基板上部に形成される薄膜素子の上部に形成される保護膜であって、水素含有率が３０at％以上であることを特徴とする保護膜である。有機ＥＬ素子等のデバイスの保護膜として、信頼性の高い、厚膜の保護膜とすることができる。 （もっと読む）