【課題】ワーク浸漬時のワークおよびワーク処理槽の環境を一定にし、ムラ無く適切に表面処理を行うことができる浸漬処理装置のワーク浸漬装置および浸漬処理装置を提供する。
【解決手段】ワークＷに表面処理を行うワーク処理槽５の処理溶液に、ワークＷを浸漬するための浸漬処理装置１の浸漬移動機構１７であって、ワークＷを吊り下げる吊下げ機構５１と、吊下げ機構５１を昇降自在に支持すると共に、吊下げ機構５１を介してワークＷをワーク処理槽５に浸漬する昇降機構５２と、を備え、吊下げ機構５１を支持する昇降機構５２の出力端であるリードねじ７９が、吊下げ機構５１およびこれに吊り下げられたワークＷの重心位置に配設されている。 （もっと読む）

【課題】 紙の抄造に用いられるドライヤカンバス等の被洗浄物に洗浄媒体を吹き付けて洗浄する際に、被洗浄物で反射した洗浄媒体を吸引するための吸引フードの内壁面に該洗浄媒体が付着することがなく、したがって、洗浄媒体が被洗浄物に落下してしまうことのない洗浄装置を提供する。
【解決手段】 吸引フード２内に収容された洗浄ノズル８（図４）から高圧洗浄水をドライヤカンバスＣに向けて噴射し、反射した洗浄水を吸引フード２から吸引して回収する。吸引フード２の下端外周面にチャンバー部４を設け、このチャンバー部４の外壁の端部に吸引フード２の下端部と間隙Ｇを形成して該下端部を臨む位置まで伸張させた爪部10bを設け、該間隙Ｇから高圧空気を噴射する。吸引フード２の下端縁の形状を円弧状に形成して、噴射された高圧空気をコアンダ効果により吸引フード２の内壁面に沿って上昇させる。 （もっと読む）

【課題】超音波振動によりフィルターを洗浄する際に、フィルターの内部の気泡を減少させることで、フィルターの内部の異物を除去することができるフィルター洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄液２が貯留される貯留部１ｂを有した洗浄槽１と、洗浄槽１に設けられ、洗浄槽１の内部の気圧を低減させる減圧手段４と、洗浄槽１に設けられ、洗浄される洗浄槽１内のフィルター５に向かって洗浄液２を噴射する洗浄液噴射手段６と、洗浄槽１に設けられ、洗浄液２に超音波を照射する超音波発生手段３とを備えたフィルター洗浄装置において、洗浄液噴射手段６は、複数種類の直径の液流または液滴の洗浄液２を噴射する。 （もっと読む）

【課題】 湿潤状態のまま投入される円柱状造粒品を球形とする球形整粒機は、整粒円板の上面の凹凸が、特に外周部において詰まり易い。そこで、整粒円板に付着した湿粉を、迅速かつ確実に除去する。
【解決手段】 洗浄装置３２は、回転する整粒円板１７の外周部の一部に被さるカバー３３を備える。このカバー３３には、ノズル３９が設けられており、このノズル３９は、カバー３３が被せられた洗浄対象面へ流体を噴射させる。カバー３３が洗浄対象面との間で形成する空間内の流体は、真空接続口３６から外部へ吸引排出される。 （もっと読む）

【課題】基板面内により均一に処理を施すと共にスループットの向上を図る。
【解決手段】基板処理装置１は、基板２を水平搬送しながらその上面に現像液の液層Ｘを形成するための液ノズル１６と、基板２上に形成された液層Ｘを除去するための除去手段とを備える。この除去手段は、基板２を横断するように設けられて該基板２の上面に向かってエアを吐出するエアナイフ１８と、該エアナイフ１８によるエア吐出位置よりも基板２の後端側に隣接する位置に配置され、前記エアの吐出時に生じる液層Ｘの波打ちを抑える波消し部材２０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】高圧で洗浄を行なう必要がなく、異物が混入しても詰まるようなことなく、気泡の発生を防止して高い洗浄効果で洗浄を行なうことができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を圧送する加圧部１。液体に気体を注入する気体注入部２。気体を注入された液体が加圧部１で圧送されることによる加圧で液体に気体を溶解させる加圧溶解部３。加圧溶解部３で気体を溶解させた気体溶解液の圧力を、気体溶解液の流入側から流出側に向かって順次大気圧まで減圧する減圧部４（加圧溶解部３から気体溶解液を送り出す流路６に設けられた複数の圧力調整弁７で構成）。減圧部４で減圧された気体溶解液を吐出する吐出部１２。これらを備え、加圧部１、気体注入部２、加圧溶解部３の各部を連続的に運転させて、減圧部４に気体溶解液を連続的に供給し、吐出部１２から気泡の発生のない気体溶解液を連続的に吐出させるようにする。 （もっと読む）

