説明

Fターム[3B201CD11]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 換気、排気、減圧 (201)

Fターム[3B201CD11]に分類される特許

161 - 180 / 201


【課題】複数の細孔を有する薄膜において、その表面のみならず細孔内に付着した汚れをも確実に除去し得る洗浄方法および洗浄装置を提供すること。
【解決手段】本発明の洗浄装置900は、複数の細孔を有する薄膜2を洗浄するための装置であり、チャンバ910と、チャンバ910内に設けられたステージ950と、ステージ950上に配置された容器920と、減圧手段930と、排液手段940と、給液手段960と、各部を制御する制御手段990とを有している。また、ステージ950には、温度調整手段970および振動付与手段980が内蔵されている。洗浄装置900は、容器920に貯留された洗浄液Sに薄膜2を浸漬した状態で、減圧手段930によりチャンバ910内を減圧することにより、洗浄液Sを細孔内に浸透させ、その後、排液手段940により容器920内から洗浄液Sを排液する。 (もっと読む)


【課題】設置環境にかかわらずチャンバ内を効率よく所定の圧力に制御することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】この基板処理装置1は、薬液処理を行うときには、スライドドア15bを閉鎖して薬液処理室12内を密閉する。そして、薬液処理室12内の圧力を計測し、その計測結果に基づいて薬液処理室12内の圧力を調節する。このため、基板処理装置1の設置環境にかかわらず、薬液処理室12内を所定の圧力に制御できる。また、薬液処理室12は、チャンバ10内に部分的に形成された領域である。このため、最小限の領域を対象として、効率よく圧力を制御できる。 (もっと読む)


【課題】 被処理物が洗浄液によって汚染されるのを防ぐことができる枚葉式洗浄処理装置、及びこれを用いた板状の製品の製造方法を提供する。
【解決手段】 ウェーハ回転台11に載置された半導体ウェーハ(被処理物)6に所定の洗浄処理を施すウェーハ洗浄槽1と、ウェーハ洗浄槽1に連設されるとともに、洗浄処理後の半導体ウェーハ6をウェーハ洗浄槽1の内部から外部に導出するためのウェーハ導入槽(導出槽)2と、ウェーハ洗浄槽1とウェーハ導入槽2との間に設けられた開口部10bを開閉するシャッター機構10とを設ける。さらに、ウェーハ導入槽2の上部に設けたFFU(付着防止機構)15を用いて開口部10bの気流を制御することで、開口部10bを通して、ウェーハ洗浄槽1からウェーハ導入槽2に洗浄処理後の半導体ウェーハ6を搬出する場合に、ウェーハ洗浄槽1内部で使用された洗浄液が半導体ウェーハ6に付着するのを防止する。 (もっと読む)


【課題】第1の処理液と第2の処理液とを分離回収することができ、しかも基板から飛散した各処理液が基板に再び付着しないようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【解決手段】外カップ体1内に設けられ上面に基板を保持した状態で制御モータ17によって回転駆動される回転テーブル11と、外カップ体内に設けられ上端が回転テーブルの上面よりも低い下降位置と上端が回転テーブルに保持された上記基板よりも高い上昇位置との間で上下駆動機構27によって上下駆動可能に設けられた内カップ体21と、外カップ体の内周部に設けられ内カップ体が下降位置の状態で基板を回転させて第2の処理液で処理するときに基板の周辺部から飛散する第2の処理液を下方へ反射させる第1の反射板6と、内カップ体の内周部に設けられ内カップ体が上昇位置の状態で基板を回転させて第1の処理液で処理するときに基板の周辺部から飛散する第1の処理液を下方へ反射させる第2の反射板25を具備する。 (もっと読む)


