Fターム[3B201CD11]の内容

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Fターム[3B201CD11]に分類される特許

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【課題】洗浄用流体が塗装ガン及びロボットアーム等に飛び散ることなく、洗浄することができる塗装ガンの洗浄技術を提供することを課題とする。
【解決手段】閉塞手段51は、環状の弾性部材であり、開口部48に設けられ開口部48の中心に向かって延びる閉塞本体部52と、この閉塞本体部52の中央に設けられ塗装ガン20が挿入できる塗装ガン挿入口53と、閉塞本体部52の下面54に設けられ塗装ガン挿入口53から洗浄容器41の壁42に向かって下方に傾斜する傾斜面55と、閉塞本体部52の上面56に設けられ湾曲溝状にえぐられている湾曲溝57と、閉塞本体部52の外径側に設けられ段を為すこどとで開口部48に嵌る取付部58と、からなる。
【効果】洗浄用流体が塗装ガン及びロボットアーム等に飛び散ることなく、塗装ガンを洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】蒸気タービンやガスタービン本体あるいはガスタービン圧縮機のロータを分解せずに洗浄することにより、ロータの表面に付着した錆スケール、動翼にできた孔食や微小き裂内の錆、腐食性物質を取り除く。
【解決手段】タービンロータ1、30の超音波洗浄方法において、ロータ植込部2aに動翼3を植設した状態のタービンロータ1、30を洗浄槽4A,4B内で一部または全体を洗浄溶液5に浸け、タービンロータ1、30を回転駆動モータ10により連続回転駆動または間欠回転駆動させ、洗浄槽4A、4B内の超音波振動子装置6に外部に設置した超音波発信器9から電力を供給して超音波振動させ、洗浄溶液にキャビテーションを発生させる。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽の上部からの洗浄液が漏れ出るのを抑制あるいは防止した、基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】略垂直姿勢の基板Wを上方から洗浄槽1内に収容し、基板Wの表面および裏面にそれぞれ対向しかつ略水平方向に延在して配置された管状部材2a1〜2a3,2a4〜2a6から、基板Wの両面にそれぞれ洗浄液を噴射して洗浄する基板洗浄装置Sである。基板Wの両面にそれぞれ対向する洗浄槽1の側壁11aと、側壁11a側に配置された管状部材2a1〜2a3,2a4〜2a6との間に形成される通気路F1に、邪魔板C1〜C3,C4〜C6を配設した。 (もっと読む)


【課題】スケールの溶解率を高めることができるとともに、スケールの溶解時間を短縮することができ、スケールの除去効率を向上させることができるアルカリによるスケールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】アルカリによるスケールの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の配管の内壁面に付着したスケールに洗浄剤としてのアルカリを作用させてスケールの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で発泡源を添加するか、又は気泡を吹き込みながら行うものである。前記スケールは二酸化珪素を含むものである。また、前記気泡としては、その気泡径が100nm〜100μmの微細気泡が用いられる。洗浄時における洗浄液のpHは9以上であることが好ましい。洗浄時の圧力は、0.001〜0.09MPaに設定される。 (もっと読む)


【課題】スライムの洗浄速度が速く、スライムの洗浄時間を短縮することができ、スライムの除去効率を向上させることができるスライムの洗浄方法を提供する。
【解決手段】スライムの洗浄方法は、水タンク等の機器又は水配管等の内壁面に付着したスライムに洗浄剤としての過酸化物を作用させてスライムの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。過酸化物としては、酸素と水に分解する過酸化水素が最も好ましい。その過酸化水素を過酸化水素水として用い、過酸化水素水中の過酸化水素の濃度は0.1〜10質量%であることが好ましい。また、減圧状態の圧力は0.001〜0.09MPaに設定され、スライムの洗浄は酸性条件下で行われる。 (もっと読む)


【課題】スケールの溶解率を高めることができるとともに、スケールの溶解時間を短縮することができ、スケールの除去効率を向上させることができる酸によるスケールの洗浄方法を提供する。
【解決手段】酸によるスケールの洗浄方法は、機器又は配管の内壁面に付着したスケールに洗浄剤としての酸を作用させて発泡させながらスケールの洗浄を行うにあたり、該洗浄を減圧状態で行うものである。前記洗浄剤の酸は無機酸又は有機酸であり、無機酸としては塩酸、スルファミン酸等が挙げられ、有機酸としてはクエン酸、グリコール酸等が挙げられる。減圧状態における圧力は0.001〜0.09MPaであることが好ましい。また、洗浄時における洗浄液のpHは5以下であることが望ましい。 (もっと読む)


【課題】排気効率およびスペース効率を改善し、液切り乾燥直後の乾いた基板にミストが付着するのを十全に防止する。
【解決手段】上部および下部エアナイフ122U,122Lがそれらの間を通過する基板Gに対してナイフ状の鋭利な高圧エア流を吹き付けることにより、両エアナイフ122U,122Lの上流側の空間に多量のミストが発生する。基板Gの上で発生したミストの大部分は、下流側のFFU136から隙間Kを通って廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に上部排気口124に吸い込まれる。基板Gの下で発生したミストは、その全部がFFU136から廻ってくる空気および入口118から入ってくる空気と一緒に下部排気口126,128に吸い込まれる。 (もっと読む)


