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電場発光光源(EL) (25,498) | 製造法 (3,664)

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【課題】有機EL素子の品質を低下させることなく、安定した封止操作を行うことが可能なロールツーロール方式による有機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】洗浄工程110、有機EL構造体形成工程120、被覆処理工程130、からなり、ロール状に巻き取られた可撓性の基材を繰り出して、洗浄工程110における基材の洗浄、有機EL構造体形成工程120における第1電極、有機層、第2電極からなる有機EL構造体の形成、および、被覆処理工程130における保護膜の被覆処理をインラインで行って、基材をロール状に巻き取る。 (もっと読む)


【課題】スペーサを用いることなく所望の間隔を形成することができるパネル製造装置を提供すること。
【解決手段】ギャップ形成ブロック61の上面には上基板保持部44に吸着された基板W2が当接され、上基板保持部44の下降が規制されるようにした。この状態において、ギャップ形成ブロック61の内側に収容され下基板保持部53に吸着された基板W1と、ギャップ形成ブロック61に当接された基板W2とが、所定の間隔にて保持される。即ち、両基板W1,W2の間に所定の基板ギャップが形成される。 (もっと読む)


【課題】素子基板の周囲温度をより高い温度にして効率よくエージング処理を行うことができ、駆動電圧を効率よく低減することができる有機EL表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る有機EL表示装置の製造方法は、基板上に陽極と陰極と複数の有機化合物層とを有する素子基板を製造する素子基板製造工程(S301)と、陽極と陰極の間にエージング電圧を印加して素子基板をエージングするエージング工程(S302)とを備えている。ここで、素子基板製造工程(S301)では、複数の有機化合物層のうち、ガラス転移温度が最も低い第1の有機化合物層が、第1の有機化合物層よりガラス転移温度が高い第2および第3の有機化合物層の間で挟持されるように、複数の有機化合物層を形成する。また、エージング工程(S302)では、素子基板の周囲温度を第1の有機化合物層のガラス転移温度以上に設定する。 (もっと読む)


【課題】複数の有機ELパネルに対して一括してエージング処理を施すときに、短絡画素に起因して隣接する有機ELパネル等に損傷が与えられることを防止する。
【解決手段】1つの有機ELパネル10に接続される全ての陽極引き回し配線11は、一旦、1つの陽極エージング用配線21に接続される。陽極エージング用配線21における第1の陽極エージング用共通配線22に接続される箇所(A部分)の近傍において、陽極エージング用配線21は、配線幅が狭くなっている狭部を有する。特定の有機ELパネル10において欠陥(層間短絡など)が生じている可能性が高い場合には、その有機ELパネル10に接続されている陽極エージング用配線21における狭部を切断する。 (もっと読む)


【課題】蒸着法により薄膜を形成するに際し、均一かつ緻密な薄膜を形成することができるとともに、例えば、膜形成材料の有効利用が可能な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】蒸着装置10は、チャンバ11と、チャンバ11内に設けられ、膜材料13を収納するルツボ14と、基板2を保持する基板ホルダー12と、いずれもルツボ14を覆って膜材料13の気化物が基板2側に向かうのを阻止する阻止位置と、気化物が基板2側に向かうのを許容する許容位置とに変位可能に設けられた第1のシャッター部材21および第2のシャッター部材22と、各シャッター部材21、22の作動を制御する制御手段32を有している。この制御手段32は、第1のシャッター部材21と、第2のシャッター部材22とを異なる時間に前記阻止位置に変位させるよう構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】接続配線が形成された基板の状態で金属電極の短絡不良の検査をすることができる有機ELパネル用基板の検査方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる有機ELパネル用基板100の検査方法の一態様は、透明基板101上に形成された複数の陰極108と、複数の陰極108の各々と接続された陰極用エージング配線104とを有する有機ELパネル用基板100の検査方法であって、透明基板101に光を照射し、透明基板101からの透過光により陰極108間の短絡を検査する。 (もっと読む)