【課題】処理液のミストの拡散を抑制または防止して、基板処理品質を向上する。
【解決手段】基板Wはスピンチャック21に保持されて回転される。基板Wの上方には、遮蔽板22が配置されている。基板Wの側方は、スプラッシュガード24によって取り囲まれている。このスプラッシュガード24の開口部24aは、側方から挿し入れられた処理液ノズル66を通すことができる閉塞時隙間C1をもって、遮蔽板23によって遮蔽される。処理液ノズル66からは、たとえば、SPM液(硫酸過酸化水素水)が供給される。スプラッシュガード24および処理カップ22によって形成される処理容器20の内部は、排液・排気管34を介して排気されている。遮蔽板23の遮蔽位置は、閉塞時隙間C1において処理液容器20の内方に向かう所定の制御風速範囲の気流が生じるように定められている。 (もっと読む)


【課題】 基板保持ガイドにおける流体の流れを円滑にすることにより、処理の面内均一性を向上させることができるとともに、清浄度高く処理することができる。
【解決手段】 処理液LQが、第2側方ガイド45のスリット状の開口56,57,61を通過して、第2側方ガイド45の左側に位置している基板Wの周縁部を通過するとともに、基板Wの周縁全体を通過する。したがって、処理液LQが基板Wの面全体にわたって行き渡るので、処理の面内均一性を向上させることができる。その結果、処理液による処理時には、処理液が基板Wの面全体にわたって行き渡るので、処理の面内均一性を向上させることができ、基板Wから離脱したパーティクルや不要物が基板保持ガイド31から処理槽内へ流下するので、処理槽外への排出が円滑に行われ、基板Wを清浄度高く処理することができる。 (もっと読む)


【課題】 高性能で省力化を実現した洗浄装置を提供する。
【解決手段】 バスケットBKに収容したワークを洗浄する洗浄槽1と、洗浄槽1に洗浄液を供給すると共に使用後の洗浄液を回収する回収塔2と、回収塔2から受けた洗浄液を蒸留再生する蒸留器3と、前記各部1〜3を適宜に減圧する真空ポンプ4と、バスケットBKを洗浄槽1に搬入及び搬出する昇降装置5と、装置全体の動作を制御する制御部6とを備えて構成される。昇降装置5は、上下動する可動ベース板20と、可動ベース板20から下方に延設される係止部21,21とを備えて構成される。可動ベース板20は、洗浄槽1の密閉蓋を兼ねている。 (もっと読む)


【課題】基板処理装置において、微細なパターン間の水残りに起因する、シリンダー倒壊やトレンチ内の乾燥不良等の問題の発生を抑制できる技術を提供する。
【解決手段】ガス溶解部44において、純水中に二酸化炭素を加圧溶解させて二酸化炭素溶解リンス液rCを生成する。二酸化炭素溶解リンス液rCを貯留した処理槽20内に基板Wを浸漬して表面洗浄を行った後に、IPAガス雰囲気下におかれているチャンバ10内に引き上げて基板Wを乾燥する。 (もっと読む)


【課題】 基板を洗浄、乾燥する際のウォーターマークの発生と当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置1は、貯留された純水にウエハWを浸漬して処理する液処理槽6(内槽30)と、ウエハWを乾燥させるチャンバ5と、液処理槽6とチャンバ5との間でウエハWを搬送するためのウエハガイド4と、水蒸気とIPA蒸気をチャンバ5に供給する流体ノズル71と、内槽30に貯留された純水中に浸されたウエハWをチャンバ5に向けて引き上げる前にチャンバ5内に水蒸気を供給し、ウエハWを引き上げてチャンバ5に収容したら、水蒸気の供給を停止してIPA蒸気の供給を開始する制御部99を有する。 (もっと読む)


【課題】 被洗浄対象面を確実に液体に浸して洗浄効果の高い洗浄を可能とし、周囲への漏水を最小限とする洗浄装置を提供する。
【解決手段】 第1の底部体110aの被洗浄対象面側に第1の突起体120a、120bを設け、第1の底部体に隣接した第2の底部体210aの被洗浄対象面側に第2の突起体220を設け、第1の突起体の先端部と被洗浄対象面との間に液体保持空間130a、130bを形成し、第1の底部体110aに設けた第1の振動子111の振動を伝達体121a、121bにより液体保持空間130a、130b内の液体に伝達すると共に、第2の底部体210aに設けた第2の振動子211により、第1の振動子とは異なる振動数の振動を第2の突起体に伝達し、前記液体保持空間と第2の突起体を被洗浄対象面に当接して被洗浄対象面を洗浄するようにした。 (もっと読む)


