【課題】１つの層でガス流路が形成された静電チャック及びその製造方法、並びに前記静電チャックを有する基板温調固定装置。
【解決手段】基板載置する基体の内部に電極と環状のガス流路を有する静電チャックの製造方法であって、第１のグリーンシート１０２に隣接する複数の貫通孔１８０と連結部１９０を形成する貫通孔形成工程と、第２のグリーンシート１０１上に第１のグリーンシート１０２を仮接着し、複数の貫通孔１８０の一方の側を塞ぐ仮接着工程と、前記仮接着工程の後に、連結部１９０を除去し複数の貫通孔１８０を一体化して環状の貫通孔１８１を形成する連結部除去工程と、第１のグリーンシート１０２上に第３のグリーンシートを仮接着し、環状の貫通孔１８１の他方の側を塞ぎ、第１のグリーンシート１０２のみに環状のガス流路を形成するガス流路形成工程と、仮接着された各グリーンシートを焼成して前記基体を形成する基体形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】使用できる温度帯を広げることができる基板ホルダーを提供する。
【解決手段】本発明の基板ホルダー１３は、一端部が基板支持面４５に導通する接地軸５３の他端部に接続され、接地軸５３を接地電位に切替えるリレー回路６１と、接地軸５３の一端部のキャップを基板支持面４５に押し付けるように付勢する圧縮コイルばね５９と、接地軸５３の他端部を真空側に配置し、圧縮コイルばね５９の付勢方向に伸縮するベローズ５７と、圧縮コイルばね５９の付勢方向で狭持されるＯリング６３とを備えている。この構成により、接地軸５３が熱膨張しても基板支持面４５との導通を確保できる。 （もっと読む）

【課題】内部の電極と接続部との確実な導通によって高い信頼性を得ることができる静電チャックを提供することを目的とする。
【解決手段】被吸着物を載置する第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、を有するセラミック誘電体基板と、前記セラミック誘電体基板の前記第１主面と前記第２主面とのあいだに介設された電極と、前記セラミック誘電体基板の前記電極よりも前記第２主面側において前記電極と接続され、前記電極と接する第１領域を有する接続部と、を備え、前記第１主面から前記第２主面に向かう方向を第１方向、前記第１方向と直交する方向を第２方向としたとき、前記第１領域は、前記電極及び前記接続部の前記第２方向にみた断面において、前記電極の前記第２主面側の外形に沿った延長線と、前記接続部の外形の接線と、のなす角度のうち前記接続部側の角度が前記第１方向に徐々に大きくなることを特徴とする静電チャックが提供される。 （もっと読む）

【課題】載置面側に設けられた突起部の一部が局所的に損傷することを抑制することができる交流駆動静電チャックを提供することを目的とする。
【解決手段】被吸着物を載置する側の主面に形成された突起部と、前記突起部の周辺に形成された底面部と、を有する誘電体基板と、前記誘電体基板に設けられた電極と、を備え、前記電極は、互いに離間して配設された複数の電極要素を含み、互いに異なる位相の交流電圧が前記複数の電極要素のそれぞれに印加可能とされ、前記突起部は、前記複数の電極要素の形状に応じて所定の間隔で前記主面上に配置されたことを特徴とする交流駆動静電チャックが提供される。 （もっと読む）

【課題】蛍光体を用いた板状試料の温度測定の際に生じる温度測定誤差を小さくすることができ、しかも、発熱体の温度の安定性及び応答性に優れた静電チャック装置を提供する。
【解決手段】一主面を板状試料を載置する載置面１１ａとするとともに静電吸着用内部電極１３を内蔵してなる静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する温度調整用ベース部３とを備え、静電チャック部２の載置面１１ａと反対側の面にヒータエレメント４を設け、このヒータエレメント４の一部に、石英ガラス３１のヒータエレメント４側の面に蛍光体層３２を備えた温度測定子５を設け、静電チャック部２と温度調整用ベース部３とを、絶縁性の有機系接着剤層７を介して接着一体化した。 （もっと読む）

【課題】基板を搬入する動作、基板を保持する動作、及び基板を搬出する動作等の少なくとも一つの動作を高速に実行することが可能でデバイスの生産性の向上に寄与できる保持装置を提供する。
【解決手段】パターンが形成される基板を保持する保持面を有する保持部材と、電圧の印加に応じて、基板を保持面に吸着するための静電力を発生させる複数の第１電極部材と、印加する電圧を調整可能な電源装置と、を備え、パターンの形成動作が進行中の基板上の第１ショット領域に対応する一つの第１電極部材に第１電圧を印加し、パターンの形成動作が終了した基板上の第１ショット領域に対応する一つの第１電極部材に、第１電圧よりも低い電圧を印加し、基板上の第１ショット領域とは異なる領域にパターンの形成動作を進行している間、基板上の第１ショット領域に対応する第１電極部材を第１電圧よりも低い電圧に維持する保持装置。 （もっと読む）

