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Fターム[3K107CC36]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 目的、効果 (41,328) | 表示性能 (7,327) | 高開口率化 (484)

Fターム[3K107CC36]に分類される特許

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【課題】画質の低下を招くことなく、開口率の向上による長寿命化を図ることができる画像表示装置を提供する。
【解決手段】画像表示装置であって、画像を構成し且つ格子状に配列された複数絵素に含まれた各画素に各々対応する各信号を受け付けて発光素子を駆動させる画素回路が配列された回路層と、複数色の発光素子が配列され且つ隣接配置された複数色の発光素子を各々含む複数の絵素部が格子状に隣接配置された素子層とを備え、各色の発光素子が格子状に配列され、各絵素部に含まれ且つ隣接する2以上の発光素子の配列方向が、複数の絵素部に含まれ且つ矩形状に隣接配置された4つの絵素部の所定位置を結ぶ四角形のうちの所定の一辺に対し、複数絵素のうちの矩形状に隣接配置された4つの絵素の所定点を結ぶ四角形のうち所定の一辺に対応する一辺と対角線とが成す角度だけ傾けられている。 (もっと読む)


【課題】従来TFT素子を用いた有機EL素子においては、その開口率が低くなる制約があり、輝度を稼ぐために駆動電圧が高くなり、消費電力が増大し、寿命が短くなる課題を有していた。また、画素間配線の反射のため、外光が映りこみ、コントラストが低下する課題があった。
【解決手段】有機EL素子の膜構造を、基板1上に陰極2、発光層3、正孔注入層4、透明陽極5の順の積層構造とした。 (もっと読む)


【目的】スパッタリングによる有機発光層へのダメージを最小限にし、より優れた高い光透過率および開口率を備えたAMOLEDディスプレイの画素構造を提供する。
【解決手段】アクティブマトリックス有機発光ディスプレイの画素構造とその製造方法が提供され、その方法中、透明電極と有機発光ダイオードと反射電極とが基板上に形成された後、少なくとも1つのスイッチング薄膜トランジスターと、少なくとも1つの駆動薄膜トランジスターと、走査線と、データ線と、蓄積キャパシターとが基板上に形成される。 (もっと読む)


【課題】各単位回路の構成を簡素化する。
【解決手段】駆動トランジスタTDRは、電圧供給線17と電気光学素子Eとの間に介在する。スイッチング素子SWは、設定期間PSTにて駆動トランジスタTDRをダイオード接続する。容量素子Cは、駆動トランジスタTDRのゲートに接続された第1電極E1と信号線15に接続された第2電極E2とを含む。設定期間PSTは第1期間P1と第2期間P2とを含む。第1期間P1では、信号線15のデータ信号D[j]が電圧V0に設定されることでゲートの電圧が上昇して駆動トランジスタTDRはオン状態となる。第2期間P2では、データ信号D[j]がデータ電圧V[i]に設定されることで、データ電圧V[i]に応じた電圧が容量素子Cに保持される。設定期間PSTの経過後の駆動期間PDRにおいては、電気光学素子Eが、容量素子Cに保持された電圧に応じた階調に制御される。 (もっと読む)


【課題】長寿命化を実現する画素回路およびその画素回路を備える表示装置を提供する。
【解決手段】互いに交差するように配列された複数のゲートラインおよび複数のソースラインの交点に対応してそれぞれ配設される画素回路10は、第1の発光素子103および第2の発光素子103と、第1の発光素子103および第2の発光素子105の陽極にそれぞれ接続され、第1の発光素子103および第2の発光素子105のそれぞれを駆動する第1のトランジスタ104および第2のトランジスタ106と、第2の発光素子105の陰極、および第1のトランジスタ104の第1の発光素子103と接続されていない側と接続される第1の電源ライン101と、第1の発光素子103の陰極、および第2のトランジスタ106の第2の発光素子105と接続されていない側と接続され、第1の電源ライン101とはその極性が異なる第2の電源ライン102とを備えており、第1の電源ライン101および第2の電源ライン102の極性が所定の時間間隔で切り替えられる。 (もっと読む)


【課題】トップエミッションタイプの有機EL表示装置において、有機EL層の下部電極にITOを含む化学的に安定導電膜を使用できるようにする。
【解決手段】有機EL層は電子注入層111、電子輸送層112、発光層113、ホール輸送層114、ホール注入層115を含み、上部電極12には透明電極であるIZO膜を使用し、下部電極9は2層構造とし、下層に反射率の高いAlまたはその合金を用い、上層は化学的に安定なITO膜を用いる。下部電極9であるITOからの電子注入を可能にするため、電子注入層111にLiとAlq3をmol比3:1で共蒸着した膜を用いる。これによって、ITO膜からの電子注入を可能とし、トップエミッションタイプの有機EL表示装置を実現する。 (もっと読む)


【課題】電極間でのショートによる消灯やリーク電流による輝度低下、輝度バラツキの発生による表示品質の低下を伴わず、良品質の有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】一対の電極間に、少なくとも1層以上の発光層を含む有機層を狭持した有機EL素子を複数有し、前記複数の有機EL素子は、基板側電極上に形成された絶縁層によって区画されて成るアクティブマトリクス型の有機EL表示装置であって、有機層の少なくとも1層の周縁部を覆うように、絶縁層が形成されている。 (もっと読む)


【課題】気密封止するための構造が簡素化され、全体的に略均一な圧力をかけて形成することができる有機ELデバイスを提供する。
【解決手段】第1フィルム状基材1は絶縁性透明樹脂フィルム11の片面にガスバリア透明層12が形成されたもので、その絶縁性透明樹脂フィルム11が有機EL素子9の透明陽電極層91と当接し、第2フィルム状基材2は絶縁性樹脂フィルム21の片面にガスバリア層22が形成されたもので、その絶縁性樹脂フィルム21が有機EL素子9の陰電極層95と当接し、有機EL素子9の周囲では縁性透明樹脂フィルム11と絶縁性樹脂フィルム21とが接着し、それらの端面がガスバリア性フィルム3で被覆されている。 (もっと読む)


【課題】画素の配列ピッチを等間隔に設定しつつ、画素の開口率を高めることができる電源線の配線レイアウトを提案する。
【解決手段】本発明の電気光学装置は、電源回路から電源供給を受けて駆動される電気光学素子を含む、マトリクス状に配置された複数の画素(10)を備えた電気光学装置であって、前記複数の画素(10)は、行方向又は列方向のうち少なくとも何れか一方向に並ぶ一連の画素からなる複数の画素群を構成しており、前記複数の画素群の各々の画素群の間に配線形成領域(31,32,33,34)が設けられ、前記配線形成領域(31,32,33,34)の幅は略等しいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で、受光信号のS/N比を向上させることができるようにする。
【解決手段】表示パネルでは、画像の表示解像度の単位としてのピクセルPixか、または、ピクセルPixを構成するサブピクセルSubPixごとに配置されたサブ受光回路101a乃至101cが、表示回路と同一の基板上でセンサ接続線102を介して接続されている。サブ受光回路101cは、サブ受光回路101a乃至101cの各受光センサSSRから得られる受光信号を受光回路101の受光信号として出力する。本発明は、例えば、LCDやELディスプレイなどの表示装置に適用できる。 (もっと読む)


【課題】回路規模を増大させることなく所定期間内に駆動電流の書き込みを完了させる。
【解決手段】コントローラは、本来供給すべき画像データに代えて設定準備データを前記電流駆動回路に供給し、電流駆動回路に設定準備データに対応する駆動電流を設定準備期間が経過するまