【課題】紫外線による有機ＥＬ素子の劣化を防止することができ、かつ光硬化性樹脂を十分に硬化させることができる有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を得る。
【解決手段】基板１の主面上に複数の有機ＥＬ素子を配置してなる有機ＥＬ素子パネルと、有機ＥＬ素子パネルの主面側と対向して配置される封止パネルであって、有機ＥＬ素子に対応して設けられたカラーフィルタ層１１または色変換層、及び該カラーフィルタ層１１または色変換層の周囲に設けられるブラックマトリックス層１２が透光性の封止基板の対向側の面上に設けられた封止パネルとを、光硬化性樹脂９で貼り合わせた構造を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、ブラックマトリックス層１２に、光硬化性樹脂９を硬化させる紫外線を導入するための開口部１３が形成されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】製造過程で異物が付着したとしてもショートの発生を抑制することが可能な表示装置の製造装置、及び、表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を構成する第１電極を形成済みの処理基板ＳＵＢを保持する保持機構２２０と、光活性層を形成するための材料を放射する蒸着源２１０と、保持機構２２０によって保持された処理基板ＳＵＢと蒸着源２１０とが対向した状態で相対的に蒸着源２１０が処理基板ＳＵＢの一端部ＳＡから他端部ＳＢまで走査するように蒸着源２１０及び処理基板ＳＵＢの少なくとも一方を移動させる移動機構２４０と、を備え、移動機構２４０は、処理基板ＳＵＢの一端部ＳＡから他端部ＳＢに向かう順方向に規定幅で移動させた後に前記処理基板の他端部から一端部に向かう逆方向に規定幅より小さい幅で移動させる揺動を繰り返して走査させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ガスの発生が少ない着色層や遮光部を形成するためのカラーフィルタ用塗工液、ならびに、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能な有機ＥＬ素子用基板および有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、超微粒子および着色剤が溶剤に分散された超微粒子分散液からなることを特徴とするカラーフィルタ用塗工液を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】一方の伝導型のトランジスタのみを用いた構成を採用することに起因する構造の変更点を最小限に抑えることが可能なＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】基板(20)上に、第１トランジスタ、第２トランジスタ(33)、選択線、電源線及びカソード線を含む薄膜回路層(21)と、ＥＬ素子を含むＥＬ素子層(22)と、を積層して構成されており、上記ＥＬ素子層は、上記電源線(36)と接続される陽極(40)と、当該陽極を囲む隔壁(39)と、当該隔壁に囲まれた上記陽極上に設けられるＥＬ層(42)と、上記隔壁上に設けられ、上記画素部のそれぞれ毎に区分けする逆テーパー状のセパレータ(43)と、上記セパレータによって区分けされた領域内に設けられて上記ＥＬ層及び上記隔壁を覆い、かつ一部が上記隔壁を貫通して上記第２トランジスタの他方のソース・ドレインと接続される陰極(44)と、を備える、ＥＬ表示装置である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置の消費電力の増大を抑えつつ、その信頼性を向上させることが可能な有機ＥＬ表示パネルのエージング方法を提供する。
【解決手段】最初に、固定表示領域１１を特定する（ステップＡ１）。次に、第１のエージングとして、固定表示領域１１の有機ＥＬ素子１１６のみに対して、通常の駆動電流の電流密度よりも大きな第１の電流密度の電流を所定時間にわたり供給する。さらに、第２のエージングとして、非固定表示領域１２の有機ＥＬ素子１１６のみに対して、第１の電流密度よりも小さな第２の電流密度の電流を所定時間にわたり供給する（ステップＡ２）。その後、必要に応じて、有機ＥＬ表示パネル１０の全面の表示画素１１０の有機ＥＬ素子に供給される駆動電流を不図示の補正回路等により調整して、有機ＥＬ表示パネル１０の全面の表示画像の補正処理（いわゆる２次元補正）を行う（ステップＡ３）。 （もっと読む）

【課題】 バンクにより区画された開口部に均一な膜厚の有機機能層を備え、長寿命で表示品質の高い発光装置、及び発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 有機材料ＢＢからなる隔壁１５０ａにより区画された開口部１５１に発光層１４０Ｂを含む機能層１４０を配置する、発光装置の製造方法である。基体Ｐ上に隔壁１５０ａを形成するとともに、隔壁１５０ａの上面の表面層におけるフッ素含有率を開口部１５１の内側面の表面層におけるフッ素含有率より高くし、隔壁１５０ａによって区画される開口部１５１に機能層１４０を配置する。 （もっと読む）

