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Fターム[3K090BA03]の内容

高周波加熱[構造] (3,295) | 加熱源 (345) | 固体高周波発振器 (48)

Fターム[3K090BA03]に分類される特許

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【課題】高炉製銑法に代わり、高エネルギ効率で溶融銑鉄を製造することができ、また所謂都市鉱山から貴金属等を回収することができ、更に、シリコン基板を高効率で製造することができるマイクロ波加熱炉を提供する。
【解決手段】マイクロ波ビームは、円筒状の支持板からこの円筒中心に配置された溶解炉10の反応容器11に向けて照射され、この間に、電力密度を増加させる。マイクロ波ビームは、溶解炉10のマイクロ波窓14から溶解炉10内部に導入され、副反射鏡16で反射して主反射鏡13に向かい、主反射鏡13で反射して、反応容器11の容器空間内の収容物12に向かう。収容物12及び反応容器11からは、赤外線が放射されるが、この赤外線は、主反射鏡13の一部に設けられた段差反射面15により反射して、収容物12に戻る。マイクロ波ビーム及び赤外線が、主反射鏡13と反応容器11との間に閉じ込められて、収容物12が加熱される。 (もっと読む)


【課題】被加熱物体の異なる位置の間で温度差が生じるホットスポット、及び構造によって生じる、不均一な加熱の問題を改善する。
【解決手段】物体を加熱することができる量のUHFまたはマイクロ波エネルギーに被加熱物体をさらす工程と、物体によって吸収される所望の量のエネルギーを決定する工程と、所望の量のエネルギーが吸収されたときに電磁加熱を調整する工程とを含む、電磁加熱の方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】反射電力を最小とする2箇所の給電部間の位相差より、被加熱物の配置を検知することで、最適な加熱条件を把握でき、さまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を短時間で所望の状態に加熱し、同時に効率よく動作するマイクロ波処理装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波は、2波長以下の間隔に配置した2箇所の給電部5a、5bから加熱室8に放射される。加熱室8から戻る反射電力を最小にする位相差より被加熱物の配置を検知して、最適な加熱条件で制御することで、さまざまな形状・種類・量の異なる被加熱物を短時間で所望の状態に加熱し、同時に効率よく動作させることができる。 (もっと読む)


【課題】各アンテナから放出されたマイクロ波の電力を効果的に空間合成し、加熱室内に強い電界を発生させ、食品の加熱効率を改善できるマイクロ波加熱装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波加熱装置は、マイクロ波を発生するマイクロ波発生部101と、被加熱物を収納する加熱室104と、マイクロ波発生部101が発生したマイクロ波を加熱室104に供給するための少なくとも2個のアンテナ103a、103bとを備え、少なくとも2個のアンテナ103a、103bは、加熱室104の同一面に配置され、かつ、少なくとも2個のアンテナ103a、103bにおける各給電点の位置がマイクロ波の波長以下の間隔になるように配置されている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を用いてマイクロ波を発生するマイクロ波処理装置において、アイソレータを用いずに、簡単な構成で半導体素子を破壊から保護するマイクロ波加熱制御シーケンスを用いた加熱処理装置を提供する。
【解決手段】本加熱に入る前に、半導体素子が全反射しても破壊しない程度の微小電力で透過波/反射波検出手段1において、透過電力信号Vfと反射電力信号Vrの比が最小となる反射最小周波数を制御部2で検出・選択し、反射の影響を極小化する。本動作をプリサーチと呼び、本加熱後も適宜プリサーチを実施し、反射最小周波数を修正することにより、反射波から半導体素子を保護する信頼性の高いマイクロ波処理装置をアイソレータ無しで提供するものである。 (もっと読む)


