【課題】有機発光層に水分が浸透することを防止して、画素の発光特性や寿命などを損なうことがない有機ＥＬ表示パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光層７や陰極電極８は、絶縁層６の端部に乗り上げるように形成される。そして、皮膜層１２は、有機発光層７や陰極電極８よりも外側まで大きく形成され、端部が隔壁９の側面に接する。すなわち、有機発光層７や陰極電極８の端部は、金属材料などで形成された皮膜層１２によって完全に覆われ、端面などが露出することがない。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬパネルの製造工程において、歩留まり良くエージング処理を行うことが可能な有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 複数形成された陽極部４ｂと陰極部８ｂとの間に異なる発光色を示す複数種類の有機層７ａ〜７ｃを形成してなる有機ＥＬ素子３を基板２上に設けてなる有機ＥＬパネル１の製造方法であって、有機ＥＬ素子３を形成する工程後に、有機層７ａ〜７ｃの種類毎に異なる静電容量のキャパシタＣ１〜Ｃ３を各有機層７ａ〜７ｃに接続する回路Ｃを用いて、複数種類の有機層７ａ〜７ｃへ印加される素子静電エネルギを一定にしてエージング処理してなる。 （もっと読む）

【課題】高度に安定な多層有機分子光電素子、及び単純化溶液法による多層有機分子光電素子の製造方法の提供。
【解決手段】下記のステップを含む多層有機分子光電素子の製造方法。（１）透明な基板上に有機分子Ａを含む溶液を塗布するステップ。（２）有機分子Ａの層上にバッファ剤を含む溶液を塗布するステップ。（３）一時的バッファ層上に有機分子Ｂを含む溶液を塗布するステップ。（４）任意選択で一時的バッファ層を除去するステップ。（５）２以上の有機分子層を持つ光電素子を得るため、（２）、（３）、及び（４）を繰り返すステップ。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬパネルの製造工程において、歩留まりを低下させることなくエージング処理を行うことが可能な有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬパネル１の製造方法は、異なる発光色を呈する複数種類の有機層７ａ〜７ｃをそれぞれ一対の電極４，８で挟持してなる複数種類の発光画素を基板上に設けてなる。発光色の異なる前記発光画素の前記両電極４，８間にそれぞれ異なる電圧を印加し、前記発光画素にかかる電界強度を略一定とするエージング処理工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 有機物質を電子デバイスなどに用いる際の電気的特性を予測する。
【解決手段】 材料の分子の電子状態、分子振動の状態、及び電子と分子振動との相互作用を表現するハミルトニアンを構築し（Ｓ６０）、このハミルトニアンの固有関数がポーラロン型の波動関数と非ポーラロン型の波動関数とを重ね合わせた波動関数となるように構築した固有値方程式を解き（Ｓ７０）、得られた固有関数を用いて状態間を遷移する確率を求め（Ｓ８０）、前記材料の移動度などの電気的特性を予測する（Ｓ９０）。 （もっと読む）

【課題】簡素な工程で、高品質な保護膜を形成することができる表示装置の製造方法およびそれに用いるマスクを提供する。
【解決手段】基板１１上にマスク１４０を配置し、マスク１４０の枠部１４２で電極パッド領域２０を覆うと共に開口部１４１内に表示領域３０を露出させ、プラズマＣＶＤ法により表示領域３０に窒化ケイ素などよりなる保護膜を形成する。枠部１４２の開口部１４１側に、傾斜面を有するガス案内部１４３を設ける。枠部１４２と基板１１との接点近傍でガスの流れが変わってしまうことがなく、マスク１４０近傍で保護膜の厚みが不均一になってしまうことがなくなる。ガス案内部１４３の下端１４３Ａと上端１４３Ｂとを結ぶ直線が、枠部１４２の基板対向面１４４に対してなす傾斜角θは、１０度以上１５度以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板のサイズの変化、リニアスケール等の検出精度の変化、液滴吐出装置自体の
機械精度の変化などが発生しても、描画精度を向上することが可能な描画方法、表示性能
の良好な電気光学装置、電子機器を提供する。
【解決手段】描画方法は、液滴吐出ヘッド５２と、基板Ｗとを相対的に移動させる移動工
程と、特徴点としてのアライメントマーク９１、９３の配置位置を検出して、間隔Ｈ２を
測定する工程と、測定された間隔Ｈ２と、設計値情報としての間隔Ｈ１とを比較して基板
Ｗの伸縮率δ（％）を確認する工程と、この伸縮率δ（％）に基づいてキャリッジユニッ
ト５の位置を調整する工程と、描画をする描画工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】磁気力を利用してドナーフィルムとアクセプト基板をラミネーティングする工程を施すレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法そしてこれを利用した有機発光表示素子を提供する。
【解決手段】有機発光素子の画素定義領域が形成されて第１磁石を具備するアクセプト基板及び画素定義領域に転写される発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層される基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に配置され、ドナーフィルムの転写される発光層に対応するパターンの開口部を具備し、アクセプト基板と磁力を形成する第２磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】画素電極及び対向電極間に配置する活性材料を各画素全域に渡って膜厚ばらつきが低減された表示装置を提供する。
【解決手段】アレイ基板１０上にマトリクス状に配置された島状の下部電極２６と、前記下部電極２６の行方向に隣接する下部電極２６，２６間に配置され、下部電極２６の列方向に沿って形成される帯状の隔壁２４と、帯状の隔壁２４の側面に沿って形成される溝３４と、下部電極２６上に配置される活性層３０，３２と、活性層３０，３２を挟んで下部電極２６に対向配置される対向電極とを備える。 （もっと読む）

