Fターム[3B201CD21]の内容

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【課題】粒度分布を有する粒状物であっても、粒状物の洗浄ロスを効果的に低減でき、かつ洗浄効率を犠牲にしない洗浄方法を提供する。
【解決手段】粒度分布を有する粒状物(1)および不純物(2)を含んで成る洗浄対象物(10)を洗浄媒体(3、3’)により洗浄して不純物(2)を除去する方法であって、洗浄対象物(10)が容器(5)内で洗浄媒体(3’)と接触し、かつ、洗浄媒体(3’)の上昇速度が容器(5)内で変化するように、容器(5)に洗浄媒体(3’)を下方(5a)から上方(5b)へ流通させる。 (もっと読む)


【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに供給される処理液をろ過するフィルタ16を内部で保持するハウジング17と、ハウジング17に保持されている状態のフィルタ16に液滴を衝突させるスプレーノズル23とを含む。フィルタ16に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 (もっと読む)


【課題】被洗浄物の洗浄および殺菌に適した超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄水90を収容し、底壁部13の外面13bに超音波振動子14が取り付けられる洗浄槽10と、被洗浄物30を底壁部13から離れた状態で支持する多孔状の支持部材23と、底壁部13と支持部材23との間に配置された少なくとも1つの散気管50とを有する超音波洗浄装置1である。少なくとも1つの散気管50は、洗浄水90にオゾン81を含む空気80を吐出し、底壁部13に対向するように配置される吐出孔51を含む。 (もっと読む)


【課題】排出されたプラスチック類を、排出される場所に近い場所で搬送と貯留に適した形態にすることができ、且つリサイクル工場への搬入前の段階で清浄な状態として、特に飲食に関連した用途に使用できるように処理することを可能にする。
【解決手段】プラスチック類を破砕する破砕機122と、該破砕された破砕片を洗浄する超音波洗浄機126と、該洗浄された破砕片を脱水する脱水機130と、を備えて、該破砕機122、超音波洗浄機126、及び脱水機130が、2つの運搬車196の脱着可能な荷台102A、102Bに分割されて据付られている。 (もっと読む)


【課題】基板を安定的に処理することができる基板の処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置1は、内部に液体Lが供給されるとともに、供給された液体Lに基板2を浸積させる槽11と、槽11内部に配置される基板2の基板面が鉛直方向に略平行となるように基板2を保持する保持部13とを備える。処理装置1は、槽11の供給口111から排出口112に向かって液体Lを流すと、液体Lが、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れるように構成されている。 (もっと読む)


【課題】給水することで掃除具を清掃できる掃除具の収納装置を提供する。
【解決手段】駆動手段6と、駆動手段6をON,OFFするスイッチ手段9を備えた掃除具5を収納し得る収納装置1は、収納装置1内に水を溜めることのできる給水手段2,2aと、収納装置1内の水を抜くことのできる排水手段3,3aを備えているとともに、収納装置1内に水が溜まった状態でスイッチ手段9をONして、掃除具5を駆動させて自己洗浄させることができ、水が抜かれた状態でスイッチ手段9をOFFとして、掃除具5の駆動を停止させることのできるスイッチ切替手段4を備えている。 (もっと読む)


【課題】アンモニア蒸留塔内部に設置されているトレイ、バブルキャップ等に付着したタールピッチ等を短期間で効率的に、かつ安価に除去することが可能なアンモニア蒸留塔の洗浄方法を提案する。
【解決手段】コークス炉から発生するガスの冷却に用いた安水中に含まれるアンモニアを除去するアンモニア蒸留塔内部に洗浄液を循環させて付着物を除去する洗浄方法において、上記洗浄液として、コールタールを蒸留することによって得られる吸収油あるいは上記吸収油と安水との混合液を用いる。 (もっと読む)


【課題】 例えば、PPS樹脂素材のような超音波洗浄ではバリ取りに時間がかかる場合に、時間が経過してもバリ取り効率が低下せず、生産ラインのタクトタイムに合わせて効率的にバリ取りが行なえるようにする。
【解決手段】 洗浄槽3内の洗浄液E中に被洗浄物物を浸漬し、洗浄液Eを脱気回路10により循環させながら脱気しつつ超音波洗浄・バリ取りを行うような操作において、洗浄槽3内の洗浄液Eに大気中の気体が入るのを抑制するため、洗浄液Eの液面に樹脂シート等の液面シャッター部材13を被せて超音波洗浄・バリ取りを行う。また液面シャッター部材13を洗浄槽3上部の二段開閉蓋11に取付け、二段開閉蓋11の開閉操作に連動して液面シャッター部材13が液面に被せられたり、液面から退避できたりするようにする。 (もっと読む)


【課題】メタルマスク版の表面にはみ出した半田等の付着物の拭き取りに使用した拭き取りシートから付着物を除去して、拭き取りシートを何度も再利用できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子46の振動を拭き取りシートSに染み込んだ液媒体を介して拭き取りシートS及び付着物Pに対して伝搬させ、拭き取りシートSを伝搬する振動と付着物Pを伝搬する振動との伝搬速度差による振幅変動によって、付着物Pを拭き取りシートSから剥離させる。 (もっと読む)


【課題】インクジェットヘッドに液膜となっているインクのクリーニングと乾燥して固着した状態のスペーサビーズのクリーニングとの2つのクリーニングに対応することを目的とする。
【解決手段】スペーサビーズを含むインクを下方に向けて噴射する複数のノズル30を1列に配列して設けたインクジェットヘッド24に付着したインクの液膜を非接触で吸引して除去する吸引機構43と、インクが乾燥してインクジェットヘッド24に固着したスペーサビーズを含む固化汚れに洗浄液を供給して洗浄する洗浄機構42と、を備えている。インクが液膜となって付着している程度であれば、短時間で処理が終了する吸引機構43を用いた液膜除去のクリーニングを行い、固化汚れとなっている場合には、洗浄効果の高い洗浄液を供給する洗浄機構42を用いた洗浄によるクリーニングを行うようにする。 (もっと読む)


【課題】洗浄槽内のガス溶解水のガスの濃度を所定の値に保つガス溶解水循環手段を有する洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】ガス溶解部21によりガスの濃度を制御したガス溶解水70を、洗浄装置の洗浄槽60の側壁から供給するガス溶解水供給手段20と、洗浄槽60からオーバーフローしたガス溶解水70を排出処理するガス溶解水排出処理手段30と、洗浄装置の洗浄槽60内に満たされたガス溶解水70を洗浄槽60の下部から取り出し、循環させて洗浄槽60の側壁から供給するガス溶解水循環手段10とを有する。 (もっと読む)


【課題】基板上に成長させた被処理体を少量の液媒体で且つ短時間で効率良く回収できるようにする。
【解決手段】基板Pの処理面と貯留槽41の底板表面とを対向させ且つその間隙を少量の液媒体で満たし、超音波振動子42により貯留槽41の底板を厚さ方向に振動させ、その振動を液媒体を介して基板Pに伝達して基板Pを面内方向に振動させることで、基板Pから被処理体を切断して液媒体と一緒に回収する。 (もっと読む)


【課題】洗浄処理に使用される液体の量を低減しつつ、基板処理装置の内部に付着した薬液成分を確実に除去することができる基板処理装置の中和洗浄装置および中和洗浄方法を提供する。
【解決手段】中和洗浄装置1は、基板処理装置90の内部との間で希釈液の循環経路を構成し、希釈液を循環させつつ希釈液中に中和剤を添加する。また、中和洗浄装置1は、循環される希釈液のpH値をpHセンサ16により計測し、その計測値が所定の数値範囲内に入るまで中和剤の添加を継続する。このため、希釈液を循環させることにより希釈液の使用量を低減させることができ、また、pHセンサ16の計測値に基づいて希釈液中の薬液成分を確実に中和することができる。 (もっと読む)


【構成】(イ)酸性化合物よりなり酸化剤を含有しない第一剤と(ロ)H発生剤とアルカリ性化合物とニトリロトリ酢酸或いはその中和塩、エチレンジアミンテトラ酢酸或いはその中和塩又はメチルグリシン三酢酸或いはその中和塩からなるキレ−ト剤とよりなる第二剤と(ハ)Hと反応して酸素を生成するH分解剤よりなる第三剤とを備えてなる発泡性洗浄剤及びその配管の洗浄方法。
【解決手段】循環式浴槽における配管系において、生物膜(バイオフィルム)による有機質スケ−ルの他に、無機質のスケ−ルをも良好に除去することができる。塩素剤を使用しないので、有害な塩素ガスの発生を防止できる。塩素系の清浄剤によらないので、有害な塩素ガスの発生を防止できる。 (もっと読む)


【課題】 炭酸アルキレンを含有する有機被膜の剥離液をオゾン処理したときに剥離液中に生成する酸化性物質濃度を低減する技術を提供する。
【解決手段】 炭酸アルキレンを含有する剥離液を使用して基体表面上の有機被膜を除去する工程1、上記工程1において生成した有機被膜に由来する成分を含有する剥離液にオゾン含有ガスを接触させる工程2、および上記工程2において生成したオゾン含有ガスに接触した剥離液に活性エネルギー線を照射する工程3を含む基体表面上の有機被膜の除去方法。 (もっと読む)


【課題】容器内で強制的に液体の流速を変更させることにより、大小の気泡を効率よく分離できる気泡除去方法、及びこの方法を実現できる構造が簡単で小型化が可能な気泡除去装置を提供すること。
【解決手段】以下の(1)〜(3)の工程からなる気泡除去方法。
(1)大小の気泡を含有する液体を比較的長い流路に供給することで前記液体内の大きな気泡を液面に浮上させて除去する工程。
(2)前記比較的長い流路に供給された液体の流速を減衰手段により減衰させる工程。
(3)前記流速が減衰された液体を所定時間減衰された流速を維持させることにより、前記液体内の小さな気泡を液面に浮上させて除去する工程。 (もっと読む)


【課題】 小型な装置で、簡便に活性種を生成することができ、活性種を含む液体を製造することができる液体製造装置およびこの液体製造装置で製造した液体を用いた処理装置および表面加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 活性種を含む液体である機能水を製造する機能水製造装置11である。純水を供給する高圧ポンプ13と、高圧ポンプ13によって供給された純水を吐出して活性種を生成するノズル12とを有している。ノズル12から機能水が吐出されてから吐出された機能水が液滴になるまでの時間が、ノズル12から機能水が吐出されてから活性種が消失するまでの時間より短くなるように、吐出流速およびノズル12の吐出口を構成する。 (もっと読む)


【課題】 硫酸を用いた洗浄システムにおいて、高度に清浄な表面が要求されるシリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を効率的かつ確実に洗浄する。
【解決手段】 硫酸溶液3を洗浄液として被洗浄材(半導体基板30)を洗浄する洗浄部(洗浄槽1)と、該洗浄部で洗浄に供した洗浄液を貯留する貯留部(貯留槽10)と、電解反応により溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を製造する電解反応装置(電解反応槽20、直流電源22)と、貯留部と電解反応装置との間で溶液を循環させる循環ライン(送り管14a、戻り管14b)を備える。好適には洗浄部において硫酸濃度8M〜18M、温度130〜200℃の濃硫酸溶液とし、貯留部において温度80〜130℃未満の溶液とする。 (もっと読む)


【課題】 超微細金型の洗浄に適した金型洗浄装置および金型洗浄方法を提供する。
【解決手段】 電解洗浄、水洗、乾燥を順次連続的に行う1つの洗浄槽と、前記洗浄槽内に供給される電解洗浄液内に浸漬させる電解洗浄用の電極と、洗浄される金型を載置して、前記洗浄槽内の電解洗浄液内に浸漬させると共に該洗浄槽より取り出す金属製の保持手段と、前記洗浄槽の上面開口を閉鎖する蓋と、前記洗浄槽内から電解洗浄液を排出する手段と、前記洗浄槽内へ洗浄水を所要圧力で噴射する手段と、前記洗浄槽内へ乾燥用の清浄空気、真空あるいは不活性ガスを供給する手段とを備え、電解洗浄時には、前記電極と金属製の保持手段とを電源のプラス側とマイナス側に接続して、前記電解洗浄液を介して通電して前記金型を電解洗浄する構成としていることを特徴とする一槽式の金型洗浄装置からなる。
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【課題】最初のすすぎ後及びその後のすすぎ後の両方における水の痕跡、汚れ又は染みを防止することができる、家周りの表面を洗浄するための噴霧装置を提供する。
【解決手段】家周りの表面を洗浄するための噴霧装置であって、(i)表面を親水性にするポリマーを含む洗浄性組成物を含む容器、(ii)直径1.0mm未満の樹脂ビーズを含むイオン交換樹脂である精製装置であって、前記噴霧装置内に収容されている精製装置、及び(iii)従来の庭用ホースに取り付けるためのアダプターを含むホース末端システムである噴霧装置とする。 (もっと読む)


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