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Fターム[3C034AA13]の内容

研削盤の構成部分、駆動、検出、制御 (11,657) | 用途 (2,428) | 特殊物品の研削 (544)

Fターム[3C034AA13]に分類される特許

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【課題】研磨対象膜の下層の金属材料の影響を排除し、渦電流センサを用いて、基板表面内の各領域での膜厚情報を取得することができ、得られた膜厚情報から基板の研磨終点を決定する方法を提供する。
【解決手段】本方法は、基板の研磨中に渦電流センサを基板の表面を横切るように移動させ、渦電流センサのインピーダンスの抵抗成分Xおよび誘導リアクタンス成分Yからなる座標X,YをX−Y座標系上にプロットし、X−Y座標系上に定義された複数のインピーダンスエリアにそれぞれ属する複数の座標X,Yを用いて、複数のインピーダンスエリアごとに複数の膜厚指標値を算出し、複数の膜厚指標値を用いて複数のインピーダンスエリアごとに基板の研磨終点を決定する。 (もっと読む)


【課題】高速回転する切削ブレードの振動を避けるための回転バランス調整用フランジ機構について、印をマジックなどでつける場合において生じる不具合を解消し、バランス調整の手間を簡略化するための回転バランス調整用フランジ機構を提供する。
【解決手段】固定ナットは、切削ブレードを固定フランジと協働して挟持した際、前端面となる表面からバランス取り用錘を挿入できる錘収容部を周方向に所定の間隔を置いて複数備え、表面の錘収容部の近傍には、各錘収容部の位置を示す表示部を備える。 (もっと読む)


【目的】、過研磨を防止することが可能な研磨装置を提供する。
【構成】実施形態の研磨装置(100)は、ステージ(101)と研磨部(102,104)と検出部(110)とロック機構(120)とを備えた。ステージ(101)は、半導体基板を載置する。研磨部(102,104)は前記半導体基板の上方から前記半導体基板の周縁部を研磨する。検出部(110)は前記半導体基板の基準高さ位置を検出する。ロック機構(120)は、前記研磨部(102,104)が前記基準高さ位置から所定の距離だけ前記半導体基板面側へ移動した場合に、研磨部(102,104)の半導体基板面側への更なる移動が停止されるように、前記研磨部(102,104)の移動を拘束する。 (もっと読む)


【課題】キャリアの厚さの経時変化に影響されず、ウェーハの平坦度を安定的に改善できる両面研磨方法を提供することを目的とする。
【解決手段】キャリアに保持されるウェーハを研磨布が貼付された上下の定盤で挟み込み、キャリアを自転及び公転させ、研磨剤を供給しながらウェーハの両面を同時に研磨するウェーハの両面研磨において、高研磨レートで研磨する第1の研磨工程と、次に低研磨レートで研磨する第2の研磨工程とを有する両面研磨方法であって、研磨後にウェーハの平坦度を測定する工程と、平坦度の測定結果に基づいて次回研磨時の第2の研磨工程の研磨条件を設定する工程とを含むことを特徴とする両面研磨方法。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成によって板状物を所望の厚みに調整することができ、さらに生産性を向上させると共にコストを低減すること。
【解決手段】本発明の板状物の研削方法は、外部刺激によって硬化する液状部材によって、貼着テープ(92)上に複数の板状物(W)の仕上げ厚みよりも厚くリング部材(93)を形成するステップと、チャックテーブル(31)の回転中心にリング部材(93)の中心を位置付けるように、チャックテーブル(31)上に複数の板状物(W)を保持するステップと、ハイトゲージ(51)によってリング部材(93)の厚みを測定しながら、研削ユニット(4)によってリング部材(93)及び複数の板状物(W)を仕上げ厚みまで研削するステップとを有する構成とした。 (もっと読む)


【課題】環状フレームや装置が損傷しにくい研削装置を提供する。
【解決手段】制御部27は、固定部21に固定された環状フレーム12の上面12aの高さ位置を検出部26に検出させ、検出された環状フレーム12の上面12aの高さ位置が吸着部23の上面23aの高さ位置よりも低い場合に駆動部25を駆動させる。 (もっと読む)


【課題】超音波振動を伴って研削を行う研削ホイールをホイールマウントに装着する場合に高精度な電極位置精度を不要とすると共に、超音波振動加工時のノード領域の変化によっても電極接触不良を発生させず、かつ、研削ホイールを容易に着脱可能な研削装置を提供すること。
【解決手段】研削装置(1)は、ホイールマウント(31)に磁力を持つ固定電極(62)を配設すると共に、ホイールベース(413)の収容部(413a)内に磁力により引き付けられる材質で形成された可動電極713を含む可動電極部(71)を配設し、可動電極部(71)を収容部(413a)に進退可能に収容する。ホイールベース(413)にホイールマウント(31)に装着されると、固定電極(62)の磁力により可動電極部(71)が固定電極(62)に接触し環状超音波振動子(415)に通電されると共に、可動電極部(71)がホイールベース(413)に非接触とされる。 (もっと読む)


