金属製基板上にフォトレジスト層を塗着して加熱し、マスクを通してその層をＵＶ照射に曝し、光硬化しなかった部分を溶解させることによって現像を行ってモールドを得、モールドの開口部分内に金属又は合金の第１の層を電着させ、機械加工によって金属構造及びモールドの平面出しを行って平坦な上側表面を得、上側表面全体に下地金属層を堆積させた後、ここまでのステップを繰り返す。モールドの開口部分内に金属又は合金の第２の層を電着させ、得られた多層金属構造及び硬化フォトレジストを層間剥離によって基板からはがし、フォトレジストを分離して多層金属構造を切り離し、下地金属層の、電着金属の２つの層の間に挟まれていない部分を除去する。
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本発明は、少なくとも１個のモード形状を有するＭＥＭＳ共振器に関し、表面（１２）および共振器構造（１）を有する基板（２）を備え、共振器構造（１）は基板（２）の一部であり、共振器構造（１）は第１クローズドトレンチ（３）および第２クローズドトレンチ（３）によって画定することを特徴とする。第１クローズドトレンチ（３）は第２クローズドトレンチ（３）の内側に位置し、基板（２）内にチューブ状構造（１）を形成し、また共振器構造（１）を表面（１２）から表面に平行な方向にのみ離れるようにする。本発明は、さらに、ＭＥＭＳ共振器の製造方法に関する。
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プレコート法を用いて触媒が装填された通路を有するマイクロ構造化反応器を製造するために、次の方法工程で構成される方法がもたらされた、即ち、ａ）結合領域及び、通路が形成された通路領域を有した反応体層を作ること、ｂ）結合領域において、少なくとも一つの結合層を反応体層上に着けること、ｃ）反応体層に通路領域において触媒を装填すること、及びｄ）反応体層を結合することであるが、反応体層に触媒が装填される前に結合層が着けられ、且つ遮蔽される。その結果、製造中に触媒の有効性が影響されないことを保証する。反応器は特にメタン及びメタノールリフォーマとして用いられ得る。
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絶縁延長を備えた絶縁体によって隔てられた２つの電極を有する（ｃＭＵＴなどの）微小電気機械変換器が開示される。２つの電極は、その間に変換用ギャップを画定する。絶縁体は、２つの電極間に配置された絶縁性の支持体と、変換用ギャップの増大を必要とすることなく有効な絶縁を高めるために２つの電極の少なくとも１つの中に延在する絶縁延長とを有する。また、微小電気機械変換器を製造するための方法も開示される。この方法は、従来の膜ベースのｃＭＵＴ、および剛性のある上部プレートを輸送する組込み型スプリングを有するｃＭＵＴにおいて使用することができる。
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本発明は、流体注入用の開口部（４０）を備えた第一基板（４２）と、多数の電極を備えた第二基板（４６）とを含む液体分配装置に関する。多数の電極は、前記開口部（４０）に少なくとも部分的に対向して配置された移送用電極と称される少なくとも一つの電極（４４）と、少なくとも二つの小滴形成用電極（５０、５２）と、前記移送用電極（４４）及び前記小滴形成用電極（５０、５２）に対応していて、前記小滴形成用電極のそれぞれの面積の少なくとも三倍に等しい面積を有する、リザーバ電極と称される少なくとも一つの電極（４８）とを含む。
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第１基板上に複数の環状電極が直列連結されるコイル部が形成され、第１基板と一定距離で平行に対向する第２基板上に環状電極と一対一対応する磁歪物質薄膜が形成され、コイル部と磁歪物質薄膜とがインダクターを構成し、外部の圧力によって磁歪物質薄膜の透磁率変化を誘導させてコイル部のインダクタンスを変化させるインダクターアレイ部と、インダクターアレイ部とＬＣ共振回路とを構成し、インダクターアレイ部で放電される磁気的エネルギーを電圧形態に変換させて保存するキャパシタと、を備える磁歪効果を利用した可変インダクター型のＭＥＭＳ圧力センサーである。これにより、本発明は、既存の圧抵抗型または静電容量型センサーに比べてさらに敏感であるので、解像度が優秀であり、半導体工程と互換可能なＭＥＭＳ工程技術を利用して製作されるので、小型化及び大量一括工程が可能であるので、生産コストが減らせる。 （もっと読む）

離間した突き当て型コンポーネント構造体であって、このものは、第１のプレートと、第１の間隙によって第１のプレートから離間させられた第２のプレートと、これらプレート同士を相互接続すると共に第１の間隙を形成している複数のハンダバンプとを具備してなり、上記プレートの少なくとも一方は、上記第１の間隙とは異なるサイズを有する第２の間隙を形成するために、隆起したプラットホームおよび凹部のうちの一方を含む特異セクションを有している。
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本発明は、表面層（２）、少なくとも一つの埋め込み層（４）、及び支持体から構成される半導体構造体の形成方法に関する。本方法は、第一の支持体上に第一の材料からなる第一の層（４４）を形成し、更に第一の層の内部に、第一の材料よりエッチング速度の大きい第二の材料からなる少なくとも一つの領域（２６、２８）を形成する第一のステップと、第二の支持体の上に構造体を組み立てることにより表面層（２）を形成し、二つの支持体の少なくとも一方を薄膜化する第二のステップとを含む。
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マイクロリアクタ内のミキサのための一群の設計であって、その設計の原理が、少なくとも２つの流体が、最初に上流で接触する連続流路内の少なくとも１つの注入区域（４１０）および流路内に一連のミキサ要素（４３０）を収容する効果的な混合区域（すなわち、適切な流体の流動および最適な圧力降下）を含む設計が提供される。各ミキサ要素に、障害物（４５０）が配置されている（それによって、チャンバの典型的な内寸が減少している）各端部にあるチャンバおよびチャンネル区域内の随意的な制限要素（４６０）が設計されることが好ましい。これらの障害物は、円柱体であることが好ましいが、ある寸法範囲内で任意の形状を有していて差し支えなく、所望の流量、混合および圧力降下を提供するために、流路に沿って並列または直列になっていてもよい。注入区域は、二つ以上の界面を有していてもよく、また混合前に流体を調節するための１つ以上のコアを含んでいてもよい。
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マトリックスでの反応を実施するためのＭ×Ｎのマトリックスの微小流体デバイスが開示される。このデバイス（１００）は、そのデバイスのエラストマーブロック内に形成されたビアを通してサンプル注入口（１２０）または試薬注入口（１２４）のいずれか１つと連通している複数の反応セル（１０６）を有する。提供される方法には、微小流体デバイスのエラストマー層に平行にビアを形成する方法が包含される。この方法は、パターンの付いたフォトレジストマスクを使用する工程およびエラストマーブロックのエラストマー層の領域または一部をエッチングする工程を包含する。
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