【課題】電極をパターニングすることなく、精度よく発光パターンをパターニング可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】
基板２に第１電極３を積層する第１電極積層工程Ｓ１１と、第１電極３に対して基板２と反対側に、紫外光ＵＶの照射により不溶化する絶縁層１１３を積層する絶縁層積層工程Ｓ１３と、紫外光ＵＶを遮光する遮光膜１３２により、一部の絶縁層１１５をマスキングした後に、遮光膜１３２越しに、絶縁層１１３に向けて紫外光ＵＶを照射する露光工程Ｓ１４と、一部の絶縁層１１５に向けて、紫外光ＵＶが照射されていない絶縁層１１５を溶解する溶媒１４２及び有機ＥＬ材料１４１を供給するＥＬ材料供給工程Ｓ１５と、有機ＥＬ材料１４１を覆うように、第２電極４を積層する第２電極積層工程Ｓ１６と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】大面積基板におけるロット毎の寸法誤差や熱膨張による寸法誤差に対して、精度良く着弾させることができるインクジェット装置を提供すること。
【解決手段】画素領域外にもインクを着弾させ、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置を認識カメラで認識して、画素の端部と画素領域外にも着弾させたインクの着弾位置からズレ量を算出し、吐出するノズルを切り替えて基板に塗布する。これより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において有機化合物層よりも屈折率の高い透明層を伝播する伝播光を効率的に外部に取り出しながらも、表示装置にとって問題となる表示像のにじみを低減する。
【解決手段】有機ＥＬ素子の光出射側に、前記有機化合物層１０，１１よりも屈折率の高い高屈折率透明層１３を設け、さらに、該高屈折率透明層１３上に光取り出し構造物６を各副画素１，２の外周部全てを取り囲んで設け、互いに隣り合う画素間には可視光吸収部材５を配置する。 （もっと読む）

【課題】簡便な有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板２００上に形成された第一電極２０１と、少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層を挟むように前記第一電極２０１と対向して形成された第二電極２０４と取り出し端子２０２を少なくとも備える有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記第一電極２０１を形成した後、前記発光媒体層のうちの少なくとも１層の有機層２０３を塗布法により形成し、その後、前記取り出し端子２０２部分を開口させたマスクを前記基板２００上に被せてＵＶオゾン処理をすることによって、前記取り出し端子２０２部分の上に形成された有機層２０３を除去する。 （もっと読む）

【課題】高精細、高開口率を有する発光装置を提供する。
【解決手段】トランジスタを有し、トランジスタ上に、層間絶縁膜を有し、層間絶縁膜上に、電極を有し、電極の端部上、及び層間絶縁膜上に、絶縁物を有し、電極上、及び絶縁物上に、赤色の発光層を有し、封止基板を有し、層間絶縁膜は、コンタクトホールを有し、電極は、コンタクトホールに設けられた領域を有し、電極は、トランジスタと、電気的に接続され、赤色の発光層は、絶縁物上に第１の領域を有し、第１の領域上で重なる、緑色の発光層、又は青色の発光層を有し、封止基板は、赤色のカラーフィルタを有し、封止基板は、遮光部を有し、赤色のカラーフィルタは、赤色の発光層と重なる領域を有し、遮光部は、赤色のカラーフィルタと接する領域を有し、遮光部は、第１の領域と重なる領域を有し、遮光部は、コンタクトホールに設けられた電極と重なる領域を有する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタのしきい値電圧の変動を抑制し、表示パネルに実装するドライバＩ
Ｃの接点数を削減し、表示装置の低消費電力化を達成し、表示装置の大型化又は高精細化
を達成することを目的とする。
【解決手段】劣化しやすいトランジスタのゲート電極を、第１のスイッチングトランジス
タを介して高電位が供給される配線、及び第２のスイッチングトランジスタを介して低電
位が供給される配線に接続し、第１のスイッチングトランジスタのゲート電極にクロック
信号を入力し、第２のスイッチングトランジスタのゲート電極に反転クロック信号を入力
することで、劣化しやすいトランジスタのゲート電極に高電位、又は低電位を交互に供給
する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ材料をはじめとした薄膜の特性を劣化させることなく、大型化かつ高精度の微細パターニングを可能とする転写用ドナー基板を提供すること。
【解決手段】支持体と、前記支持体上に光熱変換層を有する転写用ドナー基板であって、前記支持体の前記光熱変換層形成面側に溝を備えることを特徴とする転写用ドナー基板。 （もっと読む）

