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Fターム[3B201CD22]の内容

液体又は蒸気による洗浄 (28,239) | 補助処理 (2,748) | 清浄手段の清浄、再生 (862) | 清浄化流体の回収、濾過 (758)

Fターム[3B201CD22]に分類される特許

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【課題】カスケード方式の洗浄装置における菌体の繁殖を簡易な手段で防止することができ、被洗浄物の洗浄効率を向上させることができる洗浄装置及び方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板1がローラー2で搬送され、ジェット洗浄ノズル3及び最終リンスノズル4で洗浄される。最終リンスノズル4に純水が供給される。最終リンスノズル4からの洗浄排水がタンク7に流入し、ポンプ9からノズル3に供給される。タンク7内の菌体数が増加した場合、タンク7内の水をオゾン水供給装置12に循環通水し、タンク7内にオゾン水を供給し、殺菌する。 (もっと読む)


【課題】洗浄設備を短時間で十分に洗浄することができる設備洗浄方法及び装置を提供する。
【解決手段】超純水ライン2から超純水を配管3、5,8、半導体洗浄機10、配管15、循環水槽17に流した後、循環水槽17内の水を循環ポンプ20、配管21を介して循環させ、薬液槽11〜13から薬液を添加する。主要な配管や、薬液槽11〜13、循環水槽17、カラム30,33、フィルタ6等はケーシング50内に設置されてユニット化されている。 (もっと読む)


【課題】 脱水カゴの回転駆動装置が不要になり、構造をコンパクトにさせると共に取り扱いを簡単にさせながら脱水カゴを万遍なく均一にきれいに水洗でき、かつ水洗に伴う水の飛散を防止して良好な作業環境下で水洗作業を行うことができるようにした脱水カゴの水洗技術の提供。
【解決手段】 上面が開口し、周壁10及び底壁11に多数の水切小孔12が形成された円形の脱水カゴ1を水洗対象とし、洗浄空間Sに回転自在に設けた水平テーブル5上に伏せ状態にセットした脱水カゴの外周面に対して水を噴射して水洗させる周面向き噴射ノズル60と、底外面に対して水を噴射させて水洗させる底面向き噴射ノズル61を備え、周面向き噴射ノズル及び/又は底面向き噴射ノズルからの噴射水の勢いにより脱水カゴを回転させながら水洗させる。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造で洗浄効果の高い洗浄ノズルを提供する。
【解決手段】洗浄ノズル8は、被洗浄物に微細気泡を含む加圧水流を洗浄水として噴射するノズル本体81と、ノズル本体81の軸線から偏心した位置に配置され、微細気泡を含む加圧水流を導入して、ノズル本体81の内周壁813の円周方向に沿って流す導水管821として機能する空間S3が形成された混合ホルダ部82と、ノズル本体81の噴射口812の縁部に吸引口831が配置され、回収した洗浄水を再利用するための液部吸引管842として機能する流路が形成されたヘッド部83と、ノズル本体81と同軸線上に配置されていると共に、噴射口812の中心部に吸引口841aが配置され、回収した洗浄水を廃棄するための気泡部吸引管841とを備えたものである。 (もっと読む)


【解決手段】 複数の金属部品Wを収容した洗浄カゴBを洗浄液13内に浸漬させた状態において、対向位置の壁面3A、3Bの噴射ノズル21から同時に洗浄液13を噴射させると、相互に対向する位置の噴射ノズル21から噴射された洗浄液13が洗浄槽3内で衝突し、その衝突位置Xに洗浄液13による乱流が生じる。この状態において、調整手段22が壁面3Aの各噴射ノズル21の噴射圧力を徐々に大きくするとともに、壁面3Bの各噴射ノズル21の噴射圧力を徐々に小さくする。これにより、上記洗浄液13の衝突位置Xが洗浄槽3内で右方へ移動して、洗浄槽3内の洗浄液13が攪拌される。
【効果】 洗浄カゴB内の金属部品Wを満遍なく洗浄することができる。 (もっと読む)