【課題】通信光を光ファイバ端面に集光させることが可能な構成を備えた通信用発光装置とこの通信用発光装置を用いた通信システムを提供すると共に、前記通信用発光装置を、複雑な工程を要することなく、容易かつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】光ファイバ２の端部側面をフィルムで覆うことで長手方向に延びた筒状の空洞部の中に第一樹脂を滴下し、光ファイバ２の長手方向を軸として該光ファイバ２を回転し、第一樹脂に略半球状の凹面を形成しながら当該第一樹脂を硬化して上面に凹部をなす第一領域１１を形成する。次に、第一領域１１の中に、第一樹脂より屈折率が高い第二樹脂を滴下し、硬化して下面に凸部をなす第二領域１２を形成する。そして、フィルムの除去後、レンズ部３を構成する第二領域１２の上に、透明導電膜からなる陽極１３、発光層１４、陰極１５を順に重ねて構成するＥＬ素子部４を形成し、通信用発光装置１とする。 （もっと読む）

【課題】磁気力を利用してドナーフィルムとアクセプト基板をラミネーティングする工程を施すレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法を提供する。
【解決手段】有機発光素子の画素定義領域が形成されたアクセプト基板及び画素定義領域に転写される有機発光層を具備するドナーフィルムが順次移送されて積層され、電磁石を含む基板ステージと、ドナーフィルムにレーザを照射するレーザ発信器と、基板ステージとレーザ発信器の間に設置され、ドナーフィルムの転写される部分に対応するパターンの開口部を具備し、基板ステージと磁気力を形成する永久磁石を具備する密着フレームと、密着フレームを基板ステージの方向に移動させる密着フレーム移動手段とを含む。 （もっと読む）

【課題】 オーバーコート層の表面上の突起などを低減することで、パッシベーション層のカバレッジ不良が改善され、有機ＥＬ層への残留ガスや水分の拡散に起因する表示欠陥などの発生を防ぐことができる有機ＥＬディスプレイ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 色変換フィルター層を覆うように透明な基板１３上にオーバーコート層１４を形成した後、このオーバーコート層を覆うように感光性材料２１を形成し、この感光性材料２１をフォトリソグラフィによりパターニングする。オーバーコート層のうちフォトリソグラフィにより露出することとなった部分をドライエッチングにより除去した後、研磨によって感光性材料２１ａを除去するとともにオーバーコート層１４の表面を平坦化する。そして、この表面が平坦化したオーバーコート層１４ｂ上に無機パッシベーション層および有機ＥＬ発光素子を順次形成して有機ＥＬディスプレイを製造する。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ（ＯＬＥＤ）のエージング処理において、温度上昇による特性劣化を生じさせることなく短時間にてエージング処理を可能とすること。
【解決手段】基板１面上に、駆動回路３、陽極５、有機発光層８、陰極１１を積層してなるＯＬＥＤのエージング処理において、ＯＬＥＤの昇温を抑制する昇温抑制手段（ヒートシンク４０や低温槽４６）を設け、陽極と陰極の間に電流を印加し、通常動作時の輝度より大きな輝度にて有機発光層を発光させてエージング処理を行う。昇温抑制手段は、エージング中の昇温をＯＬＥＤを構成する有機化合物のガラス転移温度未満に抑制する。 （もっと読む）