【課題】アナログ信号に対するノイズの影響を排除できると共に、プリント配線の自由度を高めることができる回路基板、これを搭載した液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供する。
【解決手段】デジタル信号用入力端子62bとデジタル信号用出力端子63bとの間でプリント配線されたデジタル信号伝送用の基板内配線64と、アナログ信号用入力端子62aとアナログ信号用出力端子63aとの間でケーブル配線されたアナログ信号伝送用の基板外配線65と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】基板を加熱する場合であっても、塗布液を正しい位置に塗布する。
【解決手段】加熱工程(ステップS1)においては、基板を塗布時の処理温度に加熱する。測定工程(ステップS4)においては、加熱された基板の所定部分の長さを測定する。調整工程においては、加熱前における所定部分の長さと測定工程で測定された長さとに基づいて加熱による基板の膨張率を算出し(ステップS4)、所定の第1方向へのピッチ送り量を当該膨張率に基づいて調整する(ステップS7)。塗布工程(ステップS8)においては、基板に対して塗布液を吐出している塗布手段を第1方向に垂直な第2方向に相対移動させる動作と、調整工程において調整されたピッチ送り量だけ基板を塗布手段に対して相対移動させる動作とを繰り返すことによって塗布液を基板に塗布する。 (もっと読む)


【課題】 有機ELパネルの製造工程において、歩留まりを低下させることなくエージング処理を行うことが可能な有機ELパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 有機ELパネル1の製造方法は、異なる発光色を呈する複数種類の有機層7a〜7cをそれぞれ一対の電極4,8で挟持してなる複数種類の発光画素を基板上に形成する発光画素形成工程を含む。前記各発光画素の両電極4,8間に少なくとも逆バイアス電圧成分を含む電圧波形を印加するエージング処理工程を含む。前記エージング処理工程において、発光色の異なる前記各発光画素にそれぞれ異なる加熱処理を行って前記各発光画素の温度を調整する。 (もっと読む)


【課題】 有機発光材料を用い、大気中で製造可能な発光装置を提供する。
【解決手段】
基板上の発光機能領域内部に、下部電極層、有機発光層、および上部透明電極層を積層した発光装置において、下部電極層と有機発光層の界面に、導電性金属のナノコロイダル粒子から形成される補助電極層を形成することにより、下部電極層は平滑化され、発光効率が高まる。また、下部電極層を透明電極層とし、その上に有機発光層、補助電極層および上部電極層を積層する構造でも同様の効果が得られる。さらに、金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル法によってガラスを生成し、このガラスによって前記発光装置を封止すると、発光をより持続させることが可能である。 (もっと読む)


【課題】封止基板の切断に起因した回路層の動作不良等が抑制され、生産性および信頼性に優れた画像表示装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】素子基板上に回路層を形成する工程と、前記素子基板の中央部に形成された前記回路層を平坦化する平坦化膜と、前記素子基板の周縁部に形成された前記回路層を保護する保護膜と、を前記平坦化膜と前記保護膜との間に空白領域を設けるように形成する工程と、前記空白領域に封止材を配置し、前記素子基板上に封止基板を配置し、前記素子基板と前記封止基板とを接着する工程と、前記封止基板を、前記保護膜の直上領域またはその近傍において切断する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】光学デバイスの製造に使用可能な有機発光材料の発光色を所望の波長に制御するための簡便な方法、および、同一基板上に複数の異なる発光色領域を有する有機発光材料の薄膜を作成するための簡便な方法の提供。
【解決手段】大気成分との接触下で有機発光材料に光を照射することにより有機発光材料の発光色を制御する方法。更に、光照射後に有機発光材料を大気成分から遮断すること更を含む前記方法。 (もっと読む)


【課題】回路の誤動作を簡単な構成で抑制する。
【解決手段】発光領域AにはOLED素子70が配置される。OLED素子70は共通電
極72と画素電極76との間に挟まれた発光機能層74を有する。回路領域Bにおいて周
辺回路を構成するトランジスタ40および50と光の射出面との間には、補助配線150
が配置される。補助配線150は画素電極72と同一の層で同時に形成される。補助配線
150および画素電極72は遮光性および導電性を有する。 (もっと読む)


【課題】欠陥部を確実に修復しつつ、高い輝度をより長期間維持することができる有機EL表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る有機EL表示装置の製造方法は、陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に配置された有機発光層とを有する素子基板をエージングする製造方法であり、陽極と陰極の間に第1エージング電圧を印加して素子基板をエージングする第1エージング工程(S203)と、陽極と陰極との間に第2エージング電圧を印加して素子基板をエージングする第2エージング工程(S204)とを備えている。そして、第1エージング電圧の逆バイアス電圧は、有機EL装置の実駆動電圧の逆バイアス電圧よりも大きく、且つ、第2エージング電圧の順バイアス電圧は、有機EL装置の実駆動電圧の順バイアス電圧よりも大きく設定されている。 (もっと読む)