【課題】ゴム栓内部の狭くて奥まった凹部に付着残存する塵等のを十分に除去できるようにしたゴム栓洗浄方法を提供する。
【解決手段】ゴム栓Gを貯留槽1に投入して、その下部の洗浄用配管2に導入し、洗浄用配管2の基端部側に設けた加速用ノズル3より供給される高圧水流によって配管長手方向に移送しながら、洗浄用配管2の複数箇所に設置した、洗浄用配管径方向及び軸線方向に対し斜め方向に高圧噴射水を噴射する複数の洗浄用ノズル4によって洗浄用配管2内に渦巻き状の乱流16を発生させて、この乱流16によりゴム栓Gを洗浄し、この洗浄によりゴム栓Gから除去された異物を洗浄用配管2の先端部側に設けた異物排出ポート5より排出させると共に、貯留槽1に設けたオーバーフロー口6から水及び水より軽い異物をオーバーフローさせて排出し、洗浄されたゴム栓Gを水と共に貯留槽1に戻して回収する。 (もっと読む)


【課題】液処理工程中に基板を上方から支持する基板支持部、あるいは基板とともに回転する天板を基板へ供給されるリンス液を用いて洗浄する。
【解決手段】液処理装置100はウエハWを上方から支持する回転自在の基板支持部10と、基板支持部10の回転中心に設けられ少なくともリンス液をウエハWに対して供給するトッププレートノズル10nとを備えている。トッププレートノズル10nは基板支持部10に対して上下方向に移動可能となっており、トッププレートノズル10nを基板支持部10から離間した状態でトッププレートノズル10nからリンス液をウエハWに対して供給する。トッププレートノズル10nを基板支持部10に接近させた状態で、トッププレートノズル10nからリンス液を基板支持部10の下面に供給して洗浄する。 (もっと読む)


【課題】低沸点溶剤を用いた、洗浄等の表面処理を行いながら、発生した汚液中の汚物を、汚液と不溶性で汚液よりも沸点が高く比重の大きいフッ素系不活性液から成る分離液中に沈殿させ、この分離液を減圧導入槽内に気化による真空破壊を生じることなく導入し、濾過手段による汚物の分離濾過を可能とする。
【解決手段】汚液2中に、汚液2と不溶性で汚液2よりも沸点が高く比重の大きいフッ素系不活性液から成る分離液3を混入して汚液収納部1の下底6に沈殿させる。この汚液収納部1の下底6と減圧導入槽5との連通を遮断した状態で、減圧機構23により一定の減圧度まで減圧導入槽5内を減圧した後、汚液収納部1と減圧導入槽5とを連通し、減圧導入槽5の減圧による負圧を利用して、汚液収納部1の下底に沈殿させた分離液3を減圧導入槽5内に汚物17とともに導入する。そして、汚液収納部1の排出側から減圧導入槽5の排出側に到る流路中に分離液3と汚物17との濾過手段12を配置し、この濾過手段12により分離液3の濾過を行う。 (もっと読む)


【課題】止まり穴に照射して止まり穴内を洗浄した洗浄液を回収し、再利用することができる止まり穴洗浄装置を提供する。
【解決手段】止まり穴洗浄装置は、被洗浄物に形成された止まり穴に洗浄液を供給する供給口と止まり穴から洗浄液を回収する回収口とを備え止まり穴の開口を覆う蓋部材と、洗浄液を循環用タンクから供給口へ供給する供給路と洗浄液を回収口から循環用タンクへ回収する回収路とを備えた循環路と、洗浄液を循環路で循環させる循環用ポンプと、供給口へ供給する洗浄液に微細気泡を生成する気泡生成手段とを備えている。循環用ポンプにより循環用タンクから取り出された洗浄液は、気泡生成手段により微細気泡が生成され、蓋部材の供給口から止まり穴内に照射される。止まり穴内を洗浄した洗浄液は蓋部材の回収口から循環用タンクに回収され、止まり穴の洗浄に再利用される。 (もっと読む)


