【課題】像の映り込みや視認性の低下を改善し、高い強度の変換光が得られる優れた表示特性を有する色変換方式の有機ＥＬ素子、およびその簡便な製造方法の提供。
【解決手段】透明基板上に、透明電極と、有機ＥＬ層と、反射電極とを順次有する有機ＥＬ素子であって、有機ＥＬ層は、発光層と、キャリア移動性色変換層と、反射電極との界面をなす表面層とを少なくとも含み、透明電極と有機ＥＬ層との界面は平坦であり、かつ反射電極と表面層との界面は凹凸であることを特徴とする有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】輝度が高く、発光効率が高い有機ＥＬ装置を提供する。
【解決手段】透明絶縁基板上に透明電極から成る陽極、少なくとも有機発光層を含む有機層、陰極を順次に積層し、該陰極が前記有機層との界面に金属酸化物を含有する有機ＥＬ装置であって、前記有機発光層が燐光発光性化合物を含有しており、前記金属酸化物が前記有機層との界面側で高濃度となる濃度勾配を有するように形成されている
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。 （もっと読む）

【課題】表示画素の画素形成領域の略全域に膜厚が均一な発光機能層（有機ＥＬ層）を形成することができる表示装置の製造装置、及び、当該製造装置を用いた表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】第１のタイミングでプリンタヘッド１１のインク吐出部ＩＮＪによりパネル基板ＰＳＢ上の画素形成領域に水系インク又は有機溶剤系インクを塗布し、第２のタイミングでインク吐出部ＩＮＪに隣接して設けられた赤外光源部ＩＲＳＡ又はＩＲＳＢにより上記画素形成領域に塗布された水系インク又は有機溶剤系インクに対して赤外光を照射して加熱し、当該水系インク又は有機溶剤系インクの溶媒を蒸発、乾燥させて正孔輸送材料又は電子輸送材料をパネル基板ＰＳＢ上に定着させる。 （もっと読む）

【課題】像の映り込みや視認性の低下が改善された優れた表示特性を有する色変換方式の有機ＥＬ素子の簡便な製造方法の提供。
【解決手段】透明基板上に透明電極を形成する工程と；透明電極の上に、発光層と、反射電極との界面をなす表面層とを少なくとも含み、表面層の上面が凹凸である有機ＥＬ層を形成する工程と；有機ＥＬ層の上に反射電極を形成する工程とを有し、有機ＥＬ層の表面層の形成において、凝集性材料を堆積させることによって表面層に凹凸を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機発光層に水分が浸透することを防止して、画素の発光特性や寿命などを損なうことがない有機ＥＬ表示パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】マスク材３１を用いて陰極電極の形成材料３３を蒸着によって拡散させ、有機発光層７を覆う陰極電極８を形成する。この蒸着法による陰極電極８の形成では、陰極電極の形成材料３３の拡散による広がり角に対応して、隔壁９，９・・・が傾斜して形成されているため、陰極電極の形成材料３３が中心から広がるように角度をもって拡散していくような蒸着特有の積層形態であっても、陰極電極８を隔壁９，９・・・の根元まで隙間無く形成することが可能になる。。 （もっと読む）

【課題】表示装置の製造方法において、大判の基板に施される工程で生じる静電破壊を極力抑止する。
【解決手段】大判の基板１０上のパネル領域１０Ｐの外側に、ＭＯＳ形成用半導体層２１、第１の絶縁膜１３、ＭＯＳ形成用金属層２２からなるＭＯＳ構造である静電破壊誘発部２０が形成される。基板１０の搬送時やハンドリング時に静電気が生じた場合、静電破壊誘発部２０において、基板１０上の他の部位に比して高い頻度で静電破壊が起こされる。これは、上記ＭＯＳ構造が、上記静電気による静電破壊に対して弱い構造を有しているためである。このパネル領域１０Ｐの外側における静電破壊により、基板１０の静電気の電荷は減少する。そのため、大判の基板１０に施される工程において、パネル領域１０Ｐの内側の表示画素及び駆動回路に静電破壊が及ぶことを極力抑止できる。 （もっと読む）

【課題】補助電極の形成時などに付着する異物による悪影響を防止した、エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板２０上の補助電極１１５を覆って基板２０上に熱発泡性樹脂を介して感光性ドライフィルムを貼設する工程と、感光性ドライフィルムを補助電極１１５のパターンに対応させて露光し現像することによりパターニングする工程と、感光性ドライフィルムからなるパターン６１ａをマスクにして熱発泡性樹脂をパターニングする工程と、パターン６１ａを覆って基板２０上に発光機能層１１０の形成材料を気相成膜法で成膜し、画素領域Ｘに発光機能層１１０を形成する工程と、熱発泡性樹脂のパターン６０ａを加熱してこれを発泡させ、このパターン６０ａ及び感光性ドライフィルムからなるパターン６１ａを剥離して補助電極１１５を露出させる工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過性が高い有機ＥＬ素子用カラーフィルタ、および高輝度の有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上にパターン状に形成された着色層と、上記着色層間に形成された平坦化部とを有することを特徴とする有機ＥＬ素子用カラーフィルタを提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】製造が簡単で歩留まりが高く、ドライプロセス以外にウエットプロセスを混在させて材料選定の制限を少なくすることができるカラー表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電性基板１１上に赤色透明有機ＥＬ発光層１２を形成し、その上に透明電極１３を形成した赤色ＴＯＬＥＤ１０と、透明導電性基板２１上に緑色透明有機ＥＬ発光層２２を形成し、その上に透明電極２３を形成した緑色ＴＯＬＥＤ２０と、透明導電性基板３１上に青色透明有機ＥＬ発光層３２を形成し、その上に透明電極３３を形成した青色ＴＯＬＥＤ３０とを各透明導電性基板１１、２１、３１と、各々重ねて積層する。 （もっと読む）

【課題】微小領域に任意の形状でダイレクトにパターニングできる処理方法及び処理装置、並びにそれらにより作成された電子デバイスを提供すること。
【解決手段】第１の噴出口に反応性ガス及び蒸着物質が供給されつつ前記第１の噴出口の外周に設けられた第２の噴出口から不活性ガスを導入し、前記第１の噴出口の外周に設けられた電極に高周波電力を印加することで、前記第１の噴出口に対向して設けられた基板を処理する処理方法であって、前記蒸着物質は基板上に噴出されるとともにその一部は前記反応性ガスによってアッシング処理されることで解決できる。 （もっと読む）

【課題】表示部を形成するためのパターンが形成された基板と、被位置合わせ部材とを高精度に位置合わせ可能な表示装置の製造装置を提供すること、煩雑な工程を行うことなく高精度に位置合わせ可能な製造方法を提供すること等。
【解決手段】表示装置の製造装置１００は表示部を形成するためのパターン２４が形成された基板２に被位置合わせ部材（マスク３）を対面させてパターン２４とマスク３との位置合わせを行う。基板２はパターン２４との位置関係が予め規定された位置に出力機能を有する受光素子部２１を備える。マスク３は位置合わせ用透光部３２を有する。製造装置１００は受光素子部２１又は透光部３２との位置関係が固定され、透光部３２を介して受光素子部２１に光を照射可能な光源４を有する。製造装置１００は受光素子部２１の出力を基に基板２とマスク３との位置制御を行う位置制御手段（相対位置駆動部５や制御部８）を有する。 （もっと読む）

【課題】第１電極と、第２電極とが短絡しても、有機ＥＬ装置の見かけ上の不良画素数を少なくして、輝点不良を低減することが可能な有機ＥＬ装置および有機ＥＬ装置の製造方法ならびに表示性能の良好な電子機器を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ装置１は、パッシブマトリックス型の有機ＥＬ装置１であって、基板２と、基板２上に形成された複数の第１電極３と、第１電極３と交差する方向に形成された複数の第２電極５と、第１電極３と第２電極５との間に形成された有機機能層としての発光層６と、を備え、第１電極３は、分離可能な接続部５１を備えている。 （もっと読む）

【課題】レーザ光照射による導電路切断の信頼度を高め、これにより、輝点又は滅点として視認された画素が表示品位に与える影響を十分に小さくする。
【解決手段】本発明の方法は、光透過性を有する絶縁基板ＳＵＢと、前記絶縁基板ＳＵＢ上で配列した複数の画素ＰＸとを具備したアクティブマトリクス型表示装置の製造方法であって、前記複数の画素ＰＸの中から輝点又は滅点として視認されるものを選択する工程と、選択した前記画素ＰＸが含み且つ金属又は合金からなる導電路ＤＥに向けて前記絶縁基板ＳＵＢ側からレーザ光を照射して前記導電路ＤＥを切断する工程とを含み、前記絶縁基板ＳＵＢと前記導電路ＤＥとの間であって前記導電路ＤＥを切断すべき位置にアモルファスシリコン又はポリシリコンからなる修復用光吸収層ＬＡを形成しておくことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機化合物層や透明電極層にダメージを与えることなく、微細な電極パターンを形成可能な極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子の電極パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板１上に陽極２，有機化合物層３，金属電極層４を順次積層して成る有機ＥＬ素子の配線パターン化に際してレーザーアブレーション現象を利用する配線パターンの形成方法において、真空中若しくは不活性ガス雰囲気中にて、波長が近赤外領域で、パルス幅が１０ｆｓ〜１０ｐｓ、レーザーフルーエンスが０．１〜０．３Ｊ／ｃｍ^２のレーザー６を前記金属電極層４表面にパルス発振により照射する際、その照射位置の膜厚分の金属電極層４のみをエッチングするために必要な積算照射時間をパルス周波数に応じて制御し、当該金属電極層４のみを選択的にエッチングするものである。 （もっと読む）