【課題】廃液処理の問題がなく設備費などを抑えながら、清浄効率や効果に優れた表面清浄化方法及び装置を提供する。
【解決手段】水中燃焼による表面清浄化方法であり、被洗浄物を保持しかつ被洗浄物表面を冠水ないしは水中に浸すとともに、燃焼炎を被洗浄物表面に該表面上の水を排除しながら照射し、該燃焼炎及び該燃焼炎にて発生する活性種に被洗浄物表面を曝すことにより該被洗浄物表面の汚染物を除去するようにした。また、前記燃焼炎は、保炎器を介して前記被洗浄物側へ照射されるとともに、前記被洗浄物が所定温度となるよう制御されることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】処理流体室内の圧力異常を精度良く検出することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】
制御装置は、第１サンプリング窓および第２サンプリング窓の開閉状態に応じて、第１〜第４設定圧力検出信号のうち１つの設定圧力検出信号を選択する（ステップＳ１）。制御装置は、選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されるか否かを監視している（ステップＳ２）。選択された設定圧力検出信号が圧力センサから出力されると（ステップＳ２でＹＥＳ）、制御装置は薬液キャビネット内に圧力異常が発生したと判定し（ステップＳ４）、警報器から所定の警報音または警報表示を出力させる（ステップＳ５）。 （もっと読む）

【課題】排気中の溶剤を回収することにより、排気中の溶剤濃度を低減して排気設備の負担を軽減できる。
【解決手段】処理槽１を囲うチャンバ１１内に溶剤ノズル１７を介して高濃度のイソプロピルアルコールの蒸気が供給される場合であっても、スタティックミキサ６３により排気が純水と混合される。したがって、気体にイソプロピルアルコールの蒸気が含まれていても、純水とともに気液分離部５３に送られるので、イソプロピルアルコールの蒸気は純水とともに排出される。その結果、気液分離部５３からの排気中のイソプロピルアルコールの濃度を低減できる。 （もっと読む）

【課題】 ウエハ状の物品の一方の表面上の、縁部側の所定の部分を、或る液体で処理し、しかも、（ウエハの外縁から測定して）２ｍｍより多い縁部領域を処理する可能性を示すこと。
【解決手段】 洗浄ガスの大部分をウエハ状の物品（Ｗ）の縁部領域でウエハ状の物品（Ｗ）から導き出すガス排出装置（４）が周囲に設けられ、また、第２の主面上の液体が縁部付近の所定の部分を濡らし、続いて、液体がウエハ状の物品（Ｗ）から除去される。 （もっと読む）

【課題】連続的に搬入されてくる被洗浄物を洗浄でき、且つ洗浄液の漏洩を充分に防止できるインライン洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】複数個の洗浄槽１０，２０，３０の各々において、連続的に搬入されてくる被洗浄物Ａの挿入、減圧下での洗浄、蒸気洗浄、真空乾燥及び取出の各工程が重複することなく順次進行するように、前記挿入・取出手段、減圧手段、給液手段、洗浄手段、蒸気洗浄手段及び真空乾燥手段を制御する制御部５５が設けられており、且つ洗浄槽１０，２０，３０の各々に洗浄液を給液する給液タンク７０と、減圧手段によって吸引された洗浄槽１０，２０，３０の各槽内の洗浄液蒸気を含有するガスが導入され、凝縮器で凝縮された洗浄液を給液タンク７０に回収する蒸留器８０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】洗浄液のランニングコストを低減する洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄液を循環させながら基板を洗浄する洗浄槽と、洗浄槽の排気中に含まれる気化している洗浄液を液化する凝縮器と、凝縮器により液化された洗浄液を洗浄槽に還流する還流手段とを備える。前記洗浄液は炭酸エチレンを含み、凝縮器は空気を冷媒としてもよく、気化している洗浄液の液化に伴って熱気として排出する。前記洗浄装置は、さらに、前記凝縮器から排出される熱気を、洗浄液の固化防止用熱源として洗浄装置の所定箇所に供給する。 （もっと読む）

【課題】水を含む高沸点、高蒸発潜熱の洗浄剤においても、再付着がなく、洗浄後の乾燥効率が高く、洗浄、乾燥時間を短縮でき、複雑な形状の被洗浄物でも乾燥シミを作ることなく乾燥させることができるベーパー洗浄を可能にする。
【解決手段】被洗浄物をベーパー洗浄するためのベーパー洗浄槽６と、ベーパー洗浄槽６内における下方部分に蓄えた洗浄剤１６と、ベーパー洗浄槽６に連通した乾燥槽５と、ベーパー洗浄槽６と乾燥槽５間を遮断又は開放可能とした遮断蓋１３と、被洗浄物を載置可能であるとともにベーパー洗浄槽６と乾燥槽５間を移動可能なキャリアと、を具備した装置本体２と、装置本体２に連結された、装置本体２の内部を加減圧する圧力調整手段３と、被洗浄物に付着した洗浄剤等を排液するための排液弁１７と、洗浄剤１６を加熱するための加熱システム１９と、を具備した。 （もっと読む）

