【解決手段】 複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させた状態において、対向位置の壁面３Ａ、３Ｂの噴射ノズル２１から同時に洗浄液１３を噴射させると、相互に対向する位置の噴射ノズル２１から噴射された洗浄液１３が洗浄槽３内で衝突し、その衝突位置Ｘに洗浄液１３による乱流が生じる。この状態において、調整手段２２が壁面３Ａの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に大きくするとともに、壁面３Ｂの各噴射ノズル２１の噴射圧力を徐々に小さくする。これにより、上記洗浄液１３の衝突位置Ｘが洗浄槽３内で右方へ移動して、洗浄槽３内の洗浄液１３が攪拌される。
【効果】 洗浄カゴＢ内の金属部品Ｗを満遍なく洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】
スプレー操作における管理の困難さがなく、またリンスと被洗浄面へのスプレーとの切替えという面倒な作業を不要とし、非常に操作性の良い吹付け洗浄方法の提供を目的とするものである。
【解決手段】
コンプレッサによる加圧状態において給水を２つの系統に分岐させ、１つの系統においては加圧した水を加温して高温とした高温水中に炭酸水素ナトリウムを添加しつつ、該炭酸水素ナトリウムを含んだ高温水を先端の吹付け用ノズルから被洗浄面へ吹付け、また他の系統においては加圧した水を先端の吹付け用ノズルから吹付けながら被洗浄面を水洗することにより、炭酸水素ナトリウムにより洗浄力を高めた高温の強アルカリ性洗浄液を被洗浄面へ吹付けて汚れを除去し、加圧した水による水洗によって洗浄液を温度低下させることにより弱アルカリ性として、洗浄液を廃棄しやすいようにしたことを特徴とする吹付け洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】防護フェンスに用いる簡易最適な床面清掃用の防護体及びその製造方法を提供せんとする
【解決手段】床面清掃用の防護体は、袋体１内に液体吸収材２が収容された棒状体３である。袋体１は液が浸透する折曲可能な素材で形成されていること、液体吸収材２は棒状体３が折曲可能な状態で袋体１内に収容されていること、液体吸収材２には中和剤液５が含浸されている。袋体１内に、液体吸収材２を折曲可能な状態で収容した棒状体３を、両端面が閉鎖された樋状容器４へ注入した中和剤液５に浸し、中和剤液５を液体吸収材２に吸収させた。 （もっと読む）

【解決手段】 物品洗浄装置１は、洗浄液１３を貯溜した洗浄槽３と、洗浄液１３を攪拌する攪拌手段２１とを備えている。攪拌手段２１は、対向する壁面３Ａ，３Ａ’に配置された複数の噴射ノズル２２と、複数の電磁開閉弁２５とを備えており、それらの作動は制御手段２６によって制御される。
複数の金属部品Ｗを収容した洗浄カゴＢを洗浄液１３内に浸漬させ、その状態において制御手段２６がポンプＰを作動させるとともに所要箇所の電磁開閉弁２５を開放させる。すると、開放された電磁開閉弁２５と対応する噴射ノズル２２から洗浄液１３が噴射されて、洗浄槽３内の洗浄液１３は例えば時計方向に流動し、攪拌される。
【効果】 金属部品Ｗを効率的、かつ均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置１００はウエハＷを上方から支持する回転自在の基板支持部１０と、基板支持部１０の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハＷに対して供給するトッププレートノズル１０ｎとを備えている。トッププレートノズル１０ｎは基板支持部１０に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０から離間した状態でトッププレートノズル１０ｎからリンス液をウエハＷに対して供給する。トッププレートノズル１０ｎを基板支持部１０に接近させた状態で、トッププレートノズル１０ｎからリンス液を基板支持部１０の下面に供給して洗浄する。 （もっと読む）