【課題】製造が簡単で歩留まりが高く、ドライプロセス以外にウエットプロセスを混在させて材料選定の制限を少なくすることができるカラー表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電性基板１１上に赤色透明有機ＥＬ発光層１２を形成し、その上に透明電極１３を形成した赤色ＴＯＬＥＤ１０と、透明導電性基板２１上に緑色透明有機ＥＬ発光層２２を形成し、その上に透明電極２３を形成した緑色ＴＯＬＥＤ２０と、透明導電性基板３１上に青色透明有機ＥＬ発光層３２を形成し、その上に透明電極３３を形成した青色ＴＯＬＥＤ３０とを各透明導電性基板１１、２１、３１と、各々重ねて積層する。 （もっと読む）

【課題】 有機発光材料を用い、大気中で製造可能な発光装置を提供する。
【解決手段】
基板上の発光機能領域内部に、下部電極層、有機発光層、および上部透明電極層を積層した発光装置において、下部電極層と有機発光層の界面に、導電性金属のナノコロイダル粒子から形成される補助電極層を形成することにより、下部電極層は平滑化され、発光効率が高まる。また、下部電極層を透明電極層とし、その上に有機発光層、補助電極層および上部電極層を積層する構造でも同様の効果が得られる。さらに、金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル法によってガラスを生成し、このガラスによって前記発光装置を封止すると、発光をより持続させることが可能である。 （もっと読む）

【課題】封止基板の切断に起因した回路層の動作不良等が抑制され、生産性および信頼性に優れた画像表示装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】素子基板上に回路層を形成する工程と、前記素子基板の中央部に形成された前記回路層を平坦化する平坦化膜と、前記素子基板の周縁部に形成された前記回路層を保護する保護膜と、を前記平坦化膜と前記保護膜との間に空白領域を設けるように形成する工程と、前記空白領域に封止材を配置し、前記素子基板上に封止基板を配置し、前記素子基板と前記封止基板とを接着する工程と、前記封止基板を、前記保護膜の直上領域またはその近傍において切断する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】光学デバイスの製造に使用可能な有機発光材料の発光色を所望の波長に制御するための簡便な方法、および、同一基板上に複数の異なる発光色領域を有する有機発光材料の薄膜を作成するための簡便な方法の提供。
【解決手段】大気成分との接触下で有機発光材料に光を照射することにより有機発光材料の発光色を制御する方法。更に、光照射後に有機発光材料を大気成分から遮断すること更を含む前記方法。 （もっと読む）

【課題】回路の誤動作を簡単な構成で抑制する。
【解決手段】発光領域ＡにはＯＬＥＤ素子７０が配置される。ＯＬＥＤ素子７０は共通電
極７２と画素電極７６との間に挟まれた発光機能層７４を有する。回路領域Ｂにおいて周
辺回路を構成するトランジスタ４０および５０と光の射出面との間には、補助配線１５０
が配置される。補助配線１５０は画素電極７２と同一の層で同時に形成される。補助配線
１５０および画素電極７２は遮光性および導電性を有する。 （もっと読む）

【課題】欠陥部を確実に修復しつつ、高い輝度をより長期間維持することができる有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ表示装置の製造方法は、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に配置された有機発光層とを有する素子基板をエージングする製造方法であり、陽極と陰極の間に第１エージング電圧を印加して素子基板をエージングする第１エージング工程（Ｓ２０３）と、陽極と陰極との間に第２エージング電圧を印加して素子基板をエージングする第２エージング工程（Ｓ２０４）とを備えている。そして、第１エージング電圧の逆バイアス電圧は、有機ＥＬ装置の実駆動電圧の逆バイアス電圧よりも大きく、且つ、第２エージング電圧の順バイアス電圧は、有機ＥＬ装置の実駆動電圧の順バイアス電圧よりも大きく設定されている。 （もっと読む）