【課題】洗浄物の積載方法に関わらず、少量の溶剤であらゆる被洗浄物に対して洗浄後の粒子状の付着物の再付着を防止できる真空脱脂洗浄装置および真空脱脂洗浄方法を提供する。
【解決手段】真空脱脂洗浄装置については、被洗浄物に対して溶剤を吐出する噴射器および噴霧器を有する洗浄室と、溶剤を貯留する複数の貯留タンクと、貯留タンク内の溶剤を蒸留する蒸留器と、蒸留器により蒸留した溶剤を貯留する補充タンクと、を有しており、噴霧器の内部には加熱手段が入れ子状に具備されている真空脱脂洗浄装置とした。また、真空脱脂洗浄方法については、前述の真空脱脂洗浄装置を用いて、溶剤を噴霧器の内部へ加圧供給して、減圧下の洗浄室内における飽和温度以上に加熱した後、減圧下の洗浄室内にて溶剤を噴霧する真空脱脂洗浄方法とした。 (もっと読む)


【課題】液処理の工程に応じて基板の上方における気流の状態を最適化可能な液処理装置、および液処理方法を提供すること。
【解決手段】基板Wを液処理する液処理装置1において、基板Wを水平に支持し、回転可能な支持部材10と、支持部材10の外周部13との間に環状間隙GPを形成する間隙形成部材20と、基板Wに上方から処理液を供給する液供給部材30と、環状間隙GPを取り囲み、環状間隙GPを介して、回転する基板Wから振り切られる処理液を回収するカップ40と、間隙形成部材20を昇降させる昇降機構122とを有する。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽内の減圧と復圧とを繰り返す洗浄装置において、復圧時にもパッキンによる気密が破壊されないようにする。
【解決手段】洗浄装置1は、洗浄槽2内を減圧する減圧手段9と、洗浄槽本体3へのドア4のロック機構18を備える。洗浄槽本体3の開口部を閉じるようドア4を配置した状態で、洗浄槽2内の気体を減圧手段9によって外部へ吸引排出して、その吸引力でドア4を洗浄槽本体3の側へ引きつけて、復圧時にもパッキン14による気密を保つようパッキン14を圧縮した状態で、ロック機構18により洗浄槽本体3にドア4をロックする。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽内に液剤が所定量正しく供給されたか否かの判定を行う。
【解決手段】洗浄槽3は、液体を貯留して被洗浄物2を浸漬する。減圧手段7は、洗浄槽3内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽3内を減圧する。液剤供給手段5は、液剤タンク17が液剤供給路18を介して洗浄槽3に接続されてなり、液剤供給路18には液剤供給弁19が設けられている。減圧手段7により洗浄槽3内を減圧した状態で液剤供給弁19を開くことで、洗浄槽3の内外の差圧を利用して液剤タンク17からの液剤を洗浄槽3内へ供給する。液剤供給路18には、液剤が流れたことを検出するフローセンサ20が設けられている。液剤供給弁19への動作用出力信号と、フローセンサ20の検出信号とに基づき、洗浄槽3内への液剤の供給異常を判定する。 (もっと読む)


【課題】洗浄後の欠陥の発生が極めて少ないフォトマスク関連基板を得られる洗浄方法及び洗浄装置提供することを目的とする。
【解決手段】フォトマスク関連基板の洗浄方法において、少なくとも、前記フォトマスク関連基板の表面の異物をあらかじめ除去する前処理工程と、該前処理工程の後に前記フォトマスク関連基板にUV光を照射するUV照射工程と、該UV照射工程の後に前記フォトマスク関連基板を湿式で洗浄する湿式洗浄工程とを行うことを特徴とするフォトマスク関連基板の洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】液相部への給気流量を所定範囲に収めることにより、騒音を抑制しながら、洗浄性能の低下を防止する。
【解決手段】洗浄槽3には液体が貯留され、被洗浄物2が浸漬される。洗浄槽3には、減圧手段5と液相給気手段6とが設けられる。減圧手段5は、洗浄槽3内の気体を外部へ吸引排出して、洗浄槽3内を減圧する。液相給気手段6は、減圧手段5により減圧された洗浄槽3内の液相部に外気を導入する。また、液相給気手段6は、洗浄槽3内への外気流入量を絞る流量制限手段を備える。この流量制限手段は、たとえばオリフィス18から構成される。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の洗浄作業を行う作業室を、洗浄槽内を上下移動可能とし洗浄槽とは別個に気密的に遮断して形成したものであるから、減圧乾燥等の被洗浄物の洗浄作業に必要な最小限の空間を形成する事が可能となるとともに洗浄槽に洗浄液や洗浄蒸気が存在する状態での減圧乾燥が、減圧機構に無駄な負荷をかけたりすることが無く効率的に行う事を可能とする。
【解決手段】洗浄槽1内を上下移動可能とするとともに上下移動方向の側面に開放および密閉可能な開口部22を形成して被洗浄物12を収納するための耐圧性の作業室2を設ける。この作業室2の側面に設けた開口部22を被覆して作業室2内を密閉可能とするとともにこの作業室2内を減圧機構27に接続して減圧可能とする被覆体24を、洗浄槽1の内面に水平方向に進退可能に形成する。 (もっと読む)