【課題】 マイクロバブルの洗浄液中での分散性を向上させた洗浄装置を提供する。
【解決手段】 洗浄液の構成を、洗浄液を溜める洗浄槽と、超音波振動を供給する超音波振動子と、所定の方向の流れを形成するようにマイクロバブルを含有した洗浄液を供給する洗浄液供給系とし、超音波振動子を洗浄槽の内部底面との間に隙間を有し且つ所定の方向の洗浄液の流れと所定の方向とは異なる方向の洗浄液の流れの境界位置に超音波振動子を配置し、洗浄液供給系がこの隙間に向けて洗浄液を供給することとする。 (もっと読む)


【課題】磁気ディスク用ガラス基板において、ガラス基板表面の粗さを大きくすることなく、換言すると、ガラス基板表面の粗さが大きくなることを抑えつつ、ガラス基板表面に付着した金属汚染物質を効果的に除去する。
【解決手段】ガラス基板の洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、洗浄工程においては、シュウ酸イオンと鉄の2価イオンとを含む洗浄液7を用いて酸性条件下で洗浄を行い、洗浄工程と並行して、または、相前後して、洗浄液に含まれる2価の鉄イオンが酸化されて生成した3価の鉄イオンを紫外線照射2により還元する操作を行う。 (もっと読む)


【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第1の処理液を分別回収して第2の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】被処理基板Gに第1の処理液Dを供給する第1の処理液供給手段9と、前記第1の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段21と、前記被処理基板の基板面に対し前記第2の処理液Sを吐出する第2のリンス手段23と、前記気体供給手段と前記第2のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第2の処理液を吐出する第1のリンス手段22と、前記基板搬送路上において、前記第1のリンス手段により供給された第2の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段27とを備える。 (もっと読む)


【課題】清掃対象表面に付着した汚染物質を効率的に清掃して分離回収する。
【解決手段】清掃対象A表面に対向して周縁部が接触配置される清掃ヘッド1と、清掃流体Fが清掃ベッド1の内部空間1cを介して循環する流体循環配管2と、清掃流体Fが補充可能に貯留される貯留タンク3と、貯留タンク3に貯留される清掃流体Fを流体循環配管2に循環させる循環駆動源4と、清掃流体Fに対し汚染物質Cがイオン結合する塵物質Wから分離可能となる特性の分離因子を供給する分離因子供給手段5と、流体循環配管2を循環する清掃流体Fを加圧した状態で清掃ヘッド1の流体吐出口1aから清掃ヘッド1の内部空間1cに吐出させる加圧吐出手段6と、流体循環配管2のうち清掃ヘッド1の流体回収口1bから貯留タンク3に至る途中に設けられ、循環する清掃流体F中に含まれる塵物質Wと汚染物質Cとを分離した状態で回収する回収手段7と、を備える。 (もっと読む)


【課題】エレメント繊維の劣化・損耗を抑制しつつ電磁フィルタに付着した鉄酸化物を取り除くことができ、且つ、洗浄処理に要する期間を短縮できる洗浄方法及び洗浄装置、並びにそれに用いる洗浄液を提供することを目的とする。
【解決手段】金属製フィルタの洗浄方法は、鉄酸化物に対して還元性を有し、且つ、鉄と錯体形成が可能な1種以上の化合物を主成分とする、pHが5.0以上8.0以下に調整された除錆剤と、還元剤と、腐食防止剤とを、化合物が3質量%以上10質量%以下、還元剤が化合物に対して5質量%以上15質量%以下、腐食防止剤が化合物に対して5質量%以上15質量%以下、となるよう水に溶解させて洗浄液16を調製する準備工程と、洗浄液16に、被洗浄対象物を浸漬させて洗浄処理する洗浄工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】中心部が非円筒形状となるように巻回された拭き取りシートを、円筒状の巻芯に巻き付け直すことなく容易に収容できるようにした付着物除去装置を提供する。
【解決手段】付着物Pの拭き取りに使用された後で巻回された拭き取りシートSは、収容ユニット20に収容される。巻回された拭き取りシートSの中心部には、軸部材25が挿通されており、拭き取りシートSが引き出されて回転すると、巻回された拭き取りシートSの中心部内を軸部材25が相対的に摺動しながら移動する。 (もっと読む)


