【課題】通常発光時における最大輝度よりも高輝度で有機ＥＬ素子を発光させることが可能な表示装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１３と駆動トランジスタ１１８からなる直列回路、容量素子１２３、グラウンド線ｇｎｄおよび電源線１２０を備え、グラウンド線ｇｎｄが直列回路における駆動トランジスタ１１８のソース電極側の端部に電気的に、電源線１２０がドレイン電極側の端部にそれぞれ電気的に接続された表示装置の製造方法において、グラウンド線ｇｎｄの電位を、ゲート電極とソース電極間の電圧が通常発光時よりも高くなるような電位にすることにより、容量素子１２３を通常発光時よりも高い電圧で充電する充電工程と、充電工程において充電された容量素子１２３の充電電圧に基づき、有機ＥＬ素子１３を通常発光時における最高輝度よりも高輝度で発光させる高輝度発光工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】外光反射が防止され、光取り出し効率を向上させて画面の明るさを向上した有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも構成要素として、保護フィルム１８、偏光子１７、λ／４位相差フィルム１６、中間層１４，１５、粘着剤層Ａ１３及び有機エレクトロルミネッセンス素子Ｅをこの順に有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置Ｄであって、前記中間層１４，１５の平均屈折率が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子Ｅの表面層の平均屈折率より０．０１以上高く、前記λ／４位相差フィルム１６の平均屈折率より０．０１以上低いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置Ｄ。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比、高精細の障壁を備えた蛍光体基板を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光体基板１は、基板２と、基板２上に設けられ、入射された励起光により発光する蛍光体層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、蛍光体層の側面を囲む障壁４と、を備え、蛍光体層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと障壁４とを有する第１の領域Ｍ１と、第１の領域Ｍ１の外側に位置する第２の領域Ｍ２と、を備え、第２の領域Ｍ２には、第１の領域Ｍ１に形成された障壁４を構成する全ての部材あるいは一部の部材で形成された構造物５が設けられ、障壁４と構造物５の少なくとも一部とが連続体をなしている。 （もっと読む）

【課題】 有機化合物層の上にマスク層を形成し、マスク層に被覆されていない領域をドライエッチングにてパターニングする有機ＥＬ装置の製造方法において、電荷注入層が有機化合物からなる場合、エッチングガスに曝されて電荷注入層の表面が分解され、電荷注入性が低下する恐れがある。
【解決手段】 有機化合物層のパターニングに用いるエッチングガスに対するエッチングレートも小さく、エッチングガスに曝されても分解されない無機化合物で電荷注入層を形成することにより、電荷注入性を低下させずに有機化合物層のパターニングを可能とする。 （もっと読む）

【課題】透光性電極層、複数の散乱層からなる散乱層積層体、透光性基板が積層された電子デバイス用基板であり、基板内での多重反射を抑制し、光取り出し効率を高めることを目的とする
【解決手段】透光性基板と、前記透光性基板上に設けられ、屈折率が異なる複数の散乱層からなる散乱層積層体と、前記散乱層積層体上に設けられる透光性電極層とが積層され、前記透光性電極層、前記散乱層積層体、前記透光性基板の順に屈折率が低くなっており、前記散乱層積層体を構成する複数の散乱層は、透光性電極層側から順に、散乱層毎に屈折率が漸次低減するように構成されていることを特徴とする電子デバイス用基板を提供する。 （もっと読む）