【課題】圧力制御された複数の区画でナノ材料の秤量・包装および容器の洗浄を分担して行うことにより、作業者のナノ材料からの暴露危険性を低減するナノ材料秤量包装装置を提供する。
【解決手段】ナノ材料を秤量して包装容器に充填する区画Aと、前記区画Aから移送された包装容器の外側を洗浄する区画Bと、前記区画Bから移送された包装容器を保管する区画Aと、前記各室間を仕切る仕切壁と、前記各室と調整弁を介してダクトで接続され各室を陰圧に保つ吸引ファンと、各室の圧力を区画A<区画B<区画Aに保つように前記ダクトの調整弁を制御する制御装置を備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】トンネル式洗浄機において、流体排気通路で洗浄機の各チャンバからの均等な蒸気排気を容易にし、各チャンバからの熱損失を最小限にするため最適化される。
【解決手段】トンネル式洗浄機には、トンネル式洗浄機のチャンバを分離する間隔を保つ二重壁カーテンが含まれ、チャンバ間およびトンネル式洗浄機外への流体および熱移動が防止される。二重壁カーテンにはトンネル式洗浄機の操作の間にカーテンが互いに粘着することを抑制する表面が含まれる。またトンネル式洗浄機には種々の寸法の物品に対し乾燥効率を均等にする空気マニホールドが含まれる。 (もっと読む)


【課題】 被洗浄物の出し入れの困難性を解消するとともに、減圧した洗浄槽内へ気体を導入することによって上昇した洗浄液が減圧手段に吸い込まれないようにして、洗浄剤やエネルギーのロスを防ぐことができる洗浄装置を得る。
【解決手段】 上部に蓋体14を有する洗浄槽3と、洗浄槽3内を減圧する減圧手段4と、洗浄槽3内に気体を導入する給気手段5を備え、減圧下の洗浄槽3内の洗浄液1中に気体を導入し洗浄液1を上昇,下降させて被洗浄物2の洗浄を行う洗浄装置において、蓋体14に、洗浄槽3内に開口する減圧手段4における排気路16の開口部18と対峙するようにじゃま板32を蓋体14から垂下するようにして設け、上昇した洗浄液1が排気路16の開口部18側へ移動するのをじゃま板32により防ぎ、洗浄液1が排気路16の開口部18から洗浄槽3外へ持ち出されることを抑えるようにした。 (もっと読む)


【課題】洗浄液の減圧沸騰および突沸の有無を切り替えることのできる洗浄装置を提供する。
【解決手段】減圧手段5により洗浄槽3内を減圧後、液相給気弁18を開いて、洗浄槽3の内外の差圧により被洗浄物2よりも下方から洗浄槽3内の水溶液中に外気を導入する。減圧手段5による洗浄槽3内の減圧は、洗浄槽3内の水溶液が所定温度未満の場合には、水溶液を沸騰させるが、洗浄槽3内の水溶液が所定温度以上の場合には、水溶液を沸騰させない範囲の減圧に止める。水溶液を沸騰させた場合、その後の水溶液中への外気導入により、その気泡を核として、水溶液を突沸させる。 (もっと読む)


【課題】チャンバー内のダクトから遠い位置にあるミストもダクト側に運ぶことができ、従来よりも効率よくチャンバー内を排気する。
【解決手段】チャンバー40内の保持テーブル10上にワークWを保持し、保持テーブル10を回転させた状態でワークWの上面に洗浄水Cを供給するスピンナ洗浄装置において、保持テーブル10の外周側面12に形成した複数の羽13によって保持テーブル10の外周周囲に該外周周囲に沿った空気の流れを発生させ、この空気の流れによってチャンバー40内におけるダクト50の反対側のミストもダクト50側に導く。 (もっと読む)


【課題】移動の際に洗浄液が飛散しにくく設置スペースが狭いノズル洗浄装置、および当該ノズル洗浄装置を備える電子部品実装機を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル洗浄装置5は、洗浄液Lが貯留される洗浄槽600を有しノズル8の被洗浄部82を洗浄する洗浄部60と、洗浄部60の上方に配置され洗浄後の被洗浄部82に気体Gを吹き付けることにより、被洗浄部82を乾燥させる乾燥部61と、洗浄部60と乾燥部61との間に配置され、洗浄部60と乾燥部61とを連通、遮断可能に仕切るシャッター620を有するシャッター部62と、を有する装置本体6を備える。洗浄モードにおいてはシャッター620を開け被洗浄部82を洗浄し、乾燥モードにおいてはシャッター620を閉じ被洗浄部82を乾燥させる。 (もっと読む)


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