【課題】洗浄液の消費量を低減しつつ、効率的に被洗浄物の蒸気洗浄を行うことが可能な洗浄装置および洗浄装置の制御方法を提供すること。
【解決手段】洗浄装置１は、被洗浄物２を出し入れするための開口部１５および被洗浄物２が浸漬される洗浄槽３を有する本体部４と、本体部４の内部であって洗浄槽３の上方に形成される蒸気洗浄領域１６に洗浄液の蒸気を供給する蒸気発生槽５と、開口部１５を開放および閉鎖するために開閉する蓋部材１１と、本体部４内を減圧するための吸引手段１２とを備えている。蓋部材１１は、蒸気洗浄領域１６での被洗浄物２の蒸気洗浄時に開口部１５を閉鎖するとともに、被洗浄物２の蒸気洗浄後に開口部１５を開放するために退避する。吸引手段１２は、被洗浄物２の蒸気洗浄後、蓋部材１１が退避する前に本体部４内を減圧する。 （もっと読む）

【課題】複雑な機構を用いることなく、効率的に薬液を回収することができる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】基板処理装置において、制御部１２１は、リンス液によるリンス処理後に薬液による薬液処理を制御する。この際に、最初に、リンス処理用の回転数以上の回転数で基板Ｗを回転させながら基板上に薬液を供給して排液カップを薬液により洗浄し、その際に排液カップ５１で受けた液を廃棄ライン１１３によって廃棄する。その後、薬液処理用の回転数で基板を回転させながら基板上に薬液を供給して基板の薬液処理を行い、その際に排液カップで受けた液を回収ライン１１２によって回収する。 （もっと読む）

【課題】隣接する処理室への処理液（ミスト）の侵入をより確実に防止する。
【解決手段】基板処理装置は、基板Ｓに薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを有する。各処理部１，２のチャンバ１０，２０は開口部１１ａを介して連通しており、この開口部１１ａは、前処理部１側に設けられるシャッタ装置１４と、ウエット処理部２側に設けられるシャッタ本体２５とにより開閉可能に設けられている。また、前処理部１のチャンバ１０内には、開口部１１ａの開放中、ウエット処理部２側に向かって開口部１１ａにエアを吐出するエアノズル１９ａ，１９ｂが配備されている。 （もっと読む）

【課題】フッ化水素（ＨＦ）を用いた表面処理における安全性を向上させる。
【解決手段】貯留容器１０に無水または含水の液体フッ化水素１１を貯留する。吸込加圧手段２０によって、容器１０内を大気圧以下または前記被処理物の配置環境の圧力以下にし、気化したＨＦガスを吸い込んで加圧し、被処理物Ｗへ供給して表面処理を行なう。氷を蓄熱剤３２とする温調手段３０によって、貯留容器１０内をＨＦの大気圧下での沸点（約２０℃）より低温に保つ。 （もっと読む）

【課題】表面にディンプル状の凹部や溝を有するローラーに付着した異物等をコンパクトで安易な装置で良好に洗浄できるローラー洗浄装置を提供することことを目的とする。
【解決手段】
ローラー表面にディンプル状の凹部や溝を有するローラーを洗浄するローラー洗浄装置であって、前記ローラーの下面にローラーと微小隙間を有し、ローラーの下面の一部を覆う洗浄槽と、前記洗浄槽の内方に、洗浄液または圧縮空気のいずれかを噴出する少なくとも１個以上のスプレーノズルと、前記洗浄液を貯蔵する洗浄タンクと、前記洗浄タンクから洗浄槽へ洗浄液を送る搬送手段と、前記洗浄槽から洗浄済みの洗浄液を回収するドレン機構と、
を具備していることを特徴とするローラー洗浄装置である。 （もっと読む）

【課題】純水内に浸積され洗浄処理が行われた基板を乾燥させる基板乾燥において、上記基板に微細化されたパターンが存在するような場合であっても、確実に上記基板に付着した純水を除去して基板を乾燥させる基板乾燥装置及び方法を提供する。
【解決手段】純水内に浸積された基板を取り出した後、上記基板の表面に液状のイソプロピルアルコールを供給して、上記基板の表面に付着している上記純水を上記イソプロピルアルコールに置き換え、その後、上記基板の表面から上記イソプロピルアルコールを蒸発させることにより上記基板を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】表面処理槽内を真空状態に保ちながら、この表面処理槽内に収納した作業機構を上下動させるとともに、作業機構の回転、揺動等を可能とする表面処理装置を得る。
【解決手段】内部を真空状態とし得る耐圧槽1と、この耐圧槽1内に挿入して上端側を耐圧槽1から外方に突出し、この突出部17に上下動機構18を接続して上下動可能とする筒形の耐圧ケーシング7と、上記突出部17に配置した回転駆動機構16と、この回転駆動機構16に接続して回転可能であって、耐圧ケーシング7に貫通して配置した駆動軸13と、この駆動軸13の下部に接続した回転伝達機構24を介して駆動軸13の駆動力を伝達し、表面処理作業を行う作業機構34と、前記耐圧槽1と耐圧ケーシング7との外気連通部に配置し、耐圧槽1内の気密性を保持する耐圧真空シール材36と、前記耐圧ケーシング7と駆動軸13又は／及び回転伝達機構24との外気連通部に配置し、耐圧槽1内の気密性を保持する駆動真空シール材40とを備える。 （もっと読む）