【課題】 異なる色を発する有機ＥＬ素子に共通に形成された発光層を有する表示装置において、電荷阻止層を発光層間に設けずに、各有機ＥＬ素子を効率よく発光させる。
【解決手段】 第１の有機ＥＬ素子３Ｇの第１の発光層１３Ｇが第２の有機ＥＬ素子３Ｒに共通に形成され、第２の有機ＥＬ素子３Ｒの第２の発光層１３Ｒが第１の発光層１３Ｇに接して陽極１５側に配置され、第２の発光層１３Ｒが正孔トラップ性の発光層である。 （もっと読む）

【課題】走査線の数を増やさなくても、階調数を増やすことの可能な駆動回路およびそれを備えた表示装置、ならびに、走査線の数を増やさなくても、階調数を増やすことの可能な表示装置の駆動方法を提供する。
【解決手段】電気光学素子を含むメモリ内蔵の画素を駆動する駆動回路は、階調データの各ビットに対応し、かつ対応ビットの重みに応じた期間となる複数のサブフィールドからなる複数のサブフレームで１フレーム期間を分割するようになっている。この駆動回路は、また、サブフレーム単位で、当該サブフレームに含まれるサブフィールドの数より１だけ少ない数の走査線を選択するとともに、選択した一の走査線を再度、同一サブフレーム期間中に選択するようになっている。 （もっと読む）

【課題】高精細な発光装置を提供する。
【解決手段】第１の電極の一方の端部上の領域と、第１の電極の一方の端部と隣合った第２の電極の一方の端部上の領域と、第１の電極の一方の端部と第２の電極の一方の端部の間の領域とを覆う絶縁物領域と、第１の電極および絶縁物領域の上に形成された第１の発光層と、第２の電極および絶縁物領域の上に形成された第２の発光層と、が設けられた第１の基板と、第１の基板と対し、カラーフィルタが設けられた第２の基板と、を有し、絶縁物領域および第１の電極の上で第１の発光層と第２の発光層が重なっており、カラーフィルタは、第１の発光層と対向して設けられた第１の着色層と、第２の着色層と、第１の着色層と第２の着色層の間に、絶縁物領域および第１の電極の上で第１の発光層と第２の発光層が重なっている領域と対向して設けられた遮光部とを有する。 （もっと読む）

【課題】表示基板と中継基板との圧着条件を固着部全体に亘って同一にすることにより、固着部における電気的抵抗の不均一性を解消することができるとともに、コントラストの低下等の表示上の不具合を生ずることがない電気光学装置、及び当該電気光学装置を備える電子機器を提供する。
【解決手段】フレキシブル基板等の中継基板に形成された配線に接続される電極７４，７５等の電極の間に平坦化膜８０が形成されており、平坦化膜８０上及び電極７４，７５の端部に第１層間絶縁層２８４が形成されている。そして、電極７４，７５上及び凸部７９に透明電極７７が形成されている。 （もっと読む）

