基板の製造方法。(1)pHが1.0〜4.0である研磨液組成物を用いて被研磨ガラス基板を研磨する工程。(2)工程(1)で得られた基板を、pH1.0〜4.0の酸性洗浄剤組成物Aに浸漬しながら、洗浄工程(3)に搬送する工程。(3)工程(2)で搬送された基板を、pH8.0〜13.0のアルカリ性洗浄剤組成物Bを用いて浸漬洗浄する工程。(4)工程(3)で得られた基板を、pH1.0〜4.0の酸性洗浄剤組成物Cを用いてスクラブ洗浄する工程。 (もっと読む)


【課題】イオン系コンタミが少なく、かつ乾燥不良が起きず、その結果ヘッド浮上量が微少なハードディスクに搭載してもヘッドクラッシュを起こさない磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】磁気情報記録媒体用ガラス基板を保管ケースに保管する公知を備える磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、前記保管ケースは、電気抵抗値が10MΩ・cm以下である水溶液を用いてリンスされることを特徴とする磁気情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を用いる。前記電気抵抗値が10MΩ・cm以下である水溶液は、水に炭酸ガスを浸透溶解させて調整したものであることが好ましい。また、前記電気抵抗値が10MΩ・cm以下である水溶液は、水に水素ガスを浸透溶解させ、pHを9〜10に調整したものであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】バイオフィルムを効果的に除去し得るバイオフィルムの除去方法の提供。
【解決手段】下記工程1の後に下記工程2を行う、バイオフィルムの除去方法。
工程1:(a1)アニオン性界面活性剤〔以下(a1)成分という〕及び(a2)金属イオン捕捉剤〔以下(a2)成分という〕を(a1)成分/(a2)成分=1/9〜9/1の質量比にて含有する組成物(A)を、バイオフィルムの形成された固体表面に接触させる工程
工程2:(b)糖質分解酵素〔以下(b)成分という〕を含有する組成物(B)を、前記固体表面に接触させる工程 (もっと読む)


【課題】細かい磁性体含有粒子から有機溶媒を取り除く際に、乾燥した粒子の飛散を防止すると共に、気化熱で粒子の温度が低下することによることを防止することである。
【解決手段】磁性体を含有する平均粒子径200μm以下の粒子を含む洗浄容器内に水と非水溶性溶媒の混合液を添加する第1の工程と、前記混合液で前記粒子を洗浄する第2の工程と、前記粒子を磁石で固定する第3の工程と、磁石を固定した状態で前記混合液を除去する第4の工程と、前記洗浄容器内に温水を注ぐ第5の工程と、気体を洗浄容器内に導入して非水溶性溶媒を除去する第6の工程とを具備することを特徴とする磁性体含有粒子の洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】粘度を低減し取り扱い性に優れる液体洗浄剤組成物の提供。更に、洗浄時に優れた起泡性/泡安定性を呈すると共に、濯ぎ時には優れた泡切れ性を呈する液体洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】下記(a)〜(c)成分を含有し、(a)成分/(b)成分の質量比が1/10〜10/1であり、(a)成分と(b)成分の合計含有量が4〜20質量%であり、且つ、(c)成分/〔(a)成分+(b)成分〕の質量比が1/100〜2.5/1である液体洗浄剤組成物。
(a)炭素数8〜14の脂肪酸及びそれらの塩から選ばれる1種以上の化合物0.5〜10質量%(但し、脂肪酸塩を含む場合は脂肪酸としての換算量)、
(b)炭素数8〜16の炭化水素基を1つ有するアミンオキサイド型界面活性剤0.5〜19.5質量%、及び、
(c)炭素数4〜8のオレフィン及びスチレンから選ばれる1種とマレイン酸との共重合体0.1〜10質量% (もっと読む)


【課題】少ない工程数で、必要十分な洗浄を行うことができる容器内洗浄装置を提供する。
【解決手段】容器内洗浄装置1は、開口部を下にした状態で被洗浄容器2を収納可能な受け容器3と、受け容器3から被洗浄容器2の開口部を通って上方に伸びる洗浄管4と、この洗浄管4に取付けられて被洗浄容器2の内壁に向かって高圧の液剤を噴射する噴射部5と、受け容器3の底面または側面に取付けられる廃液ダクト6と、被洗浄容器2を受け容器3内で回転させる回転機構7とを備えている。受け容器3内の溝8aに被洗浄容器2の開口部の端部を嵌合させて被洗浄容器2を回転させた状態で、被洗浄容器2の内壁に高圧の液剤を噴射し、洗浄後の廃液は受け容器3から廃液ダクト6に流すようにすることで、被洗浄容器2の内壁に塗料等がへばりついている場合でも、一回の洗浄できれいに除去することができる。 (もっと読む)