【課題】簡便な構造変更および検出方法でオープン/ショート不良の不良線番号を特定することができるようにすること。
【解決手段】本発明は、マトリクス状に配列された複数の画素の各々に対応して複数のトランジスタが設けられ、これらのトランジスタに接続される複数の配線が画素間に設けられる発光装置において、複数の配線として、行方向または列方向に沿った複数の画素から成る画素列のトランジスタと接続される信号線lsig-1〜lsig-nと、行方向および列方向に沿った複数の画素から成る画素群のトランジスタと接続される2本以上の共通電極線Vs-1〜Vs-3、Vg-1〜Vg-3とを有しており、画素列間では、信号線lsig-1〜lsig-nを中央とした両側に共通電極線線Vs-1〜Vs-3、Vg-1〜Vg-3が配置されているものである。 (もっと読む)


【課題】平坦性の高いパターンを形成可能とする。
【解決手段】基板P上に積層構造の配線41、42を形成する。基板P上に下地層F1を形成する工程と、下地層F1の上に液状体の液滴を吐出して配線本体F2を形成する工程とを有する。液状体は、銀を含む第1微粒子と、第1微粒子に添加され銀とは異なる第2微粒子とを含む。 (もっと読む)


【課題】有機発光層に水分が浸透することを防止して、画素の発光特性や寿命などを損なうことがない有機EL表示パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光層7は絶縁層6の端部に乗り上げるように形成される。そして、この有機発光層7の上層に形成される陰極電極8は、有機発光層7よりも外側まで大きく形成される。すなわち、絶縁層6の上で、それぞれの有機発光層7の端部は、陰極電極8によって完全に覆われ、端面などが露出することがない。 (もっと読む)


【課題】基板に支持された電極膜、有機発光膜を含む有機薄膜と、電子注入性保護膜、透明電極膜とその順で成膜を行うトップエミッション型の有機電界発光素子の透明電極成膜方法において、有機発光膜を含む有機薄膜が大きなダメージを受けず、スパッタプロセスを用いず、低エネルギープロセスである蒸着法により、低抵抗で、透明性のある透明電極膜を形成する透明電極成膜方法を提供すること。
【解決手段】有機発光膜を含む有機薄膜上に形成した電子注入性保護膜の上方に、インジウムと錫若しくは亜鉛からなる合金膜を真空蒸着法にて形成した後、グロー放電により発生した酸素プラズマを照射し合金膜を酸素プラズマ処理することで、合金膜がストイキオメトリー(化学量論:実際の化合物の組成が化学式通りになっている状態)を満足し、組成が主として酸化インジウムからなる酸化物焼結体と同一となる透明電極膜を形成する有機電界発光素子の透明電極成膜方法。 (もっと読む)


【課題】コントラストの低下を回避して発光輝度の均一性を向上させた電気光学装置、電気光学装置の製造方法及び画像形成装置を提供する
【解決手段】膜厚が「電極厚さD2」からなる複数の画素電極36の各々を、膜厚が「絶縁層厚さD1」からなる絶縁層35によって囲うようにした。また、これら複数の画素電極36を共通して囲む共通バンク37を絶縁層35の外縁に形成するようにした。そして、「絶縁層厚さD1」から「電極厚さD2」を引いた差分が、画素電極36上に形成する正孔輸送層41及び発光層42の各々の膜厚よりも大きくなるようにした。 (もっと読む)


【課題】バリア性に優れた封止構造体及び封止構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】被封止体4と、被封止体4上に設けられた吸湿層8と、吸湿層8上に設けられ吸湿層8に隣接する樹脂層12と、被封止体4上に設けられ吸湿層8及び樹脂層12を覆う無機膜14とを備える。無機膜14は、吸湿層8の側面及び樹脂層12の側面を覆う。被封止体4は例えば基板2上に設けられている。また、被封止体4と吸湿層8との間には、必要に応じて、被封止体4を覆う別の無機膜6が設けられている。樹脂層12は、被封止体4、無機膜6及び吸湿層8を覆うことが好ましい。さらに、吸湿層8と無機膜6との間には、別の樹脂層が設けられていてもよい。 (もっと読む)


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