【課題】化学的機械研磨に際して研磨パッド表面の温度を速やかに且つ省エネルギー効率をもって昇温して適温に維持することができる、新規な構造の研磨パッド用補助板と研磨装置を提供すること。
【解決手段】研磨パッド16を重ね合わせて固着状態で支持するパッド支持面を表面40に有していると共に、裏面42において回転定盤14に重ね合わされて着脱可能に装着される装着面を有している研磨パッド用補助板10において、通電により補助板本体38(パッド支持面40)を昇温して適温に維持する通電式温度制御手段50を設けた。 (もっと読む)


【課題】研磨布のドレッシング状態の変化によって生じる研磨速度の変化による研磨代のばらつきを抑制し、仕上がり厚さを高精度に制御できるシリコンウェーハの研磨方法及び研磨装置を提供する。
【解決手段】所定の研磨代となるように研磨時間を設定し、タンク内に貯蔵された研磨剤を研磨布に供給しながらシリコンウェーハを研磨布に摺接させて設定した研磨時間で研磨し、供給した研磨剤を前記タンク内に回収して循環させながらシリコンウェーハの研磨をバッチ式に繰り返すシリコンウェーハの研磨方法において、研磨布をドレッシングした後のバッチ回数の増加に伴って変化する研磨速度を予めデータベースに記録しておく工程と、所定の研磨代となるように研磨時間を設定する際に、データベースに記録された研磨布をドレッシングした後のバッチ回数の増加に伴って変化する研磨速度に基づいて研磨時間を設定する工程とを有するシリコンウェーハの研磨方法。 (もっと読む)


【課題】温度ドリフト等のノイズによる影響を受けにくく、高精度な距離測定又は変位量測定を行うことができる距離測定装置を実現する。
【解決手段】光源10から透明体12を介してワーク表面に向けて測定ビームを投射すると、透明体12の第1の面12aを透過して第2の面12bで反射し、第1の面12aから出射する第1の反射ビーム13aと、透明体12の第1の面12a及び第2の面12bを透過し、ワーク表面で反射し、再び透明体12の第2の面12bを透過して第1の面12aから出射する第2の反射ビーム13bとが光検出手段15に入射する。信号処理装置16は、第1の反射ビーム13aを受光した受光素子と第2の反射ビーム13bを受光した受光素子との間の距離情報に基づいて透明体12の第2の面12bからワーク表面までの距離又は変位量を出力する。 (もっと読む)


【課題】微細気泡を含有する液剤を被加工物の表面の加工に有効に利用することのできる加工ヘッドを提供することである。
【解決手段】回転する工作具10を被加工物Wの表面に接触させて当該被加工物Wの表面を加工する加工ヘッド100であって、前記工作具10の内部に設けられ、供給される液体を導いて被加工物Wの工作具10が接触する部位の近傍に向けて吐出する少なくとも1つの流路25を備え、前記流路25には絞り部255a〜255hが形成された構成となる。 (もっと読む)


【課題】高硬歯車の面粗さの改善などを目的として加工圧を調節することができる歯面加工装置及び歯車製造方法を提供する。
【解決手段】歯面処置装置10は、はす歯状砥石2と、はす歯状砥石2の回転軸Cと被加工歯車Wの回転軸Xとの相対位置を移動できる位置調節手段3と、はす歯状砥石2の回転軸Cと被加工歯車Wの回転軸Xとの相対位置を調節して、被加工歯車Wの1つの歯を形成する歯面のうち一方の被加工歯面11のみ、はす歯状砥石2の砥石歯面21に当接させてはす歯状砥石2及び被加工歯車Wを噛み合わせるように位置調節手段3を作動させる相対位置制御部71と、砥石回転手段4を作動させる砥石回転手段制御部72と、回転トルクを所定範囲に調節するように回転トルク制御手段5を作動させるトルク制御手段制御部73と、をもつ制御手段7とを有する。 (もっと読む)


【課題】二つの物体を近づける場合に、両者間の隙間を維持したままできるだけ両者を近づけるとともに、両者が近づいたことを検出することを可能とするための、移動体の接触検知方法を提供する。
【解決手段】少なくとも一方が移動体として移動する二つの物体同士が、所定の距離まで近づいたかを検知するための移動体の接触検知方法であって、少なくとも二つの物体の間に設けたい所定の距離よりも厚い可撓性を有するベース部と、ベース部の少なくとも一部の表層部に形成される可撓性を有する光反射部と、を有する接触センサーを用いる。 (もっと読む)