【課題】インクジェット用途において印字に不具合を起こさないインクジェット用弾性部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】脂肪酸及び脂肪酸類の少なくとも一方を含有するインクジェット用弾性部材の洗浄方法であって、少なくとも水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムと、非イオン性又はアニオン性の界面活性剤とを含み、pHが11以上である水溶液で構成される洗浄液1を用いて該洗浄液1を70℃以上に加温しながら該弾性部材を洗浄する洗浄第一工程と、該洗浄第一工程よりも後に行われ、少なくとも非イオン性又はアニオン性の界面活性剤を含む水溶液で構成される洗浄液2を用いて該洗浄液2を加温しながら該弾性部材を洗浄する洗浄第二工程と、を含むインクジェット用弾性部材の洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】比重の軽い異物が大量に流入した場合であってもエレメントに付着した異物を除去することができる海水中異物除去装置を提供することができる。
【解決手段】海水中異物除去装置において、ポンプ11から送水される海水又は洗浄水を導入する入口管4と、透過水を導出する出口管5と、異物を排出するブロー管6と、内部の海水又は洗浄水を排水するドレン管7とを備える円筒形状のストレーナ容器1と、ストレーナ容器1の上部の空間と下部の空間とを仕切る中央部に開口部2aが形成された隔壁2と、ストレーナ容器1の内部の上部の空間には、複数の孔が形成された円筒形状のエレメント3と、出口管5及びドレン管7に接続された逆洗用のポンプ20と、ポンプ11,12の停止及び稼動や、入口弁10、出口弁12、ブロー弁13、ドレン弁14及びガス抜き弁15の開度を制御する制御装置9とを備えた。 (もっと読む)


【課題】便器への塗布容易性と洗浄力の持続性に優れた便器用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)アルキル基の炭素数が14〜22でエチレンオキサイド平均付加モル数が20〜80であるポリオキシエチレンアルキルエーテル、及び(b)エタノールを含有し、25℃における粘度が50〜3000mPa・sである、便器用洗浄剤組成物。 (もっと読む)


【課題】 日光(紫外線)が当らなかったり、雨水が少ないなどのセルフクリーニング作用が発揮されない要因があっても光触媒コートが施された外装面をそのセルフクリーニング作用を利用して清掃することで、従来の清掃手段で発生する光触媒コートの損傷や剥離を防止でき、効率的に清掃することができる光触媒コートが施された外装面の清掃方法およびその装置を提供すること。
【解決手段】 清掃範囲閉塞手段13で光触媒コートが施された外装面Wの清掃範囲を囲って閉塞空間を形成し、外装面Wに紫外線照射手段15で清掃の際に紫外線を照射することで、光触媒を活性化して付着した汚れの付着力を弱め、散水手段18で水膜を形成するよう散水して上方から下方に洗い流すことで、外装面Wを清浄するようにしている。そして、水膜で洗い流した清浄面Wに水切り乾燥手段22でエアを吹き付けて水切りと乾燥を行い、埃などの汚れの再付着を防止し、さらに、散水回収循環手段23で汚水を回収してフィルタで汚れを除去して循環し、最小限の水で清掃する。 (もっと読む)


【課題】逆浸透膜により製造される濃縮水を被洗浄物の洗浄水として利用する場合において、被洗浄物へのシリカの析出を抑制することができる洗浄水供給システムを提供すること。
【解決手段】洗浄水供給システム1は、原水W1に含まれる硬度成分を除去して軟水W2を製造する軟水化装置2と、軟水化装置2により製造される軟水W2を逆浸透膜により膜分離処理し、透過水W3及び濃縮水W4を製造する逆浸透膜装置3と、逆浸透膜装置3により製造される濃縮水W4を被洗浄物の洗浄水W5として供給する濃縮水供給ラインL3と、逆浸透膜装置3により製造される透過水W3を被洗浄物の濯ぎ水W3として供給する透過水供給ラインL4と、濃縮水W4のpH値を8以上に調整するpH値調整装置7とを備える。 (もっと読む)


