【課題】大面積基板におけるロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に対して、精度良く着弾させることができるインクジェット装置を提供すること。
【解決手段】画素領域外にもインクを着弾させ、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置を認識カメラで認識して、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置からズレ量を算出し、吐出するノズルを切り替えて基板に塗布する。これより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】トランジスタがノーマリオンであっても、閾値電圧のばらつきによる画素間の輝度のばらつきが抑えられる発光装置。
【解決手段】通常のゲート電極（第１ゲート電極）の他に、閾値電圧を制御するための第２ゲート電極が備えられたトランジスタを用いて、発光素子への電流の供給を制御する構成を有する。さらに、上記発光装置は、上記トランジスタの第１ゲート電極とドレイン端子の間の導通または非導通を選択する単数または複数のスイッチを有する。そして、トランジスタの閾値電圧を取得する際に、上記スイッチによりトランジスタの第１ゲート電極とドレイン端子の間を導通させ、なおかつ、第２ゲート電極の電位を制御することでトランジスタの閾値電圧をシフトさせる構成とする。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】基材を設置するステージと液柱状のインクを吐出するノズルとを相対的に往復移動させながら基板上に連続的に塗膜を形成する塗布装置において、高速動作を行っても材料利用効率が高くかつ画素形成領域の塗膜を均一にする。
【解決手段】塗布装置は、基材を設置するステージと、前記基材上に液柱状のインクを連続吐出するノズルと、前記ステージと前記ノズルとを、少なくとも一方を前記基材の面方向に移動させることによって、相対的に移動可能とする移動機構とを備え、前記ノズルに対する前記基材の相対移動速度の情報に基づいて、前記ノズルから吐出するインクの吐出流量を制御する。 （もっと読む）

【課題】本発明は少なくとも正孔輸送層及び有機発光層の２層が絶縁層と画素電極が接する縁部において厚膜化するのを抑制し、発光ムラや輝度低下をなくした均一性の良い表示を行うことが可能な有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、絶縁層を隔壁として形成された発光領域が、透明絶縁層と、画素電極層と、少なくとも正孔輸送層と有機発光層を順次積層してなる有機発光媒体層と、前記有機発光媒体層を介して前記画素電極に対向する対向電極とからなる有機ＥＬ素子であって、前記絶縁層と画素電極表面の高低差が０．１〜１．０μｍで、且つ、前記絶縁層の高さが１．５μｍ以上であることを特徴とする有機ＥＬ素子である。 （もっと読む）

【課題】アクティブ動作中に外部電源による電位の制御を必要としない静電気保護回路を有するアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板１は、複数のゲート配線２２と、複数のソース配線２１と、高電位側ＥＳＤリング３１及び低電位側ＥＳＤリング３２と、ゲート配線２２及びソース配線２１の各々に対応して配置されアノード電極が低電位側ＥＳＤリング３２に接続されカソード電極がゲート配線２２及びソース配線２１のうちの一の配線に接続されたＥＳＤダイオード４２と、アノード電極が当該一の配線に接続されカソード電極が高電位側ＥＳＤリング３１に接続されたＥＳＤダイオード４１と、２本以上のゲート配線２２の各々に対応して配置されアノード電極が低電位側ＥＳＤリング３２に接続されカソード電極が対応するゲート配線２２に接続された低電位固定ダイオード４３とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機機能層を印刷する際に、画素の輝度ムラや、ショート、非点灯の原因となる異物を除去する手段を備えた印刷装置及びその印刷装置を使用して有機機能素子を製造する方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する印刷装置であって、印刷用凸版を備えた第一の回転式版胴２０１と、第一の回転式版胴２０１上に設けられ、被印刷基板表面２０７の異物を除去するための第一の異物除去版３０２と、印刷用凸版２０２を備えた第一の回転式版胴２０１と対向して設けられ、印刷用凸版２０２表面の異物を除去するための第二の異物除去版４０２を備えた第二の回転式版胴４０１と、印刷用凸版２０２と第一の異物除去版３０２を洗浄するための第一の洗浄チャンバー３０３と、第二の異物除去版４０２を洗浄する第二の洗浄チャンバー３０４と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】発光素子の投影面積を拡げることなく明るく、且つ歩留まり良く製造できる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明の一態様は、複数の凸部１３と、この複数の凸部１３に沿って形成された第１の電極１４と、複数の凸部１３に沿って形成され、第１の電極１４上に形成された発光性の有機化合物を含む層１６と、複数の凸部１３に沿って形成され、発光性の有機化合物を含む層１６上に形成された第２の電極１７と、を具備し、複数の凸部１３それぞれは、隣接する凸部の底面と接する辺を備える底面と、前記底面に対して０°より大きく８０°以下の一定の角度を備える複数の側面と、第１の連続する曲面からなる頂点と、を有することを特徴とする発光装置である。 （もっと読む）