【課題】設備の大型化を避けて小型化を可能にしつつ、マイクロ波及びマイクロ波プラズマの利点を最大限に活かして焼成できるようにした、マイクロ波照射装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波を発生する固体マイクロ波源と、固体マイクロ波源で発生したマイクロ波を被照射体に照射するための照射部3とを備えたマイクロ波照射装置である。照射部3は、固体マイクロ波源で発生したマイクロ波が供給される、軸方向に延在して配置された中心導体22と、この中心導体22の周囲に設けられてこの中心導体22と同心円状に形成された円筒状の外側導体23と、を有してなるTEMモード共振器からなっている。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を用いてマイクロ波を発生するマイクロ波処理装置においてアイソレータを用いずに簡単な構成で半導体素子を破壊から保護するマイクロ波加熱制御シーケンスを用いた加熱処理装置を提供する。
【解決手段】加熱に入る前に半導体素子が全反射しても破壊しない程度の微小電力で透過波/反射波検出手段1において反射最小周波数における透過電力信号Vfと反射電力信号Vrの比を制御部2で検出し、その値で反射の大小を判断し加熱時のマイクロ波出力レベルを変化させ、反射波が小さい時には定格の加熱出力で通常動作し、逆に大きな反射波が発生したときには加熱出力を低下させ反射波から半導体素子を保護する信頼性の高いマイクロ波処理装置をアイソレータ無しで提供するものである。 (もっと読む)


【課題】加熱室の複数面に給電部を設け外観を大きく見せずに大きなマイクロ波出力を得るとともに電磁波分布を所望の電磁波分布を自在に得る。
【解決手段】給電部5a〜5h以外のマイクロ波発生部品を扁平なマイクロ波モジュール24としてコンパクトに集約ユニット化し、複数壁面と複数の給電部をもつ加熱室6と筐体の外郭を形成するボディ26の間の微小な空間にマイクロ波モジュール24を収納して外郭はコンパクトで加熱室容積は従来と同等に維持し、複数の給電部から放射されるマイクロ波で大きな電力を加熱室6内に放射可能にするとともに、複数の給電部から放射されるマイクロ波の相互干渉により自在な加熱分布を形成することを可能とする。 (もっと読む)


【課題】被加熱物の形状に対応して加熱室内に高周波電界の強い領域を空間的に形成しその高周波電界を利用して被加熱物を加熱する新規なマイクロ波処理装置を提供する。
【解決手段】円筒形状で低次のTEモードを生じさせる加熱室10、その一端に蒸気発生部14を内蔵した開閉部11、加熱室底壁面10aには、ループ面は底壁面中央を向くように配設した位相差180度の給電部12a、12b、加熱室10に内蔵させた誘電体容器13を配する。加熱室10には周波数可変機能を有するマイクロ波発振部101を有するマイクロ波発生部100から給電部12a、12bを介してマイクロ波を供給する。
そして周波数可変の機能により、形状・種類の異なる被加熱物に対してマイクロ波を効率よく供給でき、加熱室10内に所望の分布であって高い電界強度を有する高周波電界を形成でき、被加熱物を所望の状態に加熱処理させることができる。 (もっと読む)


【課題】加熱室の下方壁面に配置した加熱処理装置の簡素な構成でものづくり及びサービス性に優れた実装形態を提供する。
【解決手段】部品載置板8をベースにしてパワーユニット1a〜1d、駆動電源部2、中央集中統合部3、制御部4を固定一体ユニット化して、パワーユニット1a〜1dに設置された電力伝播軸23a〜23dを加熱室6に穿った孔に嵌合させ、部品載置板8をボディー24の開口25に取り付けた後、電力伝播軸23a〜23dに給電部5a〜5dを取り付ける構成とするため、ものづくりの簡素化、部品のハンドリングの容易さ、サービス性が飛躍的に改善される。 (もっと読む)


【課題】加熱室の壁面に配置した給電部の励振電界の向き制御によりマイクロ波分布を操作することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。
【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の底壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の励振電界の向き、位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。 (もっと読む)


【課題】被加熱物にマイクロ波を照射する際、マイクロ波が強く照射される指向性を制御して、高い加熱効率と加熱の仕上がり具合の向上を実現する。
【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の底壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物9に対して反射電力を最小に抑制し、指向性を被加熱物9に向け操作した高効率な加熱を実現させることができる。 (もっと読む)


【課題】加熱室の底壁面に略対称に配置した給電部間の位相差制御によりマイクロ波分布を操作することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。
【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の底壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物9に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。 (もっと読む)