【課題】製造過程で異物が付着したとしてもショートの発生を抑制することが可能な表示装置、表示装置の製造装置、及び、表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】画素毎に配置された第１電極と、第１電極上に配置された有機活性層と、複数の画素に共通に配置されるとともに有機活性層上に配置された第２電極と、を備えた表示素子を備えた表示装置の製造装置であって、第１電極及び光活性層を形成済みの処理基板ＳＵＢに対向するように配置され、第２電極を形成するための材料を放射する蒸着源２１０と、蒸着源２１０から放射された材料を処理基板ＳＵＢに対して略垂直な方向から蒸着させるように成膜角度を規制する規制部材２５０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】各画素に表示素子を備える表示装置において検査精度を向上する。
【解決手段】各画素には、表示素子と、この表示素子の動作を制御する画素トランジスタと、表示データに応じた電荷を一定期間保持する保持容量を備える。通常動作時には各保持容量に接続された容量ラインに出力する容量信号を所定周期で交流駆動することで、表示品質等の向上を図る。一方で、画素の欠陥検査などにおいては、容量ラインに出力する容量信号を固定レベルとする構成を画素回路などと同時に基板上に形成しておく。これにより、検査時に、各画素の欠陥検査を各画素における容量値データなどから検出する場合に、検査精度を向上させることを可能とする。なお、検査時において、固定レベルを検査に適した任意の検査用電圧に設定可能としてもよい。 （もっと読む）

【課題】キャリア注入効率の高いエレクトロルミネセンス素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】発光層、正孔を該発光層に注入する陽極および電子を該発光層に注入する陰極を備えたエレクトロルミネセンス素子であって、分子内に双極子モーメントを持ち、かつ、自己組織化単分子層を形成する有機分子で電極表面が化学的に修飾されており、陽極を修飾する有機分子と陰極を修飾する有機分子とが互いに異なっている。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子の発光特性を精度よくシミュレーションする。
【解決手段】有機電界発光素子の取り出し光の発光特性を求めるシミュレーション方法であって、発光層内に存在する発光分子が励起状態から無輻射で基底状態に遷移する単位時間あたりの確率をｋｔ、角度（θ，ψ）方向を含む微小立体角ｄΩ内へ波長λからλ＋ｄλのS偏光の光子を放出して基底状態に遷移する単位時間あたりの確率をｋｒｓ（θ，ψ，λ）ｄΩｄλ、角度（θ，ψ）方向を含む微小立体角ｄΩ内へ波長λからλ＋ｄλのP偏光の光子を放出して基底状態に遷移する単位時間あたりの確率をｋｒｐ（θ，ψ，λ）ｄΩｄλとして、励起状態にある発光分子から（θ，ψ）方向を含む微小立体角ｄΩ内へ波長λからλ＋ｄλの光子が放出される確率φ（θ，ψ，λ）ｄΩｄλを数式（１）より求める。 （もっと読む）

【課題】 薄膜トランジスタと電極との接続信頼性を向上させたアレイ基板を提供する。
【解決手段】 表面に薄膜トランジスタ４０が設けられた基板１１と、基板１１の表面を覆うように形成された層間絶縁層５０と、層間絶縁層５０上に形成されると共に、層間絶縁層５０に形成されたコンタクトホール２３を介して薄膜トランジスタ４０と電気的に接続された電極１９とを備え、層間絶縁層５０は、珪素を含む第１の無機絶縁膜１５と、有機絶縁膜１６と、珪素を含む第２の無機絶縁膜１８とが、この順で積層されてなると共に、第１の無機絶縁膜１５、有機絶縁膜１６及び第２の無機絶縁膜１７には、それぞれコンタクトホール２３に対応する位置に開口部１５ａ，１６ａ，１８ａが設けられ、これら開口部１５ａ，１６ａ，１８ａのうち少なくとも第２の無機絶縁膜１８の開口部１８ａが有機絶縁膜１６の開口部１６ａよりも大きいことを特徴する。 （もっと読む）

【課題】 基板や有機膜に損傷を与えることなく、高精度で所望の有機膜等を成膜可能とした有機ＥＬ表示パネルの製造方法と、この方法で製造した有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】 蒸着マスク２１に表示パネルのパネルパターン領域に対応した開口部１０３を有する。この開口部１０３は、蒸着マスク２１が基板１０１と接触する面から後退させた凹面内の底面に有し、蒸着マスク１０１の開口部１０３を基板１０１から所定のギャップ空間２３をもって離間して蒸着源１０５からの蒸着粒子粒を開口部１０３を通して基板１０１に蒸着する （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ表示パネル内に水分が浸入することを確実に防止して、水分による経時劣化を確実に防止することが可能な有機ＥＬ表示パネルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 樹脂層１１の中には金属層１２が形成されている。金属層１２は、有機ＥＬ表示パネルの周縁部に沿って延びる細長い突条であり、その厚み方向ｔで有機ＥＬ素子基板２と封止基板３にそれぞれ接している。金属層１２は、柔軟でかつ、耐腐食性がある金属、例えば、Ａｕから形成されていればよい。このような金属層１２は、例えば、その断面形状の少なくとも一部が厚み方向ｔに対して傾斜していればよく、図２においてはその断面が台形を成している。 （もっと読む）