【課題】白色有機材料の特性に合わせた発光領域の制御を画素毎に行うことによって最適な色合成を実現することのできる有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ表示装置は、基板上に順に形成された、光を反射する反射層と、光透過性を有する複数の第１電極と、これら複数の第１電極を覆うとともに発光層を含む１層以上の有機層と、半透過反射性を有する第２電極とを含む画素を複数備えた有機ＥＬ表示装置であって、反射層と第２電極の間の反射によって共振する光の波長が異なる色の画素ごとに第１電極の膜厚が異なっており、基板上には、第１電極の周縁部分を覆うようにして絶縁膜が設けられ、絶縁膜は、第１電極の表面を部分的に露出させるとともに画素ごとに開口面積を異ならせた開口を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光不良や発光ムラのない有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に形成された対向する一対の電極と、該電極間に設けられ少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、発光媒体層の１層以上が印刷法を用いて形成されており、前記印刷法が、被印刷基板を搬送する移動定盤が印刷版の面方向に進行し、印刷版と被印刷基板との接触面でインキを転移することで印刷を行う印刷方式であり、前記接触面よりも移動定盤の進行方向側に位置し、基板上の印刷された領域が搬送される空間である印刷後基板空間と、前記接触面より移動定盤の進行方向逆側に位置し、基板上の印刷前の領域が搬送される空間である印刷前基板空間の少なくともどちらか一方の雰囲気を、印刷機設置空間とは独立に雰囲気制御して、印刷を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示装置間の非表示領域の視認が大幅に低減され、画像の連続性が高く、良好な画像を表示可能な配列型表示装置を提供する。
【解決手段】配列型表示装置１００は、表示装置１０Ａ〜１０Ｄを配列して形成されている。表示装置１０Ａ〜１０Ｄは、それぞれ、表示部１１Ａ〜１１Ｄの外周側に非表示部１２Ａ〜１２Ｄを有し、また、表示部１１Ａ〜１１Ｄより観察側に、表示部１１Ａ〜１１Ｄ及び非表示部１２Ａ〜１２Ｄを被覆する複数の透明板２０Ａ〜２０Ｄを備えている。透明板２０Ａ〜２０Ｄは、隣り合う透明板２０Ａ〜２０Ｄと接している。表示部１１Ａ〜１１Ｄの正面方向から見て非表示部１２Ａ〜１２Ｄに対応する周縁部は、外周端の厚みが内側より薄くなるように形成された第１斜面部２２Ａ〜２２Ｄとなっており、第１斜面部２２Ａ〜２２Ｄから出射した光の少なくとも一部は、表示部１１Ａ〜１１Ｄに直交する方向に出射するものとした。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、コストを軽減することが困難である。
【解決手段】ワークに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドに対する前記ワークの相対位置を変位させる変位装置と、前記相対位置の変位方向に沿って並ぶ複数の目盛り７５が設けられたリニアスケール７１と、前記相対位置の変位にともなって目盛り７５を検出し、目盛り７５を検出するごとに検出信号を出力するエンコーダー７３と、リニアスケール７１の一端７８ａ側を支持するビス８２と、リニアスケール７１の他端７８ｂ側からリニアスケール７１に張力を付与する引張りばね８３と、リニアスケール７１から独立した状態で、ビス８２から距離Ｄを隔てた位置に設けられ、他端７８ｂ側において、複数の目盛り７５のうちの一部の目盛り７５をエンコーダー７３から隠す隠し部材９１と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた低温プロセスで形成する信頼性の高い薄膜トランジスタ、その製造方法、および表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１は、基板１００と、前記基板上の一部に設けられたゲート電極１１０と、前記ゲート電極を覆う第１の絶縁膜１２０と、前記第１の絶縁膜を介して前記ゲート電極上に設けられた酸化物半導体膜１３０と、前記酸化物半導体膜上の一部に設けられた第２の絶縁膜１５０と、前記酸化物半導体膜から露出する酸化物半導体膜の一部と接続されたソース電極１４０Ｓおよびドレイン電極１４０Ｄと、を備え、前記酸化物半導体膜はＩｎと、Ｇａと、Ｚｎのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物半導体を有し、前記第１の絶縁膜中に含有される水素濃度が５×１０^２０atm/ｃｍ^−３以上であり、かつ、前記第２の絶縁膜中に含有される水素濃度が１０^１９atm/ｃｍ^−３以下である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において有機化合物層よりも屈折率の高い透明層を伝播する伝播光を効率的に外部に取り出しながらも、表示装置にとって問題となる表示像のにじみを低減する。
【解決手段】有機ＥＬ素子の光出射側に、前記有機化合物層１０，１１よりも屈折率の高い高屈折率透明層１３を設け、さらに、該高屈折率透明層１３上に光取り出し構造物６を各副画素１，２の外周部全てを取り囲んで設け、互いに隣り合う画素間には可視光吸収部材５を配置する。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴの特性ばらつきに起因する、画素間における発光素子の輝度のばらつきを低減し、信頼性が高く、画質の優れた表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】発光素子に接続するＴＦＴを複数個、少なくとも２つ設け、それぞれのＴＦＴの活性層を形成する半導体領域の結晶性を異ならせるものである。
当該半導体領域は、非晶質半導体膜をレーザーアニールにより結晶化させたものが適用されるが、結晶性を異ならせるために、連続発振レーザービームの走査方向を変えて、結晶成長の方向を互いに異ならせる方法を適用する。或いは、連続発振レーザービームの走査方向は同じとしても、個々の半導体領域間でＴＦＴのチャネル長方向を変えて、結晶の成長方向と電流の流れる方向を異ならせる方法を適用する。 （もっと読む）