【課題】小型の耐圧筒体を用いて減圧浸漬洗浄や減圧蒸気洗浄若しくは減圧乾燥を行うことを可能とする。上下両端を開口部とした小型の耐圧筒体内に被洗浄物を収納して洗浄作業を行うことにより、洗浄完了後は耐圧筒体を上昇させるのみで被洗浄物を取り出す事が可能で、洗浄完了後の被洗浄物の後処理が容易となる。
【解決手段】上下両端を開口部2、3とし蒸気配管、真空配管等を接続しない耐圧筒体1を、上下両端の開口部2、3を密閉して内部に収納した被洗浄物4の減圧浸漬洗浄、減圧蒸気洗浄または減圧乾燥を行う場合の減圧に耐え得る耐圧強度とする。また、耐圧筒体1の上下両端の開口部2、3は、耐圧蓋体11、12にて開閉可能に密閉可能とし、この耐圧蓋体11、12に減圧機構114及びまたは蒸気発生機構15を接続する。 (もっと読む)


【課題】洗浄作業に要する時間を短縮できる洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】洗浄治具112には、被洗浄物114の被洗浄部位を密閉空間に面するように、を取り付けられる。洗浄液タンク120A,120Bに収容された洗浄液は、狭間隙の密閉空間内に一方の端の流入側配管から高速流として流入させる。洗浄液は、洗浄治具112と被洗浄物114によって形成された狭間隙の密閉空間内で被洗浄物の被洗浄部位を浸漬した状態で、高速流として流入させて、被洗浄部位の洗浄を行う。 (もっと読む)


【課題】 基材の外周部の不要膜の除去処理において、基材の中央部にダメージが及ばないようにする。
【解決手段】
ステージ10の内部に吸熱手段として冷媒室41を設け、それに水等の冷媒を充填する。このステージ10の支持面10aにウェハ90を接触支持させる。このウェハ90の外周部を加熱器20で加熱しながら、この加熱された部位に反応性ガス吹出し口30bから不要膜除去のための反応性ガスを供給する。一方、ウェハ90の外周部より内側の部分は、上記吸熱手段にて吸熱する。 (もっと読む)


【課題】揮発性の低い洗浄薬液を用いて強打力で洗浄を行った際でも乾燥性が非常に高く、洗浄薬液残りに起因する縦筋ムラを無くすことができ、且つ毎回一動作の洗浄でスリットノズルの先端部に乾燥固着する異物を完全に除去することで歩留まりを向上させ、タクトタイムを短縮する事が可能な洗浄装置付塗布装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、スリットノズル先端部8の外側に洗浄薬液と不活性ガスを混合した2流体を噴出する2流体ノズル10と、2流体ノズル10の逆進行方向側に不活性ガスを噴出する液切りノズル18とをスリットノズル1の長手方向に配列してなる2組が、スリットノズル先端部8の外側を挟みこむようにスリットノズル1の長手方向に平行に近設されている洗浄部と、この洗浄部の下部に位置して、発生したミスト状廃液を強制排気する排気部とで構成される洗浄ヘッド23を具備する。 (もっと読む)


【課題】異なる種類の処理流体の反応による被処理体の汚染防止、処理効率の向上、装置の小型化を図れるようにすること。
【解決手段】半導体ウエハWを保持する回転可能なロータ21と、ロータ21にて保持された半導体ウエハを密封状態に包囲可能な複数の処理室例えば内チャンバ23及び外チャンバ24と、半導体ウエハに対して処理流体を供給する処理流体供給手段としての薬液供給手段50、IPA供給手段60、リンス液供給手段70及び乾燥流体供給手段80と、内チャンバ及び外チャンバを半導体ウエハに対して相対的に移動するシリンダ27,28を具備する。内チャンバ及び外チャンバを筒体にて形成すると共に、筒体の一端に向かって拡開するテーパ状に形成し、筒体の拡開側部位に、処理流体の排液ポート及び排気ポートを設ける。 (もっと読む)


