【課題】塊成化物に対してマイクロ波を効率良く照射することが可能な、塊成化物の加熱還元装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る塊成化物の加熱還元装置１０は、酸化鉄原料と還元材とを混合して成形した塊成化物を、バーナー及び炉壁からの輻射熱により加熱する固体還元炉６と、固体還元炉の後段に金属壁を用いて形成されており、固体還元炉により処理された塊成化物をマイクロ波により加熱するマイクロ波加熱室４０と、を備え、マイクロ波加熱室は、当該マイクロ波加熱室の内部に挿入された、マイクロ波を導波する１又は複数の導波管１０９を有する。 （もっと読む）

【課題】固体還元炉の内部に対してマイクロ波を効率良く照射することが可能な、固体還元炉を提供すること。
【解決手段】本発明に係る固体還元炉は、酸化鉄原料と還元材とを混合して成形した塊成化物を、バーナー及び炉壁からの輻射熱により加熱して還元鉄を製造する固体還元炉において、固体還元炉の内部に挿入された、塊成化物を加熱するためのマイクロ波を導波する１又は複数の導波管と、それぞれの導波管の外周に設けられ、導波管を水冷する冷却機構と、冷却機構の外周に設けられる断熱耐火材と、を備えており、導波管の固体還元炉の内部に位置する端部は、開口端となっており、導波管の開口端からエア又は不活性ガスが放出される。 （もっと読む）

【課題】内容物の流通時に短絡を防止できる、横型のフロー式のリアクターを有する化学反応装置を提供する。
【解決手段】内部が複数の仕切り板によって複数の室に仕切られており、液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター１３と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器１４と、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波を、リアクター１３の未充填空間に伝送する１以上の導波管１５と、を備え、内容物は、仕切り板の上方をオーバーフローで流れるものであり、各室において、流入側の堰高が、流出側の堰高より、流出側の仕切り板における越流深以上高い。 （もっと読む）

【課題】導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を適切に加熱することができるマイクロ波加熱装置及びマイクロ波加熱方法を提供する。
【解決手段】導波管１６ａに波長範囲１ｍ〜１ｍｍのマイクロ波を供給しつつ、この導波管１６ａの中において、導体の膜または導体を分散させた分散物の膜を形成した基板２４を、上記膜の形成面が前記マイクロ波の磁力線方向と略平行になり、かつ上記マイクロ波の磁界の最大点を含んだ位置に配置し、またはその位置を移動させる。 （もっと読む）

【課題】
帯状の基材に粘着剤層が形成された粘着シートを製造すべく、基材に形成されたエマルション粘着剤溶液を乾燥するための粘着シート製造用乾燥装置であって、粘着シートの乾燥装置へのセッティングや乾燥装置のメンテナンスが簡便に行えるとともに、粘着シートの自重による撓みを抑制し、粘着シートの乾燥装置への接触を防止することを課題とする。
【解決手段】
粘着シート製造用乾燥装置には、搬送コンベア、マイクロ波導波路部材が備わっており、マイクロ波導波路部材は、２枚の鋼板に設けられた溝を対向させることによってマイクロ波導波路が形成されたものであり、マイクロ波導波路部材には、搬送コンベアと粘着シートを通過させるためのスリットが設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ビンの蓋を加温するとパッキンの粘着力が小さくなり軽く開くことが一般的に知られている。本発明は、コードのある電熱器を使用せず、身近な台所用品を活用してビンの蓋を加温する使い勝手の良い方法を提供する。
【解決手段】リング状に繋がった誘電加熱導体１を内蔵した装置を電子レンジの中に入れて一定時間通電すると誘導電流により発熱する。一定の温度または電流値を超えると膨張により誘電加熱導体の一部が離れ、電流が遮断して発熱が止まる。耐熱柔軟素材の摩擦抵抗の大きいパッドに熱が伝わり、電子レンジから取り出して一定時間蓋に密着させると蓋３の粘着力が小さくなり容易に開く状態になる。ツマミ４を摘むとツマミが内側に移動し、てこの原理で蓋を強く挟みこみ下方に押しつけて回すと、パッドの摩擦抵抗とツマミの挟み込み力とで滑ることなく蓋が開く。他の加温方法として蓄熱パッドやHIヒーターあるいは温水を用いても良い。 （もっと読む）

