【課題】粒度分布を有する粒状物であっても、粒状物の洗浄ロスを効果的に低減でき、かつ洗浄効率を犠牲にしない洗浄方法を提供する。
【解決手段】粒度分布を有する粒状物（１）および不純物（２）を含んで成る洗浄対象物（１０）を洗浄媒体（３、３’）により洗浄して不純物（２）を除去する方法であって、洗浄対象物（１０）が容器（５）内で洗浄媒体（３’）と接触し、かつ、洗浄媒体（３’）の上昇速度が容器（５）内で変化するように、容器（５）に洗浄媒体（３’）を下方（５ａ）から上方（５ｂ）へ流通させる。 （もっと読む）

【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板Ｗに供給される処理液をろ過するフィルタ１６を内部で保持するハウジング１７と、ハウジング１７に保持されている状態のフィルタ１６に液滴を衝突させるスプレーノズル２３とを含む。フィルタ１６に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄および殺菌に適した超音波洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄水９０を収容し、底壁部１３の外面１３ｂに超音波振動子１４が取り付けられる洗浄槽１０と、被洗浄物３０を底壁部１３から離れた状態で支持する多孔状の支持部材２３と、底壁部１３と支持部材２３との間に配置された少なくとも１つの散気管５０とを有する超音波洗浄装置１である。少なくとも１つの散気管５０は、洗浄水９０にオゾン８１を含む空気８０を吐出し、底壁部１３に対向するように配置される吐出孔５１を含む。 （もっと読む）

【課題】排出されたプラスチック類を、排出される場所に近い場所で搬送と貯留に適した形態にすることができ、且つリサイクル工場への搬入前の段階で清浄な状態として、特に飲食に関連した用途に使用できるように処理することを可能にする。
【解決手段】プラスチック類を破砕する破砕機１２２と、該破砕された破砕片を洗浄する超音波洗浄機１２６と、該洗浄された破砕片を脱水する脱水機１３０と、を備えて、該破砕機１２２、超音波洗浄機１２６、及び脱水機１３０が、２つの運搬車１９６の脱着可能な荷台１０２Ａ、１０２Ｂに分割されて据付られている。 （もっと読む）

【課題】基板を安定的に処理することができる基板の処理方法および処理装置を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、内部に液体Ｌが供給されるとともに、供給された液体Ｌに基板２を浸積させる槽１１と、槽１１内部に配置される基板２の基板面が鉛直方向に略平行となるように基板２を保持する保持部１３とを備える。処理装置１は、槽１１の供給口１１１から排出口１１２に向かって液体Ｌを流すと、液体Ｌが、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】給水することで掃除具を清掃できる掃除具の収納装置を提供する。
【解決手段】駆動手段６と、駆動手段６をＯＮ，ＯＦＦするスイッチ手段９を備えた掃除具５を収納し得る収納装置１は、収納装置１内に水を溜めることのできる給水手段２，２ａと、収納装置１内の水を抜くことのできる排水手段３，３ａを備えているとともに、収納装置１内に水が溜まった状態でスイッチ手段９をＯＮして、掃除具５を駆動させて自己洗浄させることができ、水が抜かれた状態でスイッチ手段９をＯＦＦとして、掃除具５の駆動を停止させることのできるスイッチ切替手段４を備えている。 （もっと読む）

【課題】アンモニア蒸留塔内部に設置されているトレイ、バブルキャップ等に付着したタールピッチ等を短期間で効率的に、かつ安価に除去することが可能なアンモニア蒸留塔の洗浄方法を提案する。
【解決手段】コークス炉から発生するガスの冷却に用いた安水中に含まれるアンモニアを除去するアンモニア蒸留塔内部に洗浄液を循環させて付着物を除去する洗浄方法において、上記洗浄液として、コールタールを蒸留することによって得られる吸収油あるいは上記吸収油と安水との混合液を用いる。 （もっと読む）

【課題】 例えば、ＰＰＳ樹脂素材のような超音波洗浄ではバリ取りに時間がかかる場合に、時間が経過してもバリ取り効率が低下せず、生産ラインのタクトタイムに合わせて効率的にバリ取りが行なえるようにする。
【解決手段】 洗浄槽３内の洗浄液Ｅ中に被洗浄物物を浸漬し、洗浄液Ｅを脱気回路１０により循環させながら脱気しつつ超音波洗浄・バリ取りを行うような操作において、洗浄槽３内の洗浄液Ｅに大気中の気体が入るのを抑制するため、洗浄液Ｅの液面に樹脂シート等の液面シャッター部材１３を被せて超音波洗浄・バリ取りを行う。また液面シャッター部材１３を洗浄槽３上部の二段開閉蓋１１に取付け、二段開閉蓋１１の開閉操作に連動して液面シャッター部材１３が液面に被せられたり、液面から退避できたりするようにする。 （もっと読む）

【課題】メタルマスク版の表面にはみ出した半田等の付着物の拭き取りに使用した拭き取りシートから付着物を除去して、拭き取りシートを何度も再利用できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】超音波振動子４６の振動を拭き取りシートＳに染み込んだ液媒体を介して拭き取りシートＳ及び付着物Ｐに対して伝搬させ、拭き取りシートＳを伝搬する振動と付着物Ｐを伝搬する振動との伝搬速度差による振幅変動によって、付着物Ｐを拭き取りシートＳから剥離させる。 （もっと読む）

【課題】インクジェットヘッドに液膜となっているインクのクリーニングと乾燥して固着した状態のスペーサビーズのクリーニングとの２つのクリーニングに対応することを目的とする。
【解決手段】スペーサビーズを含むインクを下方に向けて噴射する複数のノズル３０を１列に配列して設けたインクジェットヘッド２４に付着したインクの液膜を非接触で吸引して除去する吸引機構４３と、インクが乾燥してインクジェットヘッド２４に固着したスペーサビーズを含む固化汚れに洗浄液を供給して洗浄する洗浄機構４２と、を備えている。インクが液膜となって付着している程度であれば、短時間で処理が終了する吸引機構４３を用いた液膜除去のクリーニングを行い、固化汚れとなっている場合には、洗浄効果の高い洗浄液を供給する洗浄機構４２を用いた洗浄によるクリーニングを行うようにする。 （もっと読む）

【課題】洗浄槽内のガス溶解水のガスの濃度を所定の値に保つガス溶解水循環手段を有する洗浄装置を提供することにある。
【解決手段】ガス溶解部２１によりガスの濃度を制御したガス溶解水７０を、洗浄装置の洗浄槽６０の側壁から供給するガス溶解水供給手段２０と、洗浄槽６０からオーバーフローしたガス溶解水７０を排出処理するガス溶解水排出処理手段３０と、洗浄装置の洗浄槽６０内に満たされたガス溶解水７０を洗浄槽６０の下部から取り出し、循環させて洗浄槽６０の側壁から供給するガス溶解水循環手段１０とを有する。 （もっと読む）

【課題】基板上に成長させた被処理体を少量の液媒体で且つ短時間で効率良く回収できるようにする。
【解決手段】基板Ｐの処理面と貯留槽４１の底板表面とを対向させ且つその間隙を少量の液媒体で満たし、超音波振動子４２により貯留槽４１の底板を厚さ方向に振動させ、その振動を液媒体を介して基板Ｐに伝達して基板Ｐを面内方向に振動させることで、基板Ｐから被処理体を切断して液媒体と一緒に回収する。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理に使用される液体の量を低減しつつ、基板処理装置の内部に付着した薬液成分を確実に除去することができる基板処理装置の中和洗浄装置および中和洗浄方法を提供する。
【解決手段】中和洗浄装置１は、基板処理装置９０の内部との間で希釈液の循環経路を構成し、希釈液を循環させつつ希釈液中に中和剤を添加する。また、中和洗浄装置１は、循環される希釈液のｐＨ値をｐＨセンサ１６により計測し、その計測値が所定の数値範囲内に入るまで中和剤の添加を継続する。このため、希釈液を循環させることにより希釈液の使用量を低減させることができ、また、ｐＨセンサ１６の計測値に基づいて希釈液中の薬液成分を確実に中和することができる。 （もっと読む）

【構成】（イ）酸性化合物よりなり酸化剤を含有しない第一剤と（ロ）Ｈ_２Ｏ_２発生剤とアルカリ性化合物とニトリロトリ酢酸或いはその中和塩、エチレンジアミンテトラ酢酸或いはその中和塩又はメチルグリシン三酢酸或いはその中和塩からなるキレ−ト剤とよりなる第二剤と（ハ）Ｈ_２Ｏ_２と反応して酸素を生成するＨ_２Ｏ_２分解剤よりなる第三剤とを備えてなる発泡性洗浄剤及びその配管の洗浄方法。
【解決手段】循環式浴槽における配管系において、生物膜（バイオフィルム）による有機質スケ−ルの他に、無機質のスケ−ルをも良好に除去することができる。塩素剤を使用しないので、有害な塩素ガスの発生を防止できる。塩素系の清浄剤によらないので、有害な塩素ガスの発生を防止できる。 （もっと読む）

【課題】 炭酸アルキレンを含有する有機被膜の剥離液をオゾン処理したときに剥離液中に生成する酸化性物質濃度を低減する技術を提供する。
【解決手段】 炭酸アルキレンを含有する剥離液を使用して基体表面上の有機被膜を除去する工程１、上記工程１において生成した有機被膜に由来する成分を含有する剥離液にオゾン含有ガスを接触させる工程２、および上記工程２において生成したオゾン含有ガスに接触した剥離液に活性エネルギー線を照射する工程３を含む基体表面上の有機被膜の除去方法。 （もっと読む）

【課題】容器内で強制的に液体の流速を変更させることにより、大小の気泡を効率よく分離できる気泡除去方法、及びこの方法を実現できる構造が簡単で小型化が可能な気泡除去装置を提供すること。
【解決手段】以下の（１）〜（３）の工程からなる気泡除去方法。
（１）大小の気泡を含有する液体を比較的長い流路に供給することで前記液体内の大きな気泡を液面に浮上させて除去する工程。
（２）前記比較的長い流路に供給された液体の流速を減衰手段により減衰させる工程。
（３）前記流速が減衰された液体を所定時間減衰された流速を維持させることにより、前記液体内の小さな気泡を液面に浮上させて除去する工程。 （もっと読む）

【課題】 小型な装置で、簡便に活性種を生成することができ、活性種を含む液体を製造することができる液体製造装置およびこの液体製造装置で製造した液体を用いた処理装置および表面加工装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 活性種を含む液体である機能水を製造する機能水製造装置１１である。純水を供給する高圧ポンプ１３と、高圧ポンプ１３によって供給された純水を吐出して活性種を生成するノズル１２とを有している。ノズル１２から機能水が吐出されてから吐出された機能水が液滴になるまでの時間が、ノズル１２から機能水が吐出されてから活性種が消失するまでの時間より短くなるように、吐出流速およびノズル１２の吐出口を構成する。 （もっと読む）

【課題】 硫酸を用いた洗浄システムにおいて、高度に清浄な表面が要求されるシリコンウエハ、液晶用ガラス基板、フォトマスク基板などの電子材料基板を効率的かつ確実に洗浄する。
【解決手段】 硫酸溶液３を洗浄液として被洗浄材（半導体基板３０）を洗浄する洗浄部（洗浄槽１）と、該洗浄部で洗浄に供した洗浄液を貯留する貯留部（貯留槽１０）と、電解反応により溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を製造する電解反応装置（電解反応槽２０、直流電源２２）と、貯留部と電解反応装置との間で溶液を循環させる循環ライン（送り管１４ａ、戻り管１４ｂ）を備える。好適には洗浄部において硫酸濃度８Ｍ〜１８Ｍ、温度１３０〜２００℃の濃硫酸溶液とし、貯留部において温度８０〜１３０℃未満の溶液とする。 （もっと読む）

【課題】 超微細金型の洗浄に適した金型洗浄装置および金型洗浄方法を提供する。
【解決手段】 電解洗浄、水洗、乾燥を順次連続的に行う１つの洗浄槽と、前記洗浄槽内に供給される電解洗浄液内に浸漬させる電解洗浄用の電極と、洗浄される金型を載置して、前記洗浄槽内の電解洗浄液内に浸漬させると共に該洗浄槽より取り出す金属製の保持手段と、前記洗浄槽の上面開口を閉鎖する蓋と、前記洗浄槽内から電解洗浄液を排出する手段と、前記洗浄槽内へ洗浄水を所要圧力で噴射する手段と、前記洗浄槽内へ乾燥用の清浄空気、真空あるいは不活性ガスを供給する手段とを備え、電解洗浄時には、前記電極と金属製の保持手段とを電源のプラス側とマイナス側に接続して、前記電解洗浄液を介して通電して前記金型を電解洗浄する構成としていることを特徴とする一槽式の金型洗浄装置からなる。
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【課題】最初のすすぎ後及びその後のすすぎ後の両方における水の痕跡、汚れ又は染みを防止することができる、家周りの表面を洗浄するための噴霧装置を提供する。
【解決手段】家周りの表面を洗浄するための噴霧装置であって、（ｉ）表面を親水性にするポリマーを含む洗浄性組成物を含む容器、（ｉｉ）直径１．０ｍｍ未満の樹脂ビーズを含むイオン交換樹脂である精製装置であって、前記噴霧装置内に収容されている精製装置、及び（ｉｉｉ）従来の庭用ホースに取り付けるためのアダプターを含むホース末端システムである噴霧装置とする。 （もっと読む）