【課題】透光性基板、散乱層、被覆層、透光性電極層が積層された電子デバイス用基板であり、散乱層界面での全反射を抑制することによって、光取り出し効率を高めることを目的とする
【解決手段】透光性基板、散乱層、被覆層、透光性電極層が積層された電子デバイス用基板の製造方法であって、
（ａ）透光性基板上に、散乱層の原料と、前記散乱層の原料の焼成温度で消失する球状樹脂との混合物を配置、焼成して散乱層を形成する工程、
（ｂ）前記（ａ）工程で形成した前記散乱層上に被覆層の原料を配置、焼成して被覆層を形成する工程、
を有しており、前記透光性基板の屈折率が最も低く、散乱層、被覆層、透光性電極層の順に屈折率が高くなるように各層が構成されていることを特徴とする電子デバイス用基板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】燐光発光を利用した有機ＥＬ素子の光の取出し効率を向上させることが可能な有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明支持基板１０、第一の凹凸が形成されている凹凸層からなる回折格子１１、並びに、第一の凹凸の形状が維持されるようにして、回折格子１１上に順次積層された透明電極１２、少なくとも発光層１３１を備える有機層１３、及び、金属電極１４を備える有機ＥＬ素子であって、（Ａ）第一の凹凸の形状のフーリエ変換像が、円状又は円環状の模様を示しており、且つ、該模様が波数の絶対値が１０μｍ^−１以下の範囲内となる領域内に存在する、（Ｂ）第一の凹凸と、金属電極の有機層に対向する面の表面に形成された第二の凹凸とがいずれも、凹凸の深さ分布の標準偏差が１５〜５０ｎｍとなる、（Ｃ）第一の凹凸の深さ分布の標準偏差に対する第二の凹凸の深さ分布の標準偏差の変化率が＋１５％〜−１５％である、ことを満たしている有機ＥＬ素子。 （もっと読む）

【課題】電子注入層の形成に際し、ウェットプロセスを用いることで製造に際しての煩雑さを回避しながら、輝度ムラの発生が抑制された有機ＥＬデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイス１の製造では、基板１０上に、アノード１１、ホール注入層１２、ホール輸送層１３、有機発光層１４、電子注入層１５、およびカソード１６を、順に積層する。ここで、電子注入層１５の形成は、ＴｉＯ_ＸゾルまたはＴｉＯ_Ｘゲルと、炭酸セシウムとの混合溶液を、有機発光層１４上に塗布し、大気雰囲気下でベークした後、さらに、窒素雰囲気下でベークすることにより行われる。 （もっと読む）

【課題】電子注入層形成に係る導電性材料からなる層が隣り合う電極間に跨った状態で形成されることを抑制し、高い画質性能を有する有機ＥＬデバイスを製造する方法を提供する。
【解決手段】基板１０の準備、アノード１１の形成、ホール注入層１２１の形成、ホール輸送層１２２の形成、有機発光層１２３の形成の後、犠牲膜２０を形成する。犠牲膜２０は、複数のアノード１１の各一部の上方、および当該各一部同士の間の上方、の両方を覆うように連続した状態で形成される。その後、導電性材料を用い電子注入準備膜１３０を形成する。そして、犠牲膜２０を剥離・除去することで、これに付着した電子注入準備膜１３０の一部も除去され、電子注入層１３が形成される。最後に、カソード１４を形成する。 （もっと読む）

【課題】マイクロディスプレイであっても意図しない領域における発光を抑えることが可能な発光装置を提供する。
【解決手段】本発明の発光装置は、基板と、基板上に配置され、光透過性を有する第１電極と、第１電極と対向して配置され、半透過半反射性を有する第２電極と、第１電極と第２電極との間に配置された有機発光層と、第１電極の端部を覆う第１絶縁層と、基板と第１電極との間に配置された第１反射層および第２反射層と、を備え、第１電極は、第１絶縁層と重ならない第１部分と、第１絶縁層と重なる第２部分とを有し、第１部分と重なる領域では、第１反射層と第２電極とで第１共振構造が形成され、第２部分と重なる領域では、第２反射層と第２電極とで第２共振構造が形成され、第１反射層と第２電極との間の光学的距離は、第２反射層と第２電極との間の光学的距離と等しい。 （もっと読む）