【課題】印刷ムラ、異物混入が無く、微細な薄膜パターンを製造可能な印刷装置を提供し、特に、この印刷装置を用いることで、非表示画素の無い有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】被印刷基板に微細パターンを印刷する凸版印刷装置であって、少なくとも、凸版を装備して回転する版胴と、前記被印刷基板を載置する基板定盤と、前記凸版の版上にインキを塗布するアニロックスロールと、前記アニロックスロールにインキを供給するためのインキ供給手段を備えた凸版印刷装置において、前記アニロックスロールはその円筒部表面に多数の微細な凹部が並列に彫刻され、且つ、前記円筒部表面に前記インキに対して撥液性の表面処理層が形成されている。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板１上に一定形状の薄膜パターンを形成する薄膜パターン形成方法であって、前記基板１上に可視光を透過する樹脂製のフィルム４を設置する第１ステップと、前記基板１上の予め定められた部分に対応する前記フィルム４の部分を一定速度で加工して一定深さの穴部５を形成した後、該穴部５の底部を前記速度よりも遅い速度で加工して前記穴部５を貫通させ、一定形状の開口６を有するマスク７を形成する第２ステップと、前記基板１上の前記予め定められた部分に前記マスク７の前記開口６を介して成膜する第３ステップと、前記マスク７を剥離する第４ステップと、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】寸法精度に優れた、プラスチック等のフィルム基板上に形成されたガスバリア基板および該ガスバリア基板上に形成され、同じく寸法精度に優れたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】フィルム基板１０５の一方の面に第１のガスバリア層１０４，１０３を設け、他方の面に第２のガスバリア層１０４，１０３を設けたガスバリア基板であって、該ガスバリア基板の水蒸気透過率が０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、該フィルム基板の一方の面に第１のガスバリア層を設けかつ他方の面にガスバリア層を設けなかった場合の水蒸気透過率をａとし、該フィルム基板の一方の面に第１のガスバリア層を設けずかつ他方の面にガスバリア層を設けた場合の水蒸気透過率をｂとしたとき、ａ／ｂが０．１〜１０の範囲内にあるガスバリア基板。 （もっと読む）

【課題】高精細画素においても高輝度でかつ光の混色が生じない有機ＥＬ発光装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子２１の光取り出し側に、色変換部材（カラーフィルタ２４）と、低屈折率層２５と、マイクロレンズ１１と、をこの順に設け、低屈折率層２５の屈折率が、前記色変換部材及びマイクロレンズ１１の屈折率よりも小さいことを特徴とする、有機ＥＬ発光装置１。 （もっと読む）

【課題】高精細化に伴う消費電力の増加や焼き付きの悪化を低減することの可能な発光パネル、ならびにそれを備えた表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】発光パネルは、発光色の互いに異なる複数種類のサブピクセルを含む複数の画素を備えている。複数の画素のうちの１つである注目画素と、その注目画素に隣接して配置された画素である隣接画素とに着目したときに、注目画素内の１つのサブピクセルである第１サブピクセルの発光色と、第１サブピクセルに隣接する、隣接画素内の１つのサブピクセルである第２サブピクセルの発光色とが、互いに等しくなっている。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体層を用いた表示装置に代表される半導体装置において、画面サイズの大型化や高精細化に対応し、表示品質が良く、安定して動作する信頼性のよい半導体装置を提供する。
【解決手段】引き回し距離の長い配線にＣｕを含む導電層を用いることで、配線抵抗の増大を抑える。また、Ｃｕを含む導電層を、ＴＦＴのチャネル領域が形成される酸化物半導体層と重ならないようにし、窒化珪素を含む絶縁層で包むことで、Ｃｕの拡散を防ぐことができ、信頼性の良い半導体装置を作製することができる。特に、半導体装置の一態様である表示装置を大型化または高精細化しても、表示品質が良く、安定して動作させること
ができる。 （もっと読む）

