【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタの作製工程において、酸化物半導体層、ソース電極層、ドレイン電極層、ゲート絶縁膜、ゲート電極層、酸化アルミニウム膜を順に作成した後、酸化物半導体層および酸化アルミニウム膜に対して熱処理を行うことで、水素原子を含む不純物が除去され、かつ、化学量論比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体層を形成する。また、酸化アルミニウム膜を形成することにより、該トランジスタを有する半導体装置や電子機器の作製工程での熱処理でも大気から水や水素が酸化物半導体層に侵入し、拡散することを防止することができ、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 （もっと読む）

【課題】回路の配線等の寄生容量に起因して生じる誤点灯を防止し表示品質を向上する。
【課題手段】表示部１０の各コモンラインＣと接続されており、任意のコモンラインＣを選択すると共に、該選択を切り替える走査部と、表示部１０の各駆動ラインＳと接続されており、走査部で選択されたコモンラインＣに接続された発光素子を駆動可能な駆動部と、を備える発光装置であって、発光装置がさらに、走査部で選択されたコモンラインＣに接続された任意の発光素子を、駆動部で駆動して点灯させる点灯期間と、該点灯期間に続いて、該コモンラインＣを選択状態としたまま、任意の発光素子１が接続された駆動ラインＳの駆動を非駆動状態とし、該駆動ラインＳの寄生容量を充電するための充電期間を設ける充電手段４１を備える。 （もっと読む）

【課題】表示像と透過像をくっきりと知覚できる透明ディスプレイパネルを提供すること。
【解決手段】本発明は、セル毎に発光部と前記発光部の発光を制御する制御部、２つの透明電極部とを設けたディスプレイパネルにおいて、前記発光部を含んだ透過部の形状は縦、横の長辺はともに200μm以上〜1200μm以下である透明ディスプレイパネルである。この構成により、高解像の表示像、また良好に知覚できる表示像と透過像を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】防湿フィルムを複数使用してバリア性を向上した場合であっても、防湿性が極めて高く、かつ各防湿フィルム間に発生する気泡の量を低減することができる積層防湿フィルム、特に、太陽電池モジュール用表面保護材に使用しうる積層防湿フィルムを提供する。
【解決手段】下記防湿フィルム（ａ）及び防湿フィルム（ｂ）が接着剤層を介して積層された構成を有することを特徴とする積層防湿フィルム。
（ａ）環状オレフィン系重合体を含む樹脂組成物からなる層を少なくとも一層有し、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過率(ＷＴＲ(Ａ))が１．０[ｇ／ｍ²・日]以下である防湿フィルム
（ｂ）基材の片面に無機層を有し、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過率（ＷＴＲ(Ｂ))が前記防湿フィルムの値の１０％以下である防湿フィルム （もっと読む）

【課題】安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい半導体装置
を提供することを課題の一とする。また、高信頼性の半導体装置を低コストで生産性よく
作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層、ソース領域及びドレイン領域を酸化物半
導体層とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層
の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のため
の加熱処理）を行う。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、少なくとも酸化物半導体膜中に希ガスイオンを注入する注入工程を行い、減圧下、窒素雰囲気下、又は希ガス雰囲気下において、希ガスイオンを注入した酸化物半導体膜に加熱工程を行って希ガスイオンを注入した酸化物半導体膜中に含まれる水素若しくは水を放出させ、酸化物半導体膜を高純度化する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。
【解決手段】酸化物半導体層を含むトランジスタの作製工程において、酸化シリコン膜上に、酸化物半導体が結晶状態における化学量論的組成比に対し、酸素の含有量が過剰な領域が含まれている非晶質酸化物半導体層を形成し、該非晶質酸化物半導体層上に酸化アルミニウム膜を形成した後、加熱処理を行い該非晶質酸化物半導体層の少なくとも一部を結晶化させて、表面に概略垂直なｃ軸を有している結晶を含む酸化物半導体層を形成する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行い、その後、酸化物半導体膜及び酸化物半導体膜上に設けられた酸化アルミニウム膜に対して熱処理を行うことで、化学量論的組成比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体膜を形成する。該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験（ＢＴ試験）前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減されており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 （もっと読む）

【課題】発光素子の寸法が小さい場合にも、隣接するカラーフィルタを通過した光の回折による混色を抑えることが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】複数の発光素子と、複数の発光素子に対向する透過色領域および透過色領域の一部に設けられた半透過領域を有するカラーフィルタとを備えた表示装置。 （もっと読む）

【課題】精細かつ高スループットの導電性素子を提供する。
【解決手段】導電性素子は、第１の波面、第２の波面および第３の波面を有する基体と、第１の波面上に設けられた第１の層と、第２の波面上に形成された第２の層とを備える。第１の層は２以上の層が積層された積層構造を有し、第２の層は第１の層の一部の層からなる単層構造または積層構造を有し、第１の層および第２の層は導電パターン部を形成する。第１の波面、第２の波面および第３の波面が０≦（Ａｍ１／λｍ１）＜（Ａｍ２／λｍ２）＜（Ａｍ３／λｍ３）≦１．８（但し、Ａｍ１：第１の波面の振動の平均幅、Ａｍ２：第２の波面の振動の平均幅、Ａｍ３：第３の波面の振動の平均幅、λｍ１：第１の波面の平均波長、λｍ２：第２の波面の平均波長、λｍ３：第３の波面の平均波長）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】 包装材料や電子デバイス等に使用でき、低湿度から高湿度の広い範囲で酸素バリア機能を持つガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】 樹脂基材層（１）と、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリカルボン酸、及びポリエチレンイミンから選ばれる少なくとも１種の水溶性または水膨潤性を有する樹脂を有するバリア層（２）と、オルト配向芳香族ジカルボン酸またはその無水物と多価アルコールを主成分として重縮合して得た非晶性ポリエステルポリオール（Ａ）、及び水酸基と反応する硬化剤とを含有するバリア層（３）とを有するガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】無電解メッキパターンを正確に形成できる無電解メッキパターン形成用組成物、塗布液、及び無電解メッキパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】表面を有機物１０３で修飾されるとともに、前記表面１０３に触媒金属微粒子１０５を担持した金属化合物粒子１０１を含む無電解メッキパターン形成用組成物。前記有機物１０３としては、3-ヒドロキシ-4-ピロン誘導体、又は1,2-ジオールが挙げられる。前記触媒金属微粒子１０５としては、パラジウム、銀、白金、ニッケル、及び銅からなる群から選ばれる１種以上の微粒子が挙げられる。 （もっと読む）

