【課題】研磨粒子の凝集を抑制し、被研磨物の平坦性を向上させることができる研磨パッドを提供する。
【解決手段】研磨パッド１はポリウレタン樹脂で形成されたフィルムを有している。フィルムは、乾式成形により製造されており、イソシアネート基含有化合物と、硬化剤のポリアミン化合物と、発泡因子として熱膨張性を有する微粒子とを混合した混合液を型枠に注型し、加圧しながら硬化させた発泡体をスライスして製造される。フィルムの内部には、微粒子が硬化反応熱などにより膨張して生じた多数の発泡が形成されている。発泡は、硬化時の加圧処理により、いずれも同じ方向に楕円体状を呈している。発泡体がスライスされたフィルムの研磨面には多数の開孔４が形成されている。開孔４は、同じ方向に楕円状に形成されている。開孔４でのスラリの滞留が抑制される。 （もっと読む）

【課題】 スライス可能な軟質ポリウレタン研磨部材用ブロックから粗仕上げ用の大面積で厚さ精度に優れた硬質ポリウレタン研磨パッドを製造する方法を提供する。
【解決手段】 ２５℃でのＪＩＳ−Ａ硬度が９０以下である軟質ポリウレタン研磨部材用ブロックをスライス加工したのち、含浸時の粘度で２００ｍＰａ・ｓ以下の有機ポリイソシアネートを含浸させ、その後、キュアすることにより高硬度化することにより解決する。 （もっと読む）

【課題】電解液やメッキ液が均一に分散されて均一な研磨面あるいはメッキ面が得られるようにする。
【解決手段】被研磨物や被メッキ物に圧接されて相対的に摺動されるパッドにおいて、被研磨物や被メッキ物に圧接される研磨層３を、超極細繊維で構成するとともに、下地層４に貫通孔４を形成し、貫通孔４を介して供給される電解液やメッキ液が、超極細繊維からなる研磨層３で均一に分散され、電流密度が均等になるようにしている。 （もっと読む）

【課題】各隣接する被加工軸間の軸方向間隔が僅かに異なるクランクシャフトのような異種の第１の被加工物加工用のア−ムユニット20間の軸方向間隔を、第２の被加工物加工用のア−ムユニット20間の軸方向間隔に、一斉にア−ムユニット20間の軸方向間隔に変更できるテープラップ装置を提供。
【解決手段】ア−ムユニット20は複数個並列して機械本体10に配置され、被加工物 4の軸方向に移動可能に支持されている。さらに隣接するア−ムユニット 20A〜20J 間に被加工軸 4間の軸方向間隔を規制する回転ストッパ 41A〜41I が配置され、回転ストッパ 41A〜41I は周方向回転位置で被加工軸間の軸方向間隔ピッチが異なるようにされ、第１の被加工軸間の軸方向間隔ピッチのワークをテープラップ加工したあと、該回転ストッパを回転させ第２ののワークの被加工軸間の軸方向間隔ピッチに一度に変更できるようにした。 （もっと読む）

【課題】研磨時における穴のスラリー保持性を向上させ、スラリーの消費量を低減してウェハの製造コストを低減する。
【解決手段】研磨パッド１００におけるウェハの被研磨面を研磨するための研磨面１０２に、所定方向へ長尺な穴１０４を形成することにより、ウェハ研磨時に穴１０４に流入したスラリーに遠心力、パッドの回転による力等が作用した場合に、スラリーの保持性が向上するので、ウェハの単位枚数あたりのスラリー消費量を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、研磨工具の内部まで充分な量の加工液を短時間で含浸させることによって、早期に研磨能率が安定して高い除去深さ精度を得ることができ、かつ高い鏡面性が得られる研磨工具を工夫することである。
【解決手段】
多孔質の研磨工具に減圧又は加圧による外力、あるいは減圧と加圧とを組み合わせた外力を作用させることで、充分な量の加工液を短時間で研磨工具の内部まで含浸させることである。また、研磨工具の回転軸を中空軸とし、これを利用することによって、加工液を速やかに研磨工具内部まで含浸させることができる。 （もっと読む）