【課題】蒸着対象となる基板とメタルマスクとの位置ずれを抑制することが可能な表示装置の製造装置及び表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 表示素子を画素毎に備えた表示装置の製造装置であって、有機活性層を構成する第１機能層を蒸着する第１チャンバ２１０と、各画素に対応した開口部を有するメタルマスク２２２を備え第１機能層上における画素毎にメタルマスク２２２を介して第２機能層を蒸着する第２チャンバ２２０と、第１チャンバ２１０と第２チャンバ２２０とを接続し第１機能層を蒸着済みの処理基板ＳＵＢを第２チャンバ２２０に搬送する搬送チャンバ２３０と、搬送チャンバ２３０内の処理基板ＳＵＢを所定温度に保温する保温機構２４０と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィー法の現像工程における現像性を向上させる。
【解決手段】 所定の基板上に現像液を浸透する犠牲層を形成する犠牲層形成工程と、上記犠牲層上にフォトレジストからなるバンク層を形成するバンク層形成工程と、上記バンク層をマスクを介して露光する露光工程と、上記露光工程後の上記バンク層を現像液によって現像する現像工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】塗布禁止領域に付着した流動性材料を除去し、塗布領域のみに流動性材料が定着した基板を容易に得る。
【解決手段】塗布システム１は、処理ユニット群２、インデクサ３およびマルチ搬送ロボット４を備え、処理ユニット群２は、有機ＥＬ塗布ユニット２４、有機ＥＬベークユニット２５および有機ＥＬ除去ユニット２６を含む。塗布システム１では、処理ユニット群２において、有機ＥＬ塗布ユニット２４により塗布領域および塗布禁止領域に有機ＥＬ液が塗布され、有機ＥＬ除去ユニット２６により塗布禁止領域にレーザ光が照射されて塗布禁止領域から有機ＥＬ液が除去される。その後、有機ＥＬベークユニット２５により基板に対する加熱処理が行われることにより、有機ＥＬ液が基板上に定着して有機ＥＬ層が形成される。このように、塗布システム１では、塗布領域のみに有機ＥＬ液が定着されて有機ＥＬ層が形成された基板９を容易に得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ素子基板と封止基板とを封止するシール材が未硬化の状態で流出しても、有機ＥＬ表示パネルを構成する有機ＥＬ素子の特性を損なうことがない有機ＥＬ表示パネルを提供する。
【解決手段】 複数の陽極電極３０と陰極電極８との間に有機発光層７が挟持されてなる有機ＥＬ素子基板２と、有機ＥＬ素子基板２に対向して設けられる封止基板１１と、封止基板１１の外縁部に配設され、有機ＥＬ素子基板２と封止基板１１とを封止するシール材４とを備える有機ＥＬ表示パネルであって、複数の陰極電極３０を分離する隔壁９が形成されてなる隔壁形成領域Ｋとシール材４との間に突条２０を配置する。 （もっと読む）

【課題】凸版の低位部や凹部に有機発光材料のインキ液が流入しないように凸版の画線部である凸状部の頂部面はインキ液との親和性を有する層により形成し、凸版の非画線部である凸状部の頂部面より低位部及び凹部を形成する部分、即ち該凸状部を支持する支持体部分をインキ液に対して撥液性を有する層にて形成する。
【解決手段】凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部１Ａの被印刷物と接触する頂部面１Ｂは、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該頂部層１Ｂを支持する凸状部１Ａ又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなり、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が少なくとも１０度以上大きい。 （もっと読む）

【課題】基板と、基板に支持された第一電極と、第一電極の上方に配置された有機発光媒体層と、有機発光媒体層の上方に配置された第二電極とを具備する有機ＥＬ素子の製造方法であって、抜けが無く厚みの均一な膜の有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光媒体層は有機発光層と発光補助層から構成され、発光補助層は、支持体上に発光補助材料を含むインキを供給して発光補助層を積層し、支持体上に発光補助層を備えた転写体と、発光補助層の不要部に対応する凸部を備えた凸刷版とを、発光補助層と凸刷版の凸部とが対面するように接触させ、転写体から、発光補助層の不要部を除去することによって発光補助層のパターニングを行い、支持体上にパターニング済みの発光補助層を備えた転写体と、基板上に第一電極を備えた被転写体とを、発光補助層と被転写体とが対面するように接触させ、転写体から発光補助層を被転写体上に転写して形成される。 （もっと読む）

【課題】
非画線部を凸部とし、画線部を凹部とする凹凸表面を有する除去版とを、前記インキ層と凸部が対面するように密着させて、前記凸部に密着した非画線部のインキ層を選択的に凸版に転写させてブランケットから除去し、次に、非画線部のインキ層が除去されたブランケットを被印刷基板に密着させて、画線部に既存するブランケット上のインキを被印刷基板に転写する凸版反転オフセット印刷法において、ダミーの基板を用意し、ダミー基板に対して印刷をおこない、インキの溶媒によってブランケットのシリコーンゴム層を膨潤させ、インキの転移状態を確認するという「空刷り」といった不必要な印刷を低減することで、インキの工数や使用量を削減することができるパターン形成方法とする。
【解決手段】
前記ブランケットのシリコーンゴム層を溶媒により膨潤させ、膨潤させたシリコーンゴム層にインキ層を備えたことを特徴とするパターン形成方法とする。 （もっと読む）