【課題】被処理体の表面の材料に影響を受けることなく面内の温度の均一性を維持したまま高速で昇降温させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対して所定の熱処理を施すようにした熱処理装置において、前記被処理体を収容する処理容器４と、前記被処理体を載置する載置台２８と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系２４と、前記被処理体に対して加熱用の電磁波を照射する電磁波供給手段５６と、前記被処理体に対してプラズマが立たないような高真空の圧力下、又は電磁波照射エネルギー密度を落とした状態で前記電磁波を照射するように制御する制御手段７８とを備える。これにより、被処理体の表面の材料に影響を受けることなく面内の温度の均一性を維持したまま高速で昇降温させる。 （もっと読む）

【課題】スペースを節約する方法で、マイクロ波発生装置から被照射調理物へマイクロ波ビームを伝送する。
【解決手段】調理装置（２）は、調理室（１）と、マイクロ波発生装置と、マイクロ波発生装置に接続され、かつマイクロ波発生装置によって発生されるマイクロ波ビームが調理室（１）の内部で出射可能である調理室（１）の内部の少なくとも１つの同軸−またはストリップ伝送路を備える。少なくとも１つの同軸−またはストリップ伝送路が調理装置（１）の少なくとも１つの部材の中に支柱または固定支持体（７）の形態で調理室（１）の内部にまたは調理室の中に収容可能の少なくとも１つの付属部品（７、８）の中に組み込まれ、支持体（７）が差し込み可能の調理容器、プレート、板および／または槽の担持に利用され、かつ／または付属部品（７、８）が棚、可動オーブンラックまたは可動板ラックを含む。 （もっと読む）