【課題】スラリー流通経路の内壁面に堆積した遊離砥粒のアルカリ性水溶液による洗浄に伴い、遊離砥粒から溶出した金属イオンによるシリコンウェーハの金属汚染を防止可能なスラリー流通経路の洗浄液およびその洗浄方法を提供する。
【解決手段】pH9以上のアルカリ性水溶液に、キレート剤が添加されたスラリー流通経路用洗浄液を使用してスラリー流通経路を洗浄する。これにより、スラリー流通経路の内壁面に堆積した遊離砥粒をアルカリ性水溶液により洗浄する際、遊離砥粒から溶出した金属イオンによるシリコンウェーハの金属汚染を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】フォトマスクなどに用いられる石英基板の洗浄方法であって、傷が発生せず、洗浄効果も高い研磨した石英ガラス基板のスクラブ洗浄方法を提供する。
【解決手段】2流体ジェット洗浄によりスクラブ洗浄時にスクラブ材にからんで基板に傷をつけるような異物を除去し、その後、スクラブ材として30%圧縮応力が20〜100kPa、20kPaにおける圧縮弾性率が50〜200kPaであるスクラブ材を用いて、スクラブ洗浄することで、スクラブ洗浄による傷の発生を抑制し、なおかつ基板の主表面のみならず端面まで細かい付着物を除去する。 (もっと読む)


【解決課題】SVが2000h−1を超えるような大きなSVで通水しても、更に、触媒の充填層高を薄くしても過酸化水素の分解除去又は溶存酸素の除去を可能にする、高性能触媒を提供すること。
【解決手段】連続骨格相と連続空孔相からなる有機多孔質体と、該有機多孔質体の骨格表面に固着する直径4〜40μmの多数の粒子体又は該有機多孔質体の骨格表面上に形成される大きさが4〜40μmの多数の突起体との複合構造体であって、孔の平均直径10〜150μm、全細孔容積0.5〜5ml/gであり、水湿潤状態での体積当りのアニオン交換容量0.2mg当量/ml以上であり、アニオン交換基が該複合構造体中に均一に分布している有機多孔質アニオン交換体に、平均粒子径1〜100nmの白金族金属のナノ粒子が、乾燥状態で0.004〜20重量%担持されている白金族金属担持触媒。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェハの汚染物質をクリーニングする方法を提供する。
【解決手段】物質から汚染物質をクリーニングするために、酸クリーナー、続いて、アルカリクリーナーを用いて半導体ウェハをクリーニングする方法が提供される。酸クリーナーは実質的に全ての金属汚染物質を除去し、一方で、アルカリクリーナーは実質的に全ての非金属汚染物質、例えば、有機物質および粒子状物質を除去する。 (もっと読む)


【課題】 優れた泡保持性、洗浄性を有するとともに、被洗浄面に白化を生じることなくアルミニウム材質に対して腐食性のない飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物およびそれを用いた洗浄方法を提供。
【解決手段】
下記の(A)成分から(F)成分を、組成物全体に対し下記の割合で含有するとともに、(G)成分としての水を残質量%含有することを特徴とする飲食料品製造設備用発泡洗浄剤組成物を用いる。(A)アルカリ剤0.1〜5質量%、(B)アニオン界面活性剤0.5〜5質量%、(C)炭素原子数が12〜18のアルキル基またはアルキレン基を有するアルキルジメチルアミンオキサイド0.5〜5質量%、(D)芳香族スルホン酸塩0.5〜5質量%、(E)水溶性カルシウム化合物0.1〜5質量%、(F)金属イオン封鎖剤1〜10質量%。 (もっと読む)


【課題】硬質表面の微生物を効率よく洗浄殺菌し、微生物に起因する危害を低減する方法を提供する。
【解決手段】成分(A)
(A)一般式(1)
RO−(EO)n−H (1)
(式中、Rは炭素数8〜14の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を示し、EOはエチレンオキシ基を示し、nは0〜5の整数を示す。)
で表される化合物を硬質表面上の微生物に接触させ(工程1)、次いで、成分(B)塩素系酸化剤及びカチオン系殺菌剤からなる群から選ばれる少なくとも1種を該微生物に接触させる(工程2)、硬質表面の洗浄殺菌方法。 (もっと読む)


【解決手段】基板の表面上に形成された金属ゲート構造の周囲からポストエッチング洗浄工程中にポリマ残渣を除去するためのシステム及び方法は、金属ゲート構造に及び除去されるべきポリマ残渣に関連する複数のプロセスパラメータを決定することを含む。1又は複数の製造層が、金属ゲート構造を画定し、プロセスパラメータは、これらの製造層の及びポリマ残渣の特性を定める。第1及び第2の洗浄化学剤が特定され、プロセスパラメータに基づいて、第1及び第2の洗浄化学剤に関連する複数の適用パラメータが定められる。ゲート構造の構造的完全性を維持しつつポリマ残渣を実質的に除去するために、第1及び第2の適用化学剤は、適用パラメータを使用して制御方式で順次適用される。 (もっと読む)


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