【課題】有機ＥＬ素子を用いた表示装置において、金属を接合部材として用いることによって外部の水分や酸素の影響を防止すると同時に、金属接合部に起因する寄生容量の発生を防止する。
【解決手段】有機ＥＬ素子を形成した第１基板２６と、第２基板２７とを、共通電極１１を介して金属接合部２５により接合する。 （もっと読む）

【課題】トランジスター１２１のゲートノードｇがノイズ等による影響を受け難くする。
【解決手段】画素回路１１０は、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター１２１と、二端子型のＯＬＥＤ１５０と、データ線１４とトランジスター１２１のゲートとの間でオンまたはオフするトランジスター１２２と、トランジスター１２１におけるゲートとドレインとの間でオンまたはオフするトランジスター１２３と、ＯＬＥＤ１５０におけるアノードＡdと、リセット電位を給電する給電線１６との間でオンまたはオフするトランジスター１２４と、ＯＬＥＤ１５０への電流経路でオンまたはオフするトランジスター１２５とを含む。画素回路１１０が形成される領域は、トランジスター１２１〜１２３が配置される第１領域１１０ａと、トランジスター１２４、１２５が配置される第２領域１１０ｂとに分離される。 （もっと読む）

【課題】 フォトリソグラフィを用いて有機化合物層をパターニングする有機ＥＬ装置の製造方法において、パターニングに用いる剥離層の残渣が有機化合物層の表面に残り、安定した特性の有機ＥＬ装置を得ることができない。
【解決手段】 第１有機化合物層の上にマスク層および剥離層を所定のパターンに形成し、マスク層および剥離層を用いて第１有機化合物層をパターニングした後に第２有機化合物層を形成し、剥離層を溶解させる剥離液に接触させて剥離層の上に形成された第２有機化合物層を剥離層と共に除去する工程を有する有機ＥＬ装置の製造方法において、各有機化合物層のパターニングが完了するまで、第１有機化合物層および第２有機化合物層を犠牲層で覆って保護する。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を有し、かつ生産性が高い有機ＥＬ発光装置等の装置を製造するための成膜装置を提供する。
【解決手段】マスク部材１１と、マスク部材１１を固定するフレーム１２と、からなるマスクユニット１０と、マスクユニット（１０）１基に対して１組設けられるアライメント機構と、を備え、マスク部材１１が、複数組の開孔パターン１３ａが並列して設けられてなる開孔部１３を有し、前記アライメント機構により、複数の成膜領域がマトリクス状に設けられている一枚の基板１に対して複数のマスクユニットが互いに干渉されることなく配置され、成膜時においてマスクユニット１０を交換し又は移動することなく、一括して薄膜を成膜することを特徴とする、成膜装置。 （もっと読む）

【課題】マイクロディスプレイであっても意図しない領域における発光を抑えることが可能な発光装置を提供する。
【解決手段】本発明の発光装置は、基板と、基板上に配置され、光透過性を有する第１電極と、第１電極と対向して配置され、半透過半反射性を有する第２電極と、第１電極と第２電極との間に配置された有機発光層と、第１電極の端部を覆う第１絶縁層と、基板と第１電極との間に配置された第１反射層および第２反射層と、を備え、第１電極は、第１絶縁層と重ならない第１部分と、第１絶縁層と重なる第２部分とを有し、第１部分と重なる領域では、第１反射層と第２電極とで第１共振構造が形成され、第２部分と重なる領域では、第２反射層と第２電極とで第２共振構造が形成され、第１反射層と第２電極との間の光学的距離は、第２反射層と第２電極との間の光学的距離と等しい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示装置およびその駆動方法に関する。
【解決手段】表示装置は、第１グループ画素および第２グループ画素に第１映像および第２映像が表示される順によって表示装置の一フレーム単位で映像ソース信号を配列する。表示装置は、映像ソース信号の一フレーム期間中の単位表示期間の整数倍期間以外の残りの期間に表示される映像の種類を映像ソース信号の一フレーム単位に変える。表示装置は、単位表示期間の整数倍期間に対応する映像ソース信号の配列に残りの期間に対応する映像ソース信号配列を加える。単位表示期間は、第１映像および第２映像が時分割されて前記第１グループ画素および前記第２グループ画素に一フレームずつ表示される期間である。 （もっと読む）