【課題】成膜プロセスにおけるディストーションに起因して生じる画質劣化を抑制することが可能な有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、駆動基板上に複数の画素を含む発光領域を備え、複数の画素はそれぞれ、駆動基板側から順に、画素毎に設けられた第１電極と、少なくとも有機電界発光層を含む機能層と、第２電極とを有し、機能層は、画素毎に塗り分けられた印刷パターン層を含む。駆動基板上には、印刷パターン層と駆動基板との間に設けられたいずれの層よりも突出した突部が設けられている。例えば有機電界発光層等の機能層のうちの少なくとも１層（印刷パターン層）を、画素毎に塗り分けて形成する際、発光領域内でのディストーションの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルター層の剥離を抑制することが可能な有機エレクトロルミネッセンス装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に形成されたカラーフィルター層２０と、基板１０とカラーフィルター層２０の間に形成された第１電極１３と、第１電極１３と対向して形成された第２電極１４と、第１電極１３と第２電極１４の間に形成された有機発光層１５と、第２電極１４とカラーフィルター層２０との間に形成された封止層１９と、を含み、封止層１９の第２電極１４と反対側には、基板１０に垂直な方向から見たときに第１電１３極と重なる領域に、凹凸を有する凹凸面１９Ｓ１，１９Ｓ２，１９Ｓ３が形成されており、カラーフィルター層２０は、封止層１９の凹凸面１９Ｓ１，１９Ｓ２，１９Ｓ３に形成されている。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にする。また、材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させる。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させる。
【解決手段】一方の面に、開口部を有する反射層と、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側からレーザ光を照射し、反射層の開口部と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクを使用することなく高精細な薄膜パターンの蒸着形成を容易にする。
【解決手段】真空容器内で有機ＥＬ材料を蒸発させて、有機ＥＬ表示用基板面にマトリクス状に設けられた複数の画素電極上に選択的に被着させ、有機ＥＬ材料の発光層を形成する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、発光層を形成する箇所に対応して位置する画素電極の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体に通電せず、又は該抵抗体に有機ＥＬ材料を昇華させない程度に制限された温度が発生するように通電する段階と、発光層を形成しない箇所に対応して位置する画素電極の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体に有機ＥＬ材料を昇華させるのに十分な温度が発生するように通電する段階と、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】ＥＬ膜、陰極の断線を防止する技術を提供することを課題とする。陰極と陽極に
挟まれた部分で、ＥＬ膜の膜厚が局所的に薄くなることを抑えることができ、ＥＬ膜に局
所的に電界が集中することを防ぐことができる。
【解決手段】陽極１００上に絶縁膜１０１を形成し、絶縁膜１０１上にＥＬ膜１０２、陰
極１０３を形成したＥＬ素子において、絶縁膜１０１の下端部、上端部を曲面形状とする
。また、絶縁膜１０１の中央部のテーパー角を３５°以上７０°以下とする。 （もっと読む）

【課題】シャドウマスクを使用することなく高精細な薄膜パターンの蒸着形成を容易にする。
【解決手段】蒸発源２から蒸発した有機ＥＬ材料の蒸着分子２３が有機ＥＬ表示用基板５に到達する前に上記蒸着分子２３を帯電させる段階と、発光層１６を形成する箇所に対応して位置する画素電極１４の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体２１に、帯電された蒸着分子２３の帯電極性とは異なる極性で且つ有機ＥＬ材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、発光層１６を形成しない箇所に対応して位置する画素電極１４の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体２１に、帯電された蒸着分子２３の帯電極性と同じ極性で且つ有機ＥＬ材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、を行う。 （もっと読む）

【課題】時間階調方式で表示するときに発生する擬似輪郭の低減を課題とする。
【解決手段】１つの画素をｍ個（ｍはｍ≧２の整数）のサブ画素に分割し、ｓ番目（ｓは１〜ｍの整数）のサブ画素の面積比を２^ｓ−１とする。また、１フレームに、複数のサブフレームから構成されるｋ個（ｋはｋ≧２の整数）のサブフレーム群を設けるとともに、１フレームをｎ個（ｎはｎ≧２の整数）のサブフレームに分割し、ｔ番目（ｔは１〜ｎの整数）のサブフレームの点灯期間の長さの比率を２^{（ｔ−１）ｍ}とする。そしてさらに、ｎ個の各サブフレームを、概ね１／ｋの長さの点灯期間を有するｋ個のサブフレームに分割し、ｋ個の各サブフレーム群に１個ずつ配置する。このとき、ｋ個のサブフレーム群で、サブフレームの出現順序が概ね同じになるように、サブフレームを配置する。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板にＯＬＥＤのような発光素子を含む画素回路を形成する。
【解決手段】画素回路が配列する表示部１００と、表示部１００から離間して囲むように設けられ、複数の画素回路を駆動する走査線駆動回路１４０、データ線駆動回路１５０とがシリコン基板に形成される。Ｎウェル１０４は、表示部１００にわたって連続的に形成される。複数の画素回路の各々は、それぞれ複数のトランジスターを有し、当該トランジスターはＮウェル１０４に共通に形成されるとともに、基板電位を共通である。表示部１００におけるＮウェル１０４は導電型の異なるＰ型半導体基板領域１０２で囲まれる。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの変形を防止することができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるガラスフィルム積層体１０は、ガラスフィルム１１と、ガラスフィルム１１に粘着層１３を介して積層された金属基材１２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】同一基板上に複数種の回路を形成し、複数種の回路の特性にそれぞれ合わせた複数種の薄膜トランジスタを備えた発光装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】画素用薄膜トランジスタとしてソース電極層及びドレイン電極層上に重なる酸化物半導体層を有する逆コプラナ型を用い、駆動回路用薄膜トランジスタとして、チャネルエッチ型を用い、画素用薄膜トランジスタと電気的に接続する発光素子と重なる位置にカラーフィルタ層を薄膜トランジスタと発光素子の間に設ける。 （もっと読む）