【課題】開口率が向上した表示装置およびこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】本技術の表示装置は、単一色の画素を含む第１領域と、互いに共通な発光層を含む有機層を有すると共に、画素とは異なる複数色の画素を含む第２領域と、第１領域および第２領域を分離する隔壁とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置または有機ＥＬ表示装置の画素ＴＦＴとしてアモルファスシリコンよりも電界効果移動度が大きい、アモルファスの金属酸化物系半導体或いは有機半導体を用いた場合の過剰充電効果の増大に起因する、フリッカーレベルの増大や画面輝度の均一性低下による表示品位の低下を抑制する。
【解決手段】フリッカーや焼き付等の視認性が高い中間調表示における突き抜け電圧と、過剰充電効果の指標となる対向電極電位の面内格差との関係式を新たに導出し、これに基いて新たに導出した対向電極電位の面内格差を許容限界値以下に低減するための条件を満たすように設計する。 （もっと読む）

【課題】表示画像の視認性を低下せることなく、小型化および高精細化を実現可能な有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、駆動基板上の表示領域に設けられた第１電極が、第１導電膜（反射膜）の下層に、これよりも低反射率の第２導電膜を有する積層膜からなる。周辺領域には、第２電極に接続される電極パッドが設けられ、この電極パッドが、第１電極を構成する積層膜のうちの少なくとも第２導電膜と同一材料よりなる導電膜を含む。第１電極では、積層膜のうちの反射膜としての第１導電膜の機能が発揮され、電極パッドでは、低反射率の第２導電膜と同一材料よりなる導電膜により、外光反射が抑えられる。 （もっと読む）

【課題】 大型の基板に小さなマスクで蒸着すると時間がかかる。
【解決手段】 基板上に行列をなして配置された複数の区画の各々に形成されるＥＬ発光装置の製造方法であって、
列方向の全ての区画の蒸着パタンを開口として有するマスクを前記基板に対向して保持し、前記マスクを通して前記基板に蒸着物質を蒸着する工程を有し、
前記基板を前記区画の行方向に１列ずつ移動し、前記工程を繰り返すことを特徴とするＥＬ発光装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の開口率を向上することを課題の一とする。
【解決手段】同一基板上に駆動回路部と、表示部（画素部ともいう）とを有し、当該駆動回路部は、ソース電極及びドレイン電極が金属によって構成され且つチャネル層が酸化物半導体によって構成された駆動回路用チャネルエッチ型薄膜トランジスタと、金属によって構成された駆動回路用配線とを有し、当該表示部は、ソース電極層及びドレイン電極層が酸化物導電体によって構成され且つ半導体層が酸化物半導体によって構成された画素用ボトムコンタクト型薄膜トランジスタと、酸化物導電体によって構成された表示部用配線とを有する半導体装置である。多階調マスクを用いたフォトリソグラフィ工程を用いることで、作製工程を簡略化できる。 （もっと読む）

【課題】 異なる色を発する有機ＥＬ素子に共通に形成された発光層を有する表示装置において、電荷阻止層を発光層間に設けずに、各有機ＥＬ素子を効率よく発光させる。
【解決手段】 第１の有機ＥＬ素子３Ｇの第１の発光層１３Ｇが第２の有機ＥＬ素子３Ｒに共通に形成され、第２の有機ＥＬ素子３Ｒの第２の発光層１３Ｒが第１の発光層１３Ｇに接して陰極１５側に配置され、第２の発光層１３Ｒが電子トラップ性の発光層である。 （もっと読む）

【課題】 蒸着マスクの弛みをより確実に防止することが可能なマスクフレームと、該マスクフレームを用いた蒸着マスク組立体を提供する。
【解決手段】 相対する高熱膨張合金の桟と、相対する低熱膨張合金の桟とで構成される矩形状の枠体であって、前記高熱膨張合金の桟は、３０〜１００℃の線膨張率（α_Ｆｈ（３０〜１００℃））が（４〜２０）×１０^−６／℃であり、前記低熱膨張合金の桟は、蒸着マスクを接合支持する支持部材となるものであって、３０〜１００℃の線膨張率（α_Ｆｌ（３０〜１００℃））が５×１０^−６／℃以下であり、且つ、α_Ｆｈ＞α_Ｆｌを満足するマスクフレーム。 （もっと読む）