【課題】食品の加熱中の変化に応じて反射波が最小になる周波数が変化すること。
【解決手段】加熱室5へ供給される入射波電力、または加熱室5から戻ってくる反射波電力を制御部レベルの小信号に減衰させるための入射波または反射波の検波回路12a〜12dにおいて、低電力で動作するプリサーチ期間は検波回路12a〜12dへの減衰効果を少なめにしつつ電圧印加を低くし、実際に被加熱物9を加熱する大電力で動作する本サーチ期間は、減衰効果を大きくして同じく電圧印加を低くして加熱中常に制御部4で入射波及び反射波を制御監視することを可能にし、半導体素子を破壊から阻止することを可能にすると伴に、反射波が大きくなった時だけ低出力でのプリサーチを実施する構成であるためプリサーチ期間の頻度を減少させることができる。 (もっと読む)


【課題】加熱室の底壁面に略対称に配置した給電部間の位相差制御によりマイクロ波分布を操作することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。
【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物9に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。 (もっと読む)


【課題】食品の加熱中の変化に応じて、反射波が最小になる周波数が変化してしまう。
【解決手段】複数の半導体発振部1a〜1dに繋がる出力部2a〜2dを有するマイクロ波発生部3a〜3dと、加熱室5と反射波レベルを常時監視する反射波モニター部6a〜6dと、その信号を受け出力をコントロールする制御部4と、破壊に至らないためのしきい値10とを備え、反射波モニター部6a〜6dの信号の各々の値がしきい値10を超えると半導体発振部1a〜1dの出力をしきい値10以下になるように負帰還制御をかけることで半導体を破壊から阻止する。 (もっと読む)


【課題】複数の給電部それぞれから放射されるマイクロ波を最適に結合させて、被加熱物を所望の状態に加熱する。
【解決手段】加熱室10の底壁面13の略中央に加熱室の外側に向かって凸とした略四角形の凸部16を形成し、凸部16の各側壁面に給電部17a〜17dを配する。マイクロ波発生手段20から各給電部17a〜17dに供給されるマイクロ波の位相は制御部31が制御する。各給電部17a〜17dから放射されたマイクロ波は、凸部16内で衝突し結合して、位相変化に応じた特有の放射分布を形成する。この放射分布を利用して凸部16上方に載置された被加熱物を所望の状態に加熱する。 (もっと読む)


【課題】被加熱物が載置されていない状態での加熱動作を防止する。
【解決手段】発振部2、電力増幅部3、被加熱物7を収納する加熱室6、加熱室6の壁面に配置されマイクロ波発生部の出力が伝送されそのマイクロ波を加熱室6内に放射供給する給電部5、給電部5から電力増幅部3に反射される電力を検出する電力検出部4を備え、被加熱物7なしのときの反射電力の周波数特性を制御部8が記憶しており、測定値と記憶値を比較することによって被加熱物7の有無を判定し、被加熱物7なしでの加熱動作を防止するので、マイクロ波処理装置の損傷を防止できる。 (もっと読む)


【課題】被加熱調理具の材質、肉厚、形状等に制約されず、被加熱調理具を効率的に加熱して調理することを可能にする。それぞれの用途に応じた各種被加熱調理具を効率的に加熱することができ、該被加熱調理具の加熱手段として汎用化して低コスト化する。制御手段を簡易化することができ、装置自体を低コスト化する。
【解決手段】上面が開口した有底形状で、金属材からなるシールドケースと、該シールドケース内にマイクロ波を出力するマイクロ波発振手段と、シールドケースの上面開口部内に装着される被加熱調理具と、少なくとも被加熱調理具の底面に取付けられ、シールドケース内に出力されるマイクロ波の電波吸収作用により発熱するマイクロ波吸収部材とを備える。マイクロ波の電波吸収作用により発熱するマイクロ波吸収部材により被加熱調理具を所要の温度に加熱して調理可能にする。 (もっと読む)


【課題】複数の給電部を加熱室壁面に最適配置し、夫々の給電部からの放射マイクロ波の周波数および位相差を最適化することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。
【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物に対して反射電力を最小に抑制し高効率な加熱を実現させることができる。 (もっと読む)


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