【課題】材料容器の中心付近に対して周縁付近を高く加熱することができ、しかも、材料容器に収納した蒸着材料の中心付近と周縁付近との温度差を容易に制御し得て、蒸着材料の気化量変化の応答性を高くすることができる蒸着材料加熱装置とすることができ、よって、基板に付着する被膜の膜厚の均一化に貢献することができる蒸着装置及び蒸着方法とし得て、均一な膜厚の被膜を有する基板を提供する。
【解決手段】本発明は、蒸着材料１３を収納した材料容器１４と、材料容器１４の底面側に配置されて蒸着材料１３を加熱する加熱部１５と、加熱部１５による蒸着材料１３の加熱温度を材料容器１４の中心から外周に向かう加熱領域に応じて制御する温度制御部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】結晶性の優れた酸化物半導体層を形成して電気特性の優れたトランジスタを製造
可能とし、大型の表示装置や高性能の半導体装置等の実用化を図ることを目的の一つとす
る。
【解決手段】第１の加熱処理で第１の酸化物半導体層を結晶化し、その上部に第２の酸化
物半導体層を形成し、温度と雰囲気の異なる条件で段階的に行われる第２の加熱処理によ
って表面と略垂直な方向にｃ軸が配向する結晶領域を有する酸化物半導体層の形成と酸素
欠損の補填を効率良く行い、酸化物半導体層上に接する酸化物絶縁層を形成し、第３の加
熱処理を行うことにより、酸化物半導体層に再度酸素を供給し、酸化物絶縁層上に、水素
を含む窒化物絶縁層を形成し、第４の加熱処理を行うことにより、少なくとも酸化物半導
体層と酸化物絶縁層の界面に水素を供給する。 （もっと読む）

【課題】低コスト化と画質品質とが両立する表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、画素回路と発光素子とで構成される画素をマトリクス状に形成した画素アレイ部と、画素回路を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路は、１本の信号線に接続された複数個の画素回路の閾値補正動作を同じタイミングで完了させ、閾値補正動作が完了した後に、複数個の画素回路のそれぞれに対応した信号電位を信号線に印加し、信号電位の複数個の画素回路への書込みを、画素回路毎に、閾値補正動作の完了から異なる時間間隔を空けて順次行ない、閾値補正動作が完了した後であって信号電位のうち最初の信号電位を信号線に印加するより前に、複数個の画素回路の駆動トランジスタのゲート電極に閾値補正用の基準電位よりも低いリセット電位を印加するように、複数個の画素回路を駆動する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの閾値電圧のばらつきによる、発光素子の輝度のばらつきを抑制する。
【解決手段】半導体装置は、ｎチャネル型のトランジスタと、発光素子と、第１の配線と、第１の配線の電位を制御する機能を有する駆動回路と、第２の配線と、第１のスイッチと、第２のスイッチと、第３のスイッチと、第４のスイッチと、第１の容量素子と、第２の容量素子と、を有する。当該ｎチャネル型のトランジスタのソース及びドレインの一方は発光素子のアノードに接続される。駆動回路は第１配線の電位が発光素子のカソードの電位以下となるような期間を有するように第１の配線の電位を制御する。この構成により、閾値電圧のばらつきを見越してｎチャネル型のトランジスタのソースとゲート間に印加される電圧を補正し、ｎチャネル型のトランジスタのドレイン電流を補正することができる。そして、当該ドレイン電流を発光素子に供給することができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ素子を用いた発光モジュールにおいて、ワイヤが断線したときでも、ショートを起こし難くする。
【解決手段】発光モジュール３は、平板状の発光パネル２と、給電用の配線基板６と、を備える。発光パネル２は発光パネル側電極パッド２３ａ，２３ｂを有し、配線基板６は配線基板側電極パッド６２ａ，６２ｂを有し、これらはワイヤ８により接続されている。電極パッド２３ａ，２３ｂは、ワイヤ８との接合端部と共に封止樹脂部材７によって被覆され、電極パッド６２ａ，６２ｂは、それらの間隔がワイヤ８の封止樹脂部材７で被覆されていない部分の長さＬ１よりも長くなるように配置されている。この構成によれば、封止樹脂部材７によって被覆されていない部分でワイヤ８が断線しても、電極パッド６２ａ，６２ｂ同士の間隔Ｄが断線したワイヤ８の長さよりも長いので、ワイヤ８の端部が他の電極パッドに接触し難く、ショートを起こし難い。 （もっと読む）