【課題】赤、緑、青の発光色を用いるフルカラーのフラットパネルディスプレイを作製する場合において、各色のＥＬ層のパターン形成の精度を向上させることが可能な発光装置の作製方法及び蒸着用基板を提供する。
【解決手段】開口部を有する反射層と、反射層上に形成され、反射層の開口部と重なる位置に開口部を有する断熱層と、反射層の開口部及び断熱層の開口部を覆って断熱層上に形成された光吸収層と、光吸収層上に形成された材料層と、が設けられている第１の基板を用いる。第１の基板の一方の面と第２の基板の被成膜面を近接させた状態で、第１の基板の他方の面側から光を照射する。照射された光は、反射層の開口部と重なる位置にある光吸収層に吸収され、蒸着材料を加熱する。加熱された蒸着材料は、第２の基板に蒸着される。 （もっと読む）

【課題】歩留まりや信頼性の低下を防止すると共に構成部材である有機ＥＬ素子の性能を向上させるための有機ＥＬ装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極２１と、上部電極と、前記下部電極２１と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、からなる有機ＥＬ素子を有する画素を複数備える有機ＥＬ装置の製造方法において、前記下部電極２１が設けられた基板上に保護層を形成する工程と、少なくとも一部の画素に対応する領域に開口部３１を有するマスク３０を前記保護層に密着させた状態で、前記開口部３１に対応する領域に設けられている保護層を選択的に除去する工程と、前記保護層が除去された領域において、前記下部電極２１上に有機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする、有機ＥＬ装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】画素を有する発光装置の作製方法であって、画素は第１のバンクと第２のバンクにより区切られ、塗布部が、ノズルとロッドにより構成され、第１のバンクと前記第２のバンクの間に、塗布部によりストライプ状の塗布液が塗布され、塗布液は、ノズルからロッドを伝って画素電極表面に塗布され、ロッドの先端部は球状とされている発光装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、クラスタを自由に構成できる有機ＥＬデバイス製造装置及び同製造方法を提供することにある。
【解決手段】
本発明は、蒸着材料を基板に蒸着する処理部を具備する真空処理チャンバと、前記基板を搬入または搬出する受渡室と、前記基板を前記受渡室と前記複数の処理部との間を放射状に搬送する搬送手段とを具備する真空搬送チャンバとを備えるクラスタを、前記受渡室を介して複数有する有機ＥＬデバイス製造装置において、前記受渡室は、載置基台に支持され前記基板を載置する載置部と、前記基板を前後反転させる前後反転補正機構、前記基板を搬送方向に移動させる搬送方向移動機構のうち少なくとも一方を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体装置において生じるＴＦＴのバラツキを低減する。
【解決手段】トランジスタと、第１のソース配線と、隣り合う第２のソース配線と、電源供給線とを有し、第１のソース配線は、トランジスタと電気的に接続することができ、記トランジスタは、チャネル形成領域を有し、チャネル形成領域は、電源供給線と重なる領域を有し、チャネル形成領域は、第２のソース配線と重なる領域を有し、電源供給線は、第２のソース配線と重ならない半導体装置である。その結果、チャネル長Ｌに対するチャネル幅Ｗの比が０．１〜０．０１であるＴＦＴを提供することができ、各ＴＦＴ間のバラツキを低減することができる。さらに、電源供給線は第１のソース配線よりも幅の広い領域を有し、電源供給線は、第２のソース配線よりも幅の広い領域を有する。 （もっと読む）

【課題】クロストーク現象の発生が抑制された発光パネルを提供する。または、クロストーク現象の発生が抑制された発光パネルの作製方法を提供する。
【解決手段】一方の発光素子の第１の電極と、他方の発光素子の第１の電極と、２つの第１の電極を隔てる絶縁性の隔壁を有し、隔壁の側面と重なる部分に発光性の有機化合物を含む層の厚さＡ_０の１／２より薄い厚さＡ_１の部分を含み、第２の電極の隔壁の側面と重なる部分の厚さＢ_１と、第１の電極と重なる部分の第２の電極の厚さＢ_０から求めた比（Ｂ_１／Ｂ_０）が（Ａ_１／Ａ_０）より大きい構成とする。 （もっと読む）