【課題】効率良く短時間で流体を加熱する方法を提供すること。
【解決手段】炭素質物を流体中に存在させてなる被加熱体にマイクロ波を照射して加温流体を製造する方法であって、該炭素質物が、耐酸化性炭素質物、又は、難燃化剤と炭素源物質との混合物を熱処理して得られた難燃化剤処理炭素質物であることを特徴とする加温流体の製造方法、該加温流体を用いた殺菌方法、抽出方法、発電方法、及び、リン、ホウ素又は金属原子を含有する難燃化剤と炭素源物質との混合物を熱処理して得られた難燃化剤処理炭素質物であって耐酸化性炭素質物であることを特徴とするマイクロ波照射材料。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波を利用して乾燥炉内に装入された塊成化物の下層部位を選択的に加熱すること。
【解決手段】本発明に係るマイクロ波乾燥装置は、被乾燥物をコンベアにより搬送する際に当該被乾燥物に対して熱風を吹き付けることで被乾燥物に含まれる水分を低減させる熱風式の乾燥炉に対して設置され、被乾燥物を乾燥させるために用いられるマイクロ波を発振するマイクロ波発振機と、コンベアの直上に設けられ、マイクロ波を導波する導波管の上面に複数の開口部を有し、当該複数の開口部それぞれから被乾燥物に対してマイクロ波を照射する複数のスリットアンテナとを備え、複数のスリットアンテナの開口部が乾燥炉幅方向の全体を覆うように、複数のスリットアンテナが被乾燥物の搬送方向に配置される。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波を利用して乾燥炉内に装入された被乾燥物の下層部位を選択的に加熱すること。
【解決手段】本発明に係るマイクロ波乾燥装置は、被乾燥物をコンベアにより搬送する際に熱風を吹き付ける熱風式の乾燥炉に対して設置され、マイクロ波を発振するマイクロ波発振機と、被乾燥物層の内部に対し、加熱範囲が被乾燥物層の最下層を含む深さまで挿入された複数の導波管と、コンベアの直上に設けられ、複数の開口部を有する複数のスリットアンテナとを備え、導波管それぞれの加熱範囲及びスリットアンテナの開口部が全体として乾燥炉の炉幅方向の全体を覆うように設けられる。 （もっと読む）

【課題】処理室内において処理空間から非処理空間へのマイクロ波の漏洩を抑制し、非処理空間内の基板搬送口等に設けられるＯリングの焼損やパーティクルの発生を抑制する手段を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室１１０を形成し導電性の壁で構成される処理容器１８と、処理室内に設けられ、基板が載置される側の基板載置面と該基板載置面と垂直な側壁とを有する導電性の基板支持台１２と、基板加熱処理時における基板載置面側の空間である処理空間へマイクロ波を供給するマイクロ波供給部２３と、基板加熱処理時における基板載置面と反対側の空間である非処理空間１３０を形成する処理容器の壁に設けられ、基板を処理室内外へ搬送する基板搬送口７１と、基板支持台の側壁又は該側壁に対向する処理容器の内壁に設けられ、処理空間へ供給されたマイクロ波が非処理空間へ通過することを抑制するマイクロ波通過抑制用の溝１７と、を備えるた基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】
効率的なアニール処理を行うことが可能な半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。
【解決手段】
実施形態の半導体製造装置は、マイクロ波の照射により成長するグレインを少なくとも一部に有する基板を載置するサセプタと、前記基板に対してマイクロ波を照射する照射部と、前記照射部が照射する前記マイクロ波の周波数を、前記グレインの共鳴周波数に近づけるように、前記照射部を制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波処理装置において被処理体に対して均一な処理を行う。
【解決手段】マイクロ波処理装置１は、ウエハＷを収容する処理容器２と、ウエハＷを処理するためのマイクロ波を生成する少なくとも１つのマグネトロン３１を有し、マイクロ波を処理容器２に導入するマイクロ波導入装置３と、マイクロ波導入装置３を制御する制御部８とを備えている。制御部８は、ウエハＷを処理するための状態が継続している間に、マイクロ波の周波数を変化させる。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波処理装置において被処理体に対して均一な処理を行う。
【解決手段】マイクロ波処理装置１は、ウエハＷを収容する処理容器２と、マイクロ波導入装置３と、制御部８とを備えている。マイクロ波導入装置３は、マイクロ波を生成する複数のマグネトロン３１を有し、制御部８は、ウエハＷを処理するための状態が継続している間に、複数のマグネトロン３１の各々を任意に組み合わせた複数の組み合わせ毎に、且つ、各組み合わせ内で同期して、マイクロ波を生成する状態とマイクロ波を生成しない状態とが交互に複数回繰り返されるように、複数のマグネトロン３１を制御する。 （もっと読む）