【課題】スピンコーターカップ、半導体ウェハ、液晶ガラス基板等の被洗浄物に付着したレジスト等の有機被膜を短時間で除去するとともに、洗浄液を換えずに多数回にわたり繰り返し使用することが可能な生産性、経済性に優れた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄室内に被洗浄物を保持する保持かごを回転可能に配設し、さらに洗浄室内に被洗浄物に向けて噴射ノズルを設置して、炭酸アルキレンによる洗浄、純水によるすすぎの後に、被洗浄物に向けて温風を噴射して液切りする。被洗浄物を洗浄した後の炭酸アルキレンは、洗浄液再生装置でオゾンにより有機被膜成分を分解して、循環再使用する。 (もっと読む)


【課題】基板の状態によらずに処理液の消費量を抑制することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。
【解決手段】処理対象の基板Wは、スピンチャック1によって保持され、密閉可能な処理チャンバ12内に収容される。処理チャンバ12内の空間は、排気/吸気路13、三方弁14および排気路16を介して気体吸引機構17によって、減圧することができる。薬液ノズル2から基板Wに薬液を供給して薬液処理工程を行うときには、処理チャンバ12内は、減圧状態とされる。
【効果】減圧雰囲気中では、基板Wの処理液に対する濡れ性が良くなるので、基板Wの表面が疎水性表面であっても、少量の薬液でその表面全域を覆うことができる。 (もっと読む)


【課題】 排液による大気への連通を抑制することにより、減圧乾燥の効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】 処理液供給部16から処理槽1に処理液を供給し、昇降ユニット7を処理槽1内に移動して基板Wを処理液に浸漬させる。その後、昇降ユニット7を処理槽1内から空間SPへ移動して減圧部31による減圧を行っても、外槽5の排出配管67には密閉容器69が設けてあるので、排出配管67の下流から乾燥位置に気体が流入することが抑制される。したがって、十分に空間SP内を減圧することができ、減圧乾燥の効率を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】洗浄用溶剤中に被洗浄物を浸漬した後、該被洗浄物を洗浄用溶剤から取り出して乾燥させる洗浄工程に使用される洗浄用溶剤において、前記被洗浄物がどの程度、乾燥しているかを確認する簡易な方法を提供する。
【解決手段】洗浄用溶剤中に被洗浄物を浸漬した後、該被洗浄物を洗浄用溶剤から取り出して乾燥させる洗浄工程に使用され、かつ、前記洗浄用溶剤が芳香性溶剤を含有する。前記芳香性溶剤の沸点が脱脂性溶剤よりも高いことにより、被洗浄物の乾燥工程において、該被洗浄物に含まれた脱脂性溶剤が完全に揮発した後も芳香性溶剤が残存し、被洗浄物にかすかな芳香を付与することができ、該芳香の度合いにより、人間の嗅覚で乾燥度合いを判断することができる。 (もっと読む)


【課題】 処理品質を向上させながら、小型化に有利な基板処理装置を提供する。
【解決手段】 送引均衡型水洗ノズルヘッド10に装備された排液チューブウォール2,4によってリンス処理後の純水(処理済リンス液)を吸引して基板上から直ちに除去するとともに、送引均衡型エアーナイフヘッド20に装備された排気チューブウォール6,8によって処理済リンス液を含んだ乾燥処理後のガス(処理済乾燥ガス)を吸引して基板上から直ちに除去している。このため、処理済リンス液が飛散してヘッド20によって乾燥処理される基板表面に付着することがない一方で、液切りされた処理済リンス液が飛散してヘッド10によってリンス処理される基板表面に付着することがない。したがって、両ヘッド10,20を互いに近接配置して装置を小型化することができるとともに、汚染物の基板Wへの再付着を確実に防止して基板Wの処理品質を向上させることができる。 (もっと読む)


161 - 180 / 201