【課題】研磨装置の稼働率を低下させることなく渦電流センサの較正を行うことができ、精度の高い膜厚監視を可能とする研磨監視方法および研磨装置を提供する。
【解決手段】回転する研磨テーブル1上の研磨面2aに研磨対象の基板Wを押圧して基板W上の導電膜mfを研磨し、研磨中に研磨テーブル1に設置された渦電流センサ50により導電膜mfの厚さを監視する研磨監視方法であって、研磨中の渦電流センサ50の出力信号を取得し、渦電流センサ50の上方に基板Wが存在しない時の出力信号を用いて渦電流センサ50の出力調整量を算出し、出力調整量を用いて渦電流センサ50の上方に基板Wが存在する時の出力信号を補正して基板W上の導電膜mfの厚さを監視する。 (もっと読む)


【課題】マルチブレードを備える切削装置において、装置構成を複雑とすることなく、短時間でマルチブレードのZ軸方向の位置決めを可能とするために、マルチブレードを構成する各切削ブレードの外径サイズを容易に検出する技術を提供する。
【解決手段】外径サイズ検出用被加工物の上方から切削手段を下降させて所定高さに位置付けることで外径サイズ検出用被加工物に複数の切削ブレードを切り込ませ、外径サイズ検出用被加工物に複数の切削痕を形成する切削痕形成ステップと、複数の切削痕を撮像して各切削痕の長さを検出する長さ検出ステップと、長さ検出ステップで検出した各切削痕の長さとスピンドルの軸心高さ位置から外径サイズ検出用被加工物の上面高さ位置までの距離とから各切削ブレードの外径サイズをそれぞれ算出する外径サイズ算出ステップと、を備えた切削ブレードの外径サイズ検出方法とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、インサートのホルダーへの実装を想定した形態でインサートに外周面研削加工を施すことで、インサートのホルダーへの実装時の刃先位置のバラツキを減らすことである。
【解決手段】平板状のインサートの貫通穴の内面には、第1の加工用治具の基準面が接触する凸形状面が形成され、第1の加工用治具と、駆動装置と連結された回転軸を持つ第2の加工用治具とによって挟み込むように固定され、研削加工用工具との位置関係が決められた状態でインサートの外周面を研削することを特徴とするインサートの外周面研削方法である。 (もっと読む)


【課題】研磨ヘッドの高さ方向の位置を安定して高精度に調整可能な研磨ヘッドの高さ方向の位置の調整方法を提供し、研磨するワークの平坦度を向上し、ワーク間の平坦度のばらつきを抑制することを目的とする。
【解決手段】ワークが保持されていない研磨ヘッドを研磨布と接触しない高さ方向の位置に位置決めした後、研磨ヘッドと定盤の少なくとも一方を回転させる工程と、高さ調整機構によって研磨ヘッドを研磨布に接触させるまで近づけながら、回転させた研磨ヘッドと定盤の少なくとも一方の負荷トルク電流をトルク測定機構によって測定し、該測定した負荷トルク電流の変化量が所定の閾値を超えた時点の研磨ヘッドの高さ方向の位置を基準位置として設定する工程と、設定した基準位置からの距離に基づいて、研磨ヘッドの高さ方向の位置を所定位置に調整する工程とを有する研磨ヘッドの高さ方向の位置の調整方法。 (もっと読む)


【課題】研削対象側の回転軸と砥石側の回転軸との軸ズレを抑制し、高精度な球面形状を得ることのできる研削加工装置を提供し、研削対象に球状面の研削を行う研削加工方法を提供すること。
【解決手段】軸ズレ調整部60が、研削対象10及び砥石部材20が支持された状態でズレ度合測定部50によって測定された軸ズレに応じた各回転軸RA1,RA2の位置の調整を可能にしている。これにより、研削加工時における回転軸の軸ズレを抑制することができるので、作業性を損なうことなく高精度な球状面を再現性良く得ることができる。 (もっと読む)


【課題】カップ砥石の摩耗やワークの形状を簡易に監視しつつ加工を行うことができる研削加工装置及び方法を提供すること。
【解決手段】砥石部材20に付随して設けられた付随センサ51が研削対象10の形状に関する情報を測定するので、研削対象10を第1ホルダ37から外さずに測定することができ、加工の途中段階で研削対象10の加工状態を確認することができる。これにより、第2ホルダ37等が変位しても、研削対象10の形状のズレ又はこれに相当する砥石部材20の摩耗を監視しつつ研削対象10の加工を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】球体の加工品質を向上させるとともに、研磨加工効率を高めることができる球体研磨装置を提供する。
【解決手段】軸方向に圧力を加えながら回転盤体3を固定盤体2に対して回転させることにより球体を研磨加工する球体研磨装置1において、加工中の球体5の直径を測定する球径測定器6と、球径測定器6の測定値により球体5を研磨する研磨加工能率を制御するPLC7と、を備え、球径測定器6は、被測定球体5の姿勢を変更する姿勢変更機構64を有し、PLC7は、加工完了寸法を設定する設定手段71と、測定値Dmより平均直径を算出する加工能率演算部72と、設定手段71により設定された設定値及び平均直径に応じて加工能率の目標値を設定する加工能率演算部72と、測定値Dmと加工完了寸法とを比較して加工を停止させる加工能率演算部72と、を有する。 (もっと読む)


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