【課題】精度の高い電気光学装置の製造工程を簡略化する。
【解決手段】画素電極２００と、発光機能層１１０と、陰極３１１を含む有機ＥＬ素子と、有機ＥＬ素子を駆動するＴＦＴを備え、ＴＦＴは、ソース・ドレイン領域３０３、ゲート絶縁膜３０２、ゲート電極３０５、層間絶縁膜３０６に開口されたコンタクトホール３０７に形成されたソース・ドレイン電極３０９を備え、有機ＥＬ素子は、ＴＦＴ上に形成されたバンク層３１０によって囲まれる領域に形成され、ゲート絶縁膜３０２は親液性を有し、ゲート絶縁膜３０２によって画素電極２００の周縁部が覆われている。 （もっと読む）

【課題】スイッチング素子を覆う層間絶縁膜を樹脂からなる平坦化膜として構成した場合でも、平坦化膜の吸湿に起因する不具合の発生を確実に防止可能な電気光学装置およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置の素子基板１０において、平坦化膜８０の下層側であって駆動用トランジスタ７４およびそのドレイン電極４２の上層側に第１の無機絶縁膜６０ａが形成されているとともに、平坦化膜８０の上層側であって画素電極３４の下層側に第２の無機絶縁膜６０ｂが形成され、無機絶縁膜６０ａ、６０ｂは、コンタクトホール５２０内および平坦化膜８０の外側で接して平坦化膜８０の下面、上面および側面を完全に覆っている。このため、有機ＥＬ装置の製造途中において平坦化膜８０が吸湿することを防止できる。それ故、平坦化膜８０の吸湿に起因する不具合の発生を確実に防止できる。 （もっと読む）

【課題】液滴の吐出量をリアルタイムで調整することができ、不良の発生を防ぐことができる薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッド２０により吐出されるインクを基板３１上に着弾させて薄膜を形成する薄膜形成方法であって、基板３１の重量を測定し、この基板３１の重量変化に基づいてインクジェットヘッド２０が吐出するインクの吐出量を制御する。 （もっと読む）

【課題】膜厚を容易に制御することができ、平坦な膜を容易に得ることができる膜形成方
法、有機エレクトロルミネセンス装置の製造方法、有機エレクトロルミネセンス装置及び
電子機器を提供すること。
【解決手段】発光層２８ｂ上に設けられた陰極２９の長手方向の端辺２９ａが、隔壁内領
域２６の長手方向の端辺２６ａよりも長手方向の中央部側に設けられることとした、すな
わち、陰極２９を濡れ性の悪い隔壁内領域２６の長手方向の端辺２６ａ付近に重ねないよ
うにしたので、陰極２９と正孔注入層２８ａとが接触するのを回避することができる。こ
れにより、陰極２９と正孔注入層２８ａとの間で電気的短絡が起こることは無く、発光不
良を回避することができる。 （もっと読む）

【課題】発光効率および耐久性（寿命）に優れる発光素子を製造し得る発光素子の製造方法、かかる発光素子の製造方法により製造された発光素子、この発光素子を備えた信頼性の高い発光装置および電子機器を提供すること。
【解決手段】図１に示すアクティブマトリクス型表示装置１０は、基板２１と、この基板２１上に形成された回路部２２とを有している。この回路部２２上に、各駆動用ＴＦＴ２４に対応して、画素領域が形成され、各画素領域内には、それぞれ有機ＥＬ素子１が設けられている。この有機ＥＬ素子１が有する陽極バッファ層８は、前駆体（モノマー）をプラズマ重合して得られたポリシロキサン誘導体の被膜に、紫外線を照射することにより、ポリシロキサン誘導体をＳｉＯ_２に変化させて形成されたものである。 （もっと読む）

【課題】液滴の吐出量をリアルタイムで調整することができ、不良の発生を防ぐことができる薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】インクジェットヘッド２０により吐出される機能液のインクを基板上に着弾させて薄膜を形成する薄膜形成方法であって、基板３１上に着弾されたインクｉの液面高さを測定し、この測定されたインクｉの液面高さに基づいてインクジェットヘッド２０が吐出するインクの吐出量を制御する。 （もっと読む）

【課題】視角によって色度ずれを抑制することが可能な発光装置の製造方法及びその製造方法によって製造された発光装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】各青用画素ＤＢ、緑用画素ＤＧ及び赤用画素ＤＲに光共振器構造を有した有機ＥＬ装置１０において、青用画素ＤＢの画素電極１５Ｂを第１画素電極部と、該第１画素電極部とは膜厚の異なる第２画素電極部とから構成した。そして、４回のフォトリソグラフィー工程で、青、緑及び赤用画素電極形成領域ＳＢ，ＳＧ，ＳＲ毎に膜厚が異なる画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒを形成した。 （もっと読む）