【課題】 基板の搬送速度を変更した場合においても、基板を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１００を水平方向に搬送する搬送ローラ９と、処理液吐出口２１が形成され、この処理液吐出口２１とガラス基板１００の表面との間が処理液の液膜により液密状態となる位置に配置された処理液吐出ノズル２と、処理液保持面３１を備え、処理液吐出口２１と処理液保持面３１との間に処理液の液溜まりを形成可能となる位置に配置された液溜まり保持部材３と、ガラス基板１００の表面に供給された処理液がガラス基板１００の搬送方向に対して上流側に流出することを防止するためのエアナイフ５と、ガラス基板１００の裏面に洗浄液を供給する一対の裏面洗浄部４とを備える。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の２価イオンとを含む洗浄液７を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる２価の鉄イオンが酸化されて生成した３価の鉄イオンを紫外線照射２により還元する操作を行う。 （もっと読む）

【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Ｇに第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給手段９と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段２１と、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液Ｓを吐出する第２のリンス手段２３と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段２２と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段２７とを備える。 （もっと読む）

【課題】銅系材や亜鉛系材について付着有機物の除去を適切に行いつつ、耐食層の除去に基づいて生じる洗浄上がりおよびめっき後の外観不良を抑制することが可能な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】水溶性リン酸イオン物質、当該水溶性リン酸イオン物質以外の水溶性アルカリ性イオン物質、キレート剤、および界面活性剤を含有し、ｐＨが１０〜１２であって、腐食抑制剤を含有しない水系組成物。 （もっと読む）

【課題】雰囲気が置換される空間の体積を減少させることができ、基板のエッチング量を面内全域で低減できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置１は、内部空間Ｓ１を有するチャンバー２と、チャンバー２内で基板Ｗを保持して回転軸線Ａ１まわりに回転させるスピンチャック３と、チャンバー２内で基板Ｗの上面に対向する遮断板４と、遮断板４と基板Ｗとの間に不活性ガスを供給するガス供給機構５と、基板Ｗに対して傾いた方向に処理液を吐出することにより、基板Ｗの上面中央部に斜めに処理液を供給する処理液ノズル２９と、処理液ノズル２９に供給される処理液から酸素を脱気する脱気手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】エレメント繊維の劣化・損耗を抑制しつつ電磁フィルタに付着した鉄酸化物を取り除くことができ、且つ、洗浄処理に要する期間を短縮できる洗浄方法及び洗浄装置、並びにそれに用いる洗浄液を提供することを目的とする。
【解決手段】金属製フィルタの洗浄方法は、鉄酸化物に対して還元性を有し、且つ、鉄と錯体形成が可能な１種以上の化合物を主成分とする、ｐＨが５．０以上８．０以下に調整された除錆剤と、還元剤と、腐食防止剤とを、化合物が３質量％以上１０質量％以下、還元剤が化合物に対して５質量％以上１５質量％以下、腐食防止剤が化合物に対して５質量％以上１５質量％以下、となるよう水に溶解させて洗浄液１６を調製する準備工程と、洗浄液１６に、被洗浄対象物を浸漬させて洗浄処理する洗浄工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】被処理体の一面側の洗浄領域に洗浄液を局所的に供給して、被処理体の側面や他面側への洗浄液の回り込みを防止できる洗浄処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体であるテンプレートＴの転写パターン（洗浄領域）を当該転写パターンが下方に向くように保持機構４により吸着保持する。前記転写パターンを含み、テンプレートＴの外縁よりも内方側の領域との間に洗浄液を満たして通流させるための通流空間を液収容部３１により形成し、前記通流空間に液収容部３１の底面に形成された第１の開口部３１ａからリンス液を供給し、前記転写パターンを囲むように液収容部３１と転写パターン２外側領域との間に形成された隙間３０を介して排液部３２に排液する。リンス液は液収容部３１内を通流するので、洗浄領域に局所的に供給され、テンプレートＴの側面や他面側への洗浄液の回り込みを抑えながら洗浄処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】エレクトロニクス材料、金属、ガラス、サファイア、樹脂等の洗浄工程で要求される製品表面の高清浄度を実現することができる、水溶性洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルキルアミンオキサイド０．０１〜１０重量％、（Ｂ）硫酸残基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｃ）スルホン酸基を有する陰イオン界面活性剤０．０１〜２０重量％、（Ｄ）キレート剤０．０１〜２０重量％を含有することを特徴とする水溶性洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】フィルターエレメントのみならず集塵容器をも安全に洗浄することができる集塵装置とする。
【解決手段】フィルターエレメント２１と、このフィルターエレメント２１を収納する集塵容器１０とを有し、この集塵容器１０内がフィルターエレメント２１上流の集塵室Ｒ１と、フィルターエレメント２１下流のろ過室Ｒ２とに区分され、集塵室Ｒ１に臨むガス流入路Ｄ１と、ろ過室Ｒ２に臨むガス流出路Ｄ２とが集塵容器１０に備えられた集塵装置１であって、集塵室Ｒ１に臨む液供給路Ｄ７及び液排出路Ｄ４が集塵容器１０に備えられ、液排出路Ｄ４及びガス流入路Ｄ１に開閉弁Ｖ４，Ｖ１が備えられ、これらの開閉弁Ｖ４，Ｖ１を閉じて液供給路Ｄ７から洗浄液Ｗ１を供給すると、洗浄液Ｗ１によって集塵室Ｒ１が浸漬し、更にろ過室Ｒ２も浸漬する構成とされる。 （もっと読む）