【課題】十分な反射防止性を有しながら耐傷性の向上した反射防止フィルムを提供すること。
【解決手段】透明支持体上に、低屈折率層形成用塗布組成物を塗布し光照射して最外層に低屈折率層を形成する反射防止フィルムの製造方法であって、
前記低屈折率層形成用塗布組成物が、含フッ素ポリマー及び外殻の内部に１つの空孔を有する屈折率１．１７〜１．４０の中空シリカ微粒子を含有し、
該含フッ素ポリマーが、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位とを構成成分とする含フッ素共重合体であり、かつ
前記中空シリカ微粒子の平均粒径が該低屈折率層の厚みの３０％以上１００％以下であることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 信頼性及び色再現性の高い電子装置を提供する。
【解決手段】 単結晶半導体基板１１上にスイッチング用ＦＥＴ２０１及び電流制御用ＦＥＴ２０２を形成し、電流制御用ＦＥＴ２０２にＥＬ素子２０３が電気的に接続された画素構造とする。電流制御用ＦＥＴ２０２は画素間での特性ばらつきが極めて小さく、色再現性の高い画像を得ることができる。電流制御用ＦＥＴ２０２にホットキャリア対策を施すことで信頼性の高い電子装置が得られる。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな出力のレーザー光照射を必要とせず、被剥離層等に損傷を与えることなく、被剥離層を転写した発光装置。
【解決手段】バリア膜が設けられたプラスチック基板に被剥離層が転写された発光装置であって、プラスチック基板に選択的に金属酸化物が残存している。金属酸化物は、ガラス基板上の剥離層に加熱処理を行ってから剥離したときに残存したものである。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素の間に設ける絶縁膜は、バンク、隔壁、障壁、土手などとも呼ばれ
、薄膜トランジスタのソース配線や、薄膜トランジスタのドレイン配線や、電源供給線の
上方に設けられる。特に、異なる層に設けられたこれらの配線の交差部は、他の箇所に比
べて大きな段差が形成される。隣接する画素の間に設ける絶縁膜を塗布法で形成した場合
においても、この段差の影響を受けて、部分的に薄くなる箇所が形成され、その箇所の耐
圧が低下されるという問題がある。
【解決手段】段差が大きい凸部近傍、特に配線交差部周辺にダミー部材を配置し、その上
に形成される絶縁膜の凹凸形状を緩和する。また、上方配線の端部と下方配線の端部とが
一致しないように、上方配線と下方配線の位置をずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】パターンニング基板の開口部にインキを塗布した後にインキを固化する製造方法であって隔壁内でインキが蒸発乾燥した際に平坦に固化させ、高品質の印刷物を得ることができるようにした。
【解決手段】隔壁201 及び開口部202 を有する透明なパターンニング基板200 の開口部にインキ203 を塗布した後に、そのインキを平坦に固化するパターンニング基板の開口部におけるインキの平坦固化方法であって、開口部に塗布されたインキ203 の気層−液層界面における液層表面の中央部を、金属板204A、204B間の電位差（電界）により電気的に引き上げながらインキ203 表面を平坦化して乾燥固化する。 （もっと読む）

【課題】ウエットエッチングによる加工性に優れた特性を有する新規な配線用膜を提供する。
【解決手段】表示装置またはタッチパネルセンサーの配線用膜であって、合金成分としてＸ群元素（Ｘは、希土類元素、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ、及びＮｉよりなる群から選択される少なくとも一種の元素）を３〜５０原子％、および／または酸素を０．２〜３．０質量％含有し、残部Ｔｉおよび不可避不純物からなるＴｉ合金層と、純ＣｕまたはＣｕ合金からなる層とを含む２層以上の積層構造を有することに要旨を有する配線用膜。 （もっと読む）

【課題】複数の発光素子の集積化を図るにあたり、新たな構成を有する照明装置およびその作製方法を提供する。
【解決手段】プラグ（接続部材）（１０２ａ、１０２ｂ）及び接続配線（１０２）を用いて複数の発光素子（１００）を電気的に接続し、集積化する。接続配線は対向基板（１０３）に設けられ、プラグは素子基板（１０１）又は対向基板（１０３）に設けられる。このような接続構造とすることで、照明装置において、複数の発光素子の電気的な接続を適切に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】データ線１１４の電位変動に起因するノイズの影響を受けにくくして、発光素子１５０に流す電流を制御する。
【解決手段】互いに交差する走査線１１２およびデータ線１１４と、これらの交差に対応して設けられた画素回路１１０と、シールド配線８１ａ、８１ｂとを有する。画素回路１１０は、発光素子１５０と、発光素子１５０に流れる電流を制御するトランジスター１４０と、トランジスター１４０のゲートノードｇとデータ線１１４との間で、走査線１１２に供給される走査信号にしたがって導通状態が制御されるトランジスター１３０と、を備え、シールド配線８１ａ、８１ｂは、平面視したときにデータ線１１４とトランジスター１４０との間に設けられている。 （もっと読む）