【課題】高温でのウェハプロセスに使用されたときに静電チャック本体とベースとの間の熱膨張差を吸収し、熱応力による静電チャック本体の破損、反り、歪みなどの発生を防止できる構造を提供する。
【解決手段】静電チャック本体１１が、その静電吸着面１２の外側周縁部の固定地点においてベース（水冷プレート２０）に移動不能に固定されると共に、固定地点から離れた可動地点においてベースに対してスライド移動可能に連結されるので、この静電チャック装置１０を高温のウェハプロセスに使用した際の静電チャック本体の熱膨張が吸収され、破損や反り、歪みなどを発生させない。一例として、静電チャック本体に固定される可動ポスト２６がベースの長穴（貫通穴２３）をスライド移動可能に挿通する。静電チャック本体とベースとの間に所定の高さ間隔が保持され、これらの間にリフレクタなどの中間部品を配置可能である。 （もっと読む）

【課題】静電チャックと半導体製造装置において、ウェハの温度を均一にすること。
【解決手段】表面に、ガス孔２０と、該ガス孔２０に連通する溝３０とが形成され、溝３０の開口端の幅Ｗ１が、前記開口端よりも下の前記溝３０の幅ＷＸよりも狭いことを特徴とする静電チャックによる。 （もっと読む）

【課題】基板を安定的にチャッキングできる静電チャックを提供する。
【解決手段】本発明による静電チャックは、静電気力によって基板を固定し、基板が置かれる誘電板と、前記誘電板の内部中央領域に位置し、正電圧と負電圧との中でいずれか１つの電圧が印加される第１電極と、前記誘電板の内部縁領域に位置し、前記第１電極を囲むように配置され、正電圧と負電圧との中で異なる１つの電圧が印加される第２電極と、を含む。前記第２電極の面積は、前記第１電極の面積と異なる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理プロセスの間に加工物上方の電束の均一性を改善する。
【解決手段】誘電材料１０８を有し、かつ／あるいは異なる厚さ、プロファイル、および／または形状を伴う空洞１０６を有する静電チャックアセンブリ１００は、導電支持体１０２と、静電チャックセラミック層１０４とを含む。誘電体層またはインサート１０８は、導電支持体１０２と静電チャックセラミック層１０４の間に配置される。空洞１０６は、静電チャックセラミック層１０４の座面内に配置される。埋め込まれた極パターンが、静電チャックアセンブリ中に任意に組み込まれてよい。 （もっと読む）

【課題】短時間で確実に誘電体層と基板との吸着を解除する。
【解決手段】被処理基板１３を吸着する誘電体層１４ａと、断熱プレート１４ｂとが積層されてなる静電チャック１４であって、断熱プレートの誘電体層側上面１４ｆと側面１４ｇとが帯電電荷逃避用導体膜１４ｃで覆われてなる。真空処理装置１０は、静電チャックが内部に設けられ気密性を有するチャンバ１２と、電気的にフローティング状態とされて導体からなるステージ１５と、を有し、ステージに静電チャックが載置されて、帯電電荷逃避用導体膜の下端がその全周でステージに接続され、
ステージの電気的容量を増大するために、ステージの面積および厚さが静電チャックより大きく設定されている。 （もっと読む）

【課題】載置される板状試料を急速に昇降温させた場合においても、静電チャック部にクラック等が発生する虞が無く、耐久性に優れ、熱容量が小さく、板状試料との熱交換効率、熱応答性に優れ、板状試料の面内温度を所望の温度パターンに維持することが容易で、しかもヒータのパターンが板状試料に反映されることのない静電チャックを提供する。
【解決手段】本発明の静電チャック装置２１は、板状試料Ｗを載置する載置面３１ａを有するとともに静電吸着用内部電極３３を設けてなる静電チャック部２２と、熱媒体を循環させる流路４１を形成してなる温度調整用ベース部２３と、静電チャック部２２と温度調整用ベース部２３との間に配置され厚みが２００μｍ以下の非磁性金属からなる薄板状のヒータエレメント２５と、静電チャック部２２と温度調整用ベース部２３とを接着一体化すると共にヒータエレメント２５を挟持してなる２層構造の有機系接着剤層２４ａ、２４ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】シリコンウェハ等の板状試料にプラズマを照射した際や、ヒータを加熱した際等において急速に温度が昇降した場合においても、破損や破壊を防止することができ、しかも、腐食性ガスやプラズマによる腐食を防止することができる静電チャック装置を提供する。
【解決手段】一主面を板状試料Ｗを載置する載置面とした耐食性セラミックスからなる載置板１１と、この載置板１１と一体化されて載置板１１を支持し熱伝導率が耐食性セラミックスより大である絶縁性セラミックスからなる支持板１２と、これら載置板１１と支持板１２との間に設けられた静電吸着用内部電極１３とを備えた静電チャック部２と、この静電チャック部２を所望の温度に調整する温度調整用ベース部３とを備えている。 （もっと読む）