【課題】 鉄道車両の車軸に配設されるころ軸受の内周面に塗布されている古いグリースの除去を十分に行う。
【解決手段】 本発明に係る鉄道用軸受洗浄装置1は、鉄道車両の車軸に配設される円環状のころ軸受Bの洗浄を行う。そして、鉄道用軸受洗浄装置1は、回転軸240に対して回転可能に配設され、ころ軸受Bの中心軸と回転軸240とが略同軸に配置されるように、ころ軸受Bを支持する回転支持部材250,290と、回転軸240の上端部に配設され、該回転軸240の内部を介して圧送される洗浄用液体を、ころ軸受Bの内周面に対して噴射可能な液体噴射手段270と、を備える。 (もっと読む)


【課題】海水に浸かった瓦礫を再利用可能な品質まで洗浄することができる洗浄装置を提供すること。
【解決手段】周面30をスクリーンで構成し、一端側31の開口を瓦礫投入口3Aとし、他端側32の開口を瓦礫排出口3Bとした筒状の回転筒体3を、回転駆動手段35によって回転可能に、かつ、回転筒体3の一端側31から他端側32に向けて下り傾斜となるように設置し、回転筒体3の他端側32の内部に洗浄水供給源Pから供給される洗浄水を供給する第1洗浄水供給手段33と、回転筒体の他端側の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第1排水槽T1と、回転筒体の一端側の内部に第1排水槽T1から供給される洗浄水を供給する第2洗浄水供給手段34と、回転筒体3の一端側31の下方に回転筒体3から排出された洗浄水を回収する第2排水槽T2とを配設する。 (もっと読む)


【課題】洗浄装置の熱湯消毒に用いる熱湯供給装置のタンクが少しでも小型化できるように、タンク内の熱湯がタンクの下部に案内された給湯器の湯と混ざりにくくする。
【解決手段】洗浄装置10の熱湯供給装置40は、給湯管42からタンク41内に供給された湯をヒータ44により熱湯に加熱した状態で、給湯管42から供給された湯をガイド43によりタンク41下部に案内し、この案内された湯によりタンク41内の水位を押し上げたときにオーバーフロー管46から溢出する熱湯を貯水部に送出するものであり、タンク41下部の熱湯がガイド43の下端開口43cからタンク41下部に案内された湯によって撹拌されて上昇するのを抑制する撹拌抑制手段として、タンク41の一側側に沿って立設させたガイド43の下部をタンク41の他側側に曲げ、ガイド43の下端開口43cをタンクの他側側に向けた。 (もっと読む)


【課題】フィルタの寿命を延ばすことができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置1は、基板Wに供給される処理液をろ過するフィルタ16を内部で保持するハウジング17と、ハウジング17に保持されている状態のフィルタ16に液滴を衝突させるスプレーノズル23とを含む。フィルタ16に付着している異物は、液滴の衝突によって除去される。 (もっと読む)


【課題】装置の小型化を図ることのできる洗浄装置を得る。
【解決手段】洗浄装置10には、洗浄対象物22を洗浄する洗浄部13と、当該洗浄部13内に液体を導入する導入路17eと、洗浄部13内の液体を洗浄部13から排出する排出路17aと、を少なくとも有する循環路18が形成されている。そして、循環路18の洗浄部13以外の部位に、電圧を印加することで放電を行う電極51a、51bを設けた。 (もっと読む)


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