【課題】高い解像度を有する有機ＥＬ発光装置が得られ、かつ生産性が高い有機ＥＬ発光装置の製造装置を提供する。
【解決手段】複数のマスク部材１０と、複数のマスク部材１０を固定するフレーム２０と、からなるマスクユニット２と、マスク部材１０と基板４０との相対位置を決めるアライメント機構と、蒸着源３０と、を備え、マスク部材１０が、複数組の開孔パターン１２が並列して設けられてなる開孔部１１と、マスク部材１０上であってマスク部材１０とフレーム２０とが接合している領域に設けられるアライメントマーク１４，１５と、を有し、マスク部材１０と、マスク部材１０と同一の形状の基板４０と、が、前記アライメント機構を用いて、マスク部材１０に設けられるアライメントマーク１４、１５と基板４０に設けられるアライメントマーク４２、４３とを合わせることによってアライメントが行われる。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比、高精細の障壁を備えた蛍光体基板を提供する。
【解決手段】本発明の蛍光体基板１は、基板２と、基板２上に設けられ、入射された励起光により発光する蛍光体層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、蛍光体層の側面を囲む障壁４と、を備え、蛍光体層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと障壁４とを有する第１の領域Ｍ１と、第１の領域Ｍ１の外側に位置する第２の領域Ｍ２と、を備え、第２の領域Ｍ２には、第１の領域Ｍ１に形成された障壁４を構成する全ての部材あるいは一部の部材で形成された構造物５が設けられ、障壁４と構造物５の少なくとも一部とが連続体をなしている。 （もっと読む）

【課題】表示装置あるいは太陽電池のいずれの半導体素子の製造工程において幅広く利用されている塑型もしくは表面加工工程において、処理工程数が少なく、簡便で選択精度に優れ、製造コストを削減できる塑型もしくは表面加工工程に使用できる水溶性ペーストを提供すること。
【解決手段】（Ａ）水溶性高分子、（Ｂ）界面活性剤並びに（Ｃ）無機物微粒子及び有機物微粒子からなる群より選ばれる少なくとも１種を含有する塑型または表面加工用水溶性ペースト組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】データ信号の振幅を圧縮しつつ、データ線の狭ピッチ化を可能とする。
【解決手段】一端がデータ線１４に接続された保持容量４４と、データ線１４の各々の電位をそれぞれ保持する保持容量５０と、階調レベルに応じた電位のデータ信号Ｖd(j)を一旦保持し、保持したデータ信号が所定のタイミングで保持容量４４の他端に供給される保持容量４１とを備え、これらは半導体基板に形成され、保持容量４１は、電気的に並列に接続される第1容量４１１と第２容量４１２とを備え、半導体基板１５０と垂直方向から見たとき、第１容量４１１と第２容量４１２とは重なるように形成される。 （もっと読む）

【課題】画素回路を微細化する一方で、発光素子に供給する電流を精度良く制御する。
【解決手段】画素回路１１０は、シリコン基板１５０に形成され、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター１２１、トランジスター１２１により供給された電流に応じて発行するＯＬＥＤ１３０、トランジスター１２１のゲートに電気的に接続されたトランジスター１２２、トランジスター１２１のゲート・ドレイン間に電気的に接続されたトランジスター１２３、および、トランジスター１２１のゲートに電気的に接続されトランジスター１２１のゲート・ソース間の電圧を保持する保持容量１３２を備え、トランジスター１２２のソースまたはドレインの一方と、トランジスター１２３のソースまたはドレインの一方とは、共通の拡散層により形成される。 （もっと読む）