【課題】 従来の研磨パッドより平坦化特性に優れ、かつハロゲンを含有しない研磨パッド及びその製造方法を提供することを目的とする。また、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 ポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドにおいて、前記ポリウレタン樹脂発泡体は、イソシアネート成分及び高分子量ポリオールを含有してなるイソシアネート末端プレポリマーと、ヒドロキノン、レゾルシン、ｐ−キシリレングリコール、及びビスフェノールＡからなる群より選択される少なくとも1種の芳香族ジオールのエチレンオキサイド付加体及び／又はプロピレンオキサイド付加体を含有する鎖延長剤との反応硬化物であることを特徴とする研磨パッド。 （もっと読む）

【課題】ワーク加工面の形状に応じて、高精度に研磨仕上げすることが可能な研磨装置を提供する。
【解決手段】圧力容器１内を常圧より加圧して、加圧雰囲気下で研磨液３に浸漬されたワーク加工面に砥粒Ｐを強固に着床させたまま加工具９を押し当て、該加工具９とワーク支持部６を相対的に移動させてワーク加工面を研磨する。 （もっと読む）

【課題】 研磨対象物に対して十分かつ効率良く研磨を行うことができる研磨用バフ材の製造方法を提供する。
【解決手段】 ポリオール類、ポリイソシアネート類、発泡剤、触媒及びポリエチレングリコール又はその誘導体を含むポリウレタン発泡体の原料を反応させ、発泡及び硬化させてポリウレタン発泡体を製造する。得られたポリウレタン発泡体を加熱プレスし、そのプレス面に皮膜１４を形成することにより研磨用バフ材１９が得られる。前記ポリエチレングリコール又はその誘導体の配合量は、ポリオール類１００質量部当たり０．５〜１０質量部であることが好ましい。また、加熱プレスによる圧縮倍率が５〜１０倍であることが好ましい。ポリウレタン発泡体は、ＪＩＳ Ｋ６４００に規定されているセル数が好ましくは４０〜１００個／２５ｍｍである。 （もっと読む）

【課題】 工程数を増やすことなく厚みばらつきを低減することができる研磨パッドの製造方法、および厚みばらつきが低減され、研磨特性を向上した研磨パッドを提供する。
【解決手段】 スライス加工する前の状態である樹脂ブロック１を、高い剛性（曲げ強度）を持つベース２上に固定しておき、樹脂ブロック１の表層部分、すなわちこれからスライスしようとする部分を加熱手段３によって加熱する。このような状態で、スライス刃４と樹脂ブロックとを高さ方向に位置合わせし、スライス刃４と樹脂ブロック１とを相対移動させることでスライス加工を行う。これにより、厚みのばらつきが研磨パッド全体にわたって±１５μｍと小さく、微細孔が表面部分に一様に分布し、微細孔の最短径に対する最長径の比が１．０以上１．２以下の研磨パッドが得られる。 （もっと読む）

【課題】コストが低く、安全性がさらに高いとともに、研削精度の高い円盤刃研削装置を提供する。
【解決手段】円盤刃研削装置１０を、円盤刃１２を軸心部で固定させる円盤刃固定台１４と、この円盤刃固定台１４に固定させられた円盤刃１２を所定角度ずつ一方向に回転させる所定角度回転手段１６と、回転駆動させられる研削砥石１８を有する研削装置２０と、所定角度回転手段１６による所定角度の回転に連動させられて、研削装置２０と円盤刃１２とを互いに離隔又は接近させるリンク機構２２とを備えて構成した。また、円盤刃研削装置１０のリンク機構２２を、研削装置２０が固定された移動台２４と、基盤２６及び移動台２４をリンクするリンク棒２８と、移動台２４及びレバー３１をリンクするリンク棒３０とを備えて構成した。 （もっと読む）

本発明は、一実施形態において、化学的機械的研磨用の研磨パッド（１００）を提供する。研磨パッドは、研磨本体（１１０）を備えている。研磨本体は、凹面セル（１２５）を備えた表面（１２０）を有する熱可塑性発泡体基板（１１５）を備えている。研磨剤（１３０）は、凹面セルの内部表面（１３５）を被覆する。研磨剤は、炭化物または窒化物を含有する無機金属酸化物を含む。本発明の別の実施形態は、研磨パッド（２００）を製造するための方法である。

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