【課題】シングルモードの空胴共振器を使用したマイクロ波装置に関し、被処理液の流量を多くして均一に効率良く処理可能にする。
【解決手段】被処理液とは異なる誘電率を有すると共に被処理液の流れを乱す障害手段６３を収容してあり、照射室内に生じる電界方向に対し軸線を沿わせて、空胴共振器の照射室に設置される流通管６０を提案する。この流通管をマイクロ波装置の照射室に設置すると、被処理液を流す流通管内において電界分布が一様ではなくなり、被処理液に吸収されるマイクロ波が抑制され、Ｑの低下が抑えられて同調が外れにくくなるので、被処理液の流量を増やすことができる。 （もっと読む）

【課題】耐久性を有し軽量な、マイクロ波によって発熱する発熱性ゴムを提供する。
【解決手段】本発明に係る発熱性ゴムの例はシリカ、シリコーンポリマー、酸化鉄及び炭素の混合物である。耐熱性の高いゴムであるシリコーンポリマー及び発熱性ゴムの硬度を増すために添加されているシリカはマイクロ波を吸収しないため、マイクロ波を照射しても発熱しない。一方、酸化鉄及び炭素はマイクロ波を照射されることにより発熱する。各物質のこのような性質からマイクロ波を照射することにより発熱する発熱性ゴムが実現される。なお、シリカが添加されたシリコーンポリマーの一部若しくは全部に代えて２５０℃程度までの耐熱性のあるフッ素樹脂を用いてもよく、酸化鉄及び炭素の一部若しくは全部に代えて、酸化アルミニウム、酸化亜鉛等又は炭化ケイ素等の一つ又は複数を用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】核燃料の再処理溶液を、加熱ムラを発生させることなく、効率的に加熱粉体化できる方法を提供すること。
【解決手段】円筒型マイクロ波オーブンを用いて使用済み核燃料の再処理溶液を加熱粉体化する方法である。加熱時に例えば開放同軸型マイクロ波センサーを用いて、再処理溶液の複素比誘電率及び誘電損率をリアルタイムに測定して、再処理溶液の相状態を検出し、検出された再処理溶液の相状態（液相、液固混相、固相）に応じて、直線偏波、直交偏波、又は円偏波が、マイクロ波オーブンへ給電される。 （もっと読む）

【課題】被処理体に対してマイクロ波を照射しながら、これとは別個独立して被処理体の温度制御を行うことができるマイクロ波照射装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置２において、真空排気が可能になされた処理容器４と、被処理体を支持する支持台６と、処理ガスを導入する処理ガス導入手段１０６と、マイクロ波を導入するマイクロ波導入手段７２と、被処理体を加熱する加熱手段１６と、被処理体を冷却ガスにより冷却するガス冷却手段１０４と、被処理体の温度を測定する放射温度計６４と、放射温度計の測定値に基づいて加熱手段とガス冷却手段とを制御することにより被処理体の温度を調整する温度制御部７０とを備える。これにより、被処理体に対してマイクロ波を照射しながら、これとは別個独立して被処理体の温度制御を行う。 （もっと読む）

【課題】加熱効率のよいマイクロ波加熱用断熱材を提供する。
【解決手段】無機酸化物を基材とするマイクロ波加熱用の断熱材であって、微細なカーボン粒子を断熱材に分散させたことにある。カーボンの割合は、０.００１〜６ｗｔ％であることが好ましい。また、断熱材の密度を２〜６ｇ／cm³とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】複数のマグネトロンを用いて反射電力を少なくしてマイクロ波を照射することができるマイクロ波照射装置およびマイクロ波照射方法を提供すること。
【解決手段】マイクロ波照射装置１００は、被処理体を収容するチャンバ１と、電圧が供給されることによりマイクロ波を発生させ、そのマイクロ波を前記チャンバ１内の被処理体に照射するための複数のマグネトロン１０ａ，１０ｂと、これら複数のマグネトロン１０ａ，１０ｂにパルス状電圧を供給する電源部２０とを具備し、電源部２０は、複数のマグネトロン１０ａ，１０ｂにそれぞれ供給されるパルス状電圧の電圧パルス同士が時間的に重ならないように電圧を供給する。 （もっと読む）