【課題】輝度ムラの発生を抑止しつつ、発光素子に供給する電流を精度良く制御する。
【解決手段】電気光学装置１０は、第２の方向に延在する複数のデータ線１４と、第２の方向に延在し、所定電位が供給される複数の電位線１６と、ゲート・ソース間の電圧に応じた電流を供給するトランジスター１２１、トランジスター１２１により供給された電流に応じて発行するＯＬＥＤ１３０、トランジスター１２１のゲート・ソース間の電圧を保持する保持容量１３２、および、データ線１４とトランジスター１２１のゲートとの間でオンまたはオフするトランジスター１２２を有する複数の画素回路１１０と、を備え、複数のデータ線１４の各々と、複数の電位線１６の各々とは同層に形成され、複数のデータ線１４および複数の電位線１６のうち、互いに隣り合うデータ線１４および電位線１６によって、当該データ線１４の電位を保持する保持容量５０が形成される。 （もっと読む）

【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを歩留まりよく提供する。該トランジスタを含む半導体装置においても、高性能化、高信頼性化、及び高生産化を達成する。
【解決手段】酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、及び側面に側壁絶縁層が設けられたゲート電極層が順に積層されたトランジスタを有する半導体装置において、ソース電極層及びドレイン電極層は、酸化物半導体膜及び側壁絶縁層に接して設けられる。該半導体装置の作製工程において、酸化物半導体膜、側壁絶縁層、及びゲート電極層上を覆うように導電膜及び層間絶縁膜を積層し、化学的機械研磨法によりゲート電極層上の層間絶縁膜及び導電膜を除去してソース電極層及びドレイン電極層を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、デルタ構造のディスプレイに画像をレンダリングする方法に関する。
【解決手段】前記ディスプレイは、交差配置された複数の第１のサブピクセル群と第２のサブピクセル群とを備え、各第１のサブピクセル群は、第１色を有する第１のサブピクセルを備え、各第２のサブピクセル群は、第２色を有する第２のサブピクセル及び第３色を有する第３のサブピクセルを備えている。前記方法は、カラー画像を入力し；カラー画像を分析して、そのカラー画像のパターンを推定し；カラーテンプレートを決定し、当該カラーテンプレートは複数のサブピクセルを備え、一つのカラーテンプレートは少なくとも一つのパターンに対応し；強度分布図を生成し、強度分布図には、ディスプレイの第１のサブピクセル、第２のサブピクセル及び第３のサブピクセルの強度が含まれ、その強度はカラーテンプレートに基づいて生成され；強度分布図に基づいて、電気信号をディスプレイに出力する、ステップを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高精細な複数の開口パターンの形成を容易にすると共に、ハンドリング中も開口パターンの形状及び位置が維持できるようにする。
【解決手段】平板状の磁性金属材料に薄膜パターンよりも形状が大きい貫通する複数の開口部６を設けて保持部材１を形成し、保持部材１の一面に可視光を透過する樹脂製フィルム２を密着して保持し、第１の磁気チャック１７上に載置された基板３に対して保持部材１を位置合わせした後、磁力により保持部材１を吸着してフィルム２を基板３面に密着させ、保持部材１の開口部６内のフィルム２の部分にレーザ光を照射して、薄膜パターンと同形状の貫通する開口パターン４を形成し、第２の磁気チャック１８の磁力により保持部材１を吸着して該保持部材１及びフィルム２を一体的に基板３上から剥離する。 （もっと読む）

【課題】メタルマスクを直接冷却することが可能なメタルマスク冷却機構と、そして、当該機構を備えた有機ＥＬ成膜装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着チャンバ中で、基板とメタルマスク８３とのアライメントを行って蒸着材料を当該基板に蒸着する有機ＥＬ成膜装置におけるメタルマスクの冷却機構は、メタルマスクを間に挟み込んで、外形「ロ」の字状に形成され、一方の表面上に前記マスクを取り付ける固定フレーム８２の外枠に沿って設けられる、複数の固定板８４を備えており、固定板は、各々、熱伝導性に優れた部材により細長い板状に形成されると共に、その内部には冷媒を流すための流体流路を形成すると共に、更に、固定板の各々には、前記固定板の流路に冷媒を供給するための配管と排出するための配管とを設けた。 （もっと読む）