【課題】着脱性やメンテナンス性に優れ、梁型のノズル保持機構が無くても撓まない長尺型の処理液吐出ノズルを提供すること。
【解決手段】この処理液吐出ノズル６４に取り付けられるたわみ補正機構７４は、ノズルヘッダ管６８の第１および第２の中間点Ｐ_M1，Ｐ_M2で補強面６８ａに突出して設けられる第１および第２の中間ジョイント部７８，８０と、ノズルヘッダ管６８の第１および第２の中間ジョイント部７８，８０の間たとえば長手方向の中心点Ｐ_Cで補強面６８ａに突出して設けられる中心ジョイント部７６と、中心ジョイント部７４と第１の中間ジョイント部との間に架け渡される第１の連結棒８０と、中心ジョイント部７８と第２の中間ジョイント部８０との間に架け渡される第２の連結棒８４とを有している。 （もっと読む）

【課題】装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置を提供する。
【解決手段】帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え基板(1)を搬送しつつその上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う。基板搬送部(51)は、基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第１〜第３のローラ組(R3〜R5)として長手方向(AR1)に沿ってその順に有する。上ローラと下ローラとによって基板(1)を挟む挟持位置について、第２のローラ組(R4)の挟持位置(KP4)が第１及び第３のローラ組の挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にある。 （もっと読む）

【課題】蛋白質汚れに対して良好な洗浄力を示し、アルマイトに対する防食性に優れ、且つ保存安定性に優れたアルマイト用洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン、（Ｂ）脂肪族カルボン酸及び／又はその塩、並びに、（Ｃ）ポリカルボン酸及び／又はその塩を、それぞれ特定範囲の質量％で含有するアルマイト用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】基板表面に付着したパーティクル等の汚染物質を除去するための基板処理方法および基板処理装置において、パーティクル除去効率を向上させる。
【解決手段】基板Ｗの表面Ｗｆに、ＤＩＷにポリスチレン微粒子Ｐを分散させた処理液Ｌによる液膜ＬＰを形成する。冷却ガス吐出ノズル３から冷却ガスを吐出させながら該ノズルを基板Ｗに対し走査移動させて、液膜ＬＰを凍結させる。液膜中に混入された微粒子Ｐが凝固核となって氷塊ＩＣの生成が促進されるため、液相から固相への相変化時間を短くしてパーティクル除去効率を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】金属部材表面に付着したシリカ及びシランカップリング剤等を除去することが可能な金属部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】塩化水素とフッ化アンモニウムと水とを含む洗浄剤によって金属部材の表面を洗浄する工程を含む金属部材の洗浄方法である。 （もっと読む）