【課題】反りのある試料に対しても正常な保持動作を行う荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】前記課題を解決するために、本発明の荷電粒子線装置１は、試料ステージ２１に保持された試料１０１に電子線１２を照射し、試料１０１の画像を生成する荷電粒子線装置１であって、試料１０１の反り量を計測する反り量計測部３５と、試料１０１を吸着する複数の吸着部２２１を有する静電チャックと、複数の吸着部２２１のそれぞれの下部に設けられた昇降可能な昇降部２２２と、反り量計測部３５が計測した試料１０１の反り量に合わせて昇降部２２２を昇降させる昇降制御部６３３と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】液体窒素のような冷却媒体によって冷却される静電チャック装置に用いられる接着剤層からのガス放出を防止できる接着剤層の乾燥方法を提供することである。
【解決手段】冷却媒体によって冷却される静電チャック装置に用いられる接着剤層を乾燥する方法であって、１２０℃〜１４０℃の間の温度で、不活性雰囲気中で、前記接着剤層からの所定の質量数（１５、９０、１２１、及び１６３）のガスの放出がなくなるまでベークする乾燥方法が得られる。即ち、２時間〜８．５時間の間、ベーク乾燥することによって、所定質量数のガス放出を無くすことができる。 （もっと読む）

【課題】状況に応じた印加電圧とすることで装置の信頼性を向上させる荷電粒子線装置を提供する。
【解決手段】前記課題を解決するために、本発明の荷電粒子線装置１は、試料ステージ２５に静電チャック３０によって保持された試料２４に電子線１６を照射し、試料２４の画像を生成する荷電粒子線装置１であって、試料２４を保持する際に、静電チャック３０のチャック電極２６に予め設定した初期電圧を印加するとともに、試料２４が静電チャック３０に正常に吸着したか否かを判定し、試料２４が静電チャック３０に正常に吸着していないと判定した場合は、試料２４が静電チャック３０に正常に吸着したと判定するまで、チャック電極２６に印加する電圧を上昇させる静電チャック制御部１３を備える。 （もっと読む）

【課題】吸着対象物を安定して吸着保持でき、かつ、放電が発生し難い基板温調固定装置を提供すること。
【解決手段】本基板温調固定装置は、基体に内蔵された電極に電圧を印加して吸着対象物を前記基体上に吸着保持する静電チャックと、接着層を介して前記静電チャックを固定するベースプレートと、前記電極と電気的に接続された給電部と、前記給電部を保持する保持部と、を有する基板温調固定装置であって、前記保持部は、保持部本体と、封止部と、を有し、前記保持部本体は、前記ベースプレートに固定され、前記接着層の反対側に開口する凹部と、前記凹部内から前記接着層側に貫通する貫通孔と、を備え、前記給電部は、電極ピンと、電線と、を有し、前記電極ピンは、前記凹部内に固定され、前記電線は、前記接着層内、前記貫通孔内、及び前記凹部内に配線されて、前記電極と前記電極ピンとを電気的に接続し、前記封止部は、少なくとも前記凹部に充填されている。 （もっと読む）

【課題】クーロンタイプのみならずＪ−Ｒタイプの静電チャックにおいても、吸着力を殆ど低下させることなく、誘電層の脱粒を防止する。
【解決手段】ウエハＷを吸着保持する静電チャック２２において、ウエハＷを吸着するための吸着面３２ｓが形成された絶縁体３２と、絶縁体３２の吸着面３２ｓに形成され、絶縁体３２よりも体積抵抗率の小さい脱粒防止層３６と、脱粒防止層３６の表面に形成され、脱粒防止層３６よりも抵抗の大きい接触抵抗調整層３８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】静電チャック、特に、基板に蓄積された電荷を放電するための放電要素を使用するチャックを提供する。
【解決手段】静電チャックは、少なくとも１つの電極を取り囲む絶縁基板と、ウェーハに接触するように配置された上側部分を有する複数の突起と、少なくとも１つの電極と複数の突起の上側部分との間に位置決めされた少なくとも１つの放電要素とを含み、この放電要素は、放電回路に結合された状態で絶縁基板に蓄積された電荷を放電するように配置される。 （もっと読む）