【課題】焼成によるコンタクトホールにおけるコンタクト抵抗値の増加を抑制して、良好な品質を備えた有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】金属から成る配線部を含むＴＦＴ層が上面に形成された基板を準備する第１の工程と、前記ＴＦＴ層の上に絶縁膜用材料の層を積層する第２の工程と、前記配線部の一部が露出するように、前記絶縁膜用材料の層にコンタクトホールを形成する第３の工程と、前記絶縁膜用材料の層を、酸素を含む雰囲気で加熱焼成して絶縁膜層を形成する第４の工程と、前記第４の工程において前記配線部の表面の金属が酸化して形成された金属酸化物をエッチャントに溶解させて除去する第５の工程と、前記コンタクトホールにおいて前記配線部の一部に電気的に接続するように画素電極を形成し、前記画素電極の上方に有機発光層を形成し、前記有機発光層の上方に対向電極を形成する第６の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を有する有機ＥＬ発光装置が得られ、かつ生産性が高い有機ＥＬ発光装置の製造装置を提供する。
【解決手段】複数のマスク部材１０と、複数のマスク部材１０を固定するフレーム２０と、からなるマスクユニット２と、マスク部材１０と基板４０との相対位置を決めるアライメント機構と、蒸着源３０と、を備え、マスク部材１０が、複数組の開孔パターン１２が並列して設けられてなる開孔部１１と、マスク部材１０上であってマスク部材１０とフレーム２０とが接合している領域に設けられるアライメントマーク１４，１５と、を有し、マスク部材１０と、マスク部材１０と同一の形状の基板４０と、が、前記アライメント機構を用いて、マスク部材１０に設けられるアライメントマーク１４、１５と基板４０に設けられるアライメントマーク４２、４３とを合わせることによってアライメントが行われる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子から光を効率よく取り出すことができ、かつエネルギー効率が高い有機ＥＬ装置の提供を目的とする。
【解決手段】透明基板１０と、透明基板１０の一方の面に設けられた有機ＥＬ素子２０と、有機ＥＬ素子２０における透明基板１０と反対側に設けられた裏側基板３０と、を有し、有機ＥＬ素子２０が、透明基板１０側から透明電極層２１、正孔注入層２２、正孔輸送層２３、発光層２４、電子輸送層２５、電子注入層２６及び反射電極層２７が順次積層された積層体であり、電子輸送層２５の厚みが３０〜７０ｎｍである有機ＥＬ装置１。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、クラスタ構造を有し、ライン長を短くできる、あるいは、スペース効率のよい有機ＥＬデバイス製造装置または基板の姿勢を補正する角度補正機構を提供することである。
【解決手段】
本発明は、第１の櫛歯状ハンドによって基板を搬入する搬入口と、第２の櫛歯状ハンドによって前記基板を搬出する搬出口と、前記基板を支持する複数の支持ピンと、複数の前記支持ピンを固定し、前記基板を支持し回転させる支持ピン回転台と、前記支持ピン回転台を前記基板と平行な平面内で回転させる回転駆動手段と、複数の前記支持ピンと、前記第１の櫛歯状ハンドと前記第２の櫛歯状ハンドの少なくとも一方との干渉を回避する回避手段と、有する。 （もっと読む）

【課題】額縁の領域をより狭くすることを可能とした表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の表示装置は、配列された複数の表示素子（１２０）と外周側に電源の配線層（１０７）とを有する基板（１００）と、表示素子の相互間を分離するバンク層（１１３）と、複数の表示素子とバンク層とを覆う電極層（１２３）と、基板の外周部分と外周を一周する封止部（２０２）において接着剤などの接合手段（３０１）を介して接合して電極層を更に覆う封止基板（２００）と、を備え、封止基板の外周を基板の外周の内側に位置し、電極層の外周部を封止基板の封止部（ｂ＋ｃ）内にて電源の配線（１０７）と接続する。それにより、電極（１２３）と配線（１０７）との接続領域（ｃ）を基板と封止基板との接合領域（ｂ＋ｃ）として活用し、ガスバリア等のために所要の接合幅を確保しつつ表示装置の額縁の構成要素となる部分を減らす。 （もっと読む）

【課題】本発明者らは、前面に発光できる有機発光素子において、素子の発光層から出る光に対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）が８０％以上である上部電極を使う場合であっても、上部電極と空気層との間の屈折率の差によってｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ ｅｆｆｅｃｔを示すことができ、この場合、上部電極上にさらに層を形成して光路長を調節することができるという事実を明らかにした。このような方法により、従来技術に比べて遥かに容易に光路長を調節して、発光効率に優れた有機発光素子を提供することができる。
【解決手段】前記目的を達成するために、本発明は、下部電極、発光層をはじめとする１層以上の有機物層、および上部電極を含む有機発光素子であって、赤色、緑色および青色が各々透過する領域のうちの少なくとも一つの領域の前記上部電極上に屈折率が１．３〜３である層がさらに備えられることを特徴とする有機発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、第１導電層、少なくとも１つの中間導電層および第２導電層と、前記導電層の間に配置された発光単位を含む積層型有機発光素子である。
【解決手段】本発明は、第１導電層、少なくとも１つの中間導電層および第２導電層と、前記導電層の間に配置された発光単位を含む積層型有機発光素子であって、前記導電層のうちの互いに隣接しない少なくとも２つの導電層が共通電位となるように電気的に連結した第１群の導電層であり、前記第１群の導電層と共通電位となるように電気的に連結しない導電層のうちの互いに隣接しない少なくとも１つの導電層が共通電位となるように電気的に連結した第２群の導電層であり、前記第１群の導電層と第２群の導電層が＋電圧と−電圧が交互に印加されるようにする電圧制御器を介在して連結したことを特徴とする積層型有機発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】明るく、信頼性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタと、薄膜トランジスタ上に設けられ、コンタクトホールを
有する絶縁膜と、コンタクトホールを埋めて設けられた導電体と、絶縁膜上に設けられ、
導電体を介して薄膜トランジスタと電気的に接続された第１の金属膜と、第１の金属膜上
に設けられた透明導電膜と、透明導電膜上に設けられたＥＬ層と、ＥＬ層上に設けられた
第２の金属膜と、を有し、第２の金属膜を透過した光が放射される。 （もっと読む）

【課題】十分な発光効率を有し、色度に優れる有機電界発光素子の提供。
【解決手段】基板と、該基板上に配置され、陽極及び陰極を含む一対の電極と、該電極間に配置された有機層とを有し、前記有機層が、下記式で表される化合物を含有する有機電界発光素子。


（式中、Ｒ¹〜Ｒ³およびＲ⁶〜Ｒ⁸はそれぞれ独立に水素原子（重水素原子を含む）またはハメットの置換基定数σ_p値が−０．１５以上の置換基を表し、Ｒ⁵、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｌ¹は２価の連結基を表し、ＤＧ¹はドナー性基を表す。ｎ１は１または２を表す。ただし、Ｒ¹〜Ｒ³、Ｒ⁵〜Ｒ¹⁰、Ｌ¹、およびＤＧ¹は互いに結合して環を形成しない。） （もっと読む）

【課題】１１０℃以上の高温処理に供しても特性の劣化を抑制する。
【解決手段】支持基板１上に陽極２、有機化合物層３および陰極４が形成された有機ＥＬ素子が開示されている。当該有機ＥＬ素子では、有機化合物層３が少なくとも正孔輸送層３０２、発光層３０３および電子輸送層３０５を有し、正孔輸送層３０２が正孔輸送材料から構成され、発光層３０３がホスト化合物と発光ドーパントとから構成され、電子輸送層３０５が電子輸送材料から構成され、前記発光ドーパントを除く前記正孔輸送材料、前記ホスト化合物および前記電子輸送材料のすべてのガラス転移点Ｔｇが１１０℃以上であり、かつ、電子輸送層３０５にはアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属から選ばれる少なくとも１種類以上の金属またはそれらの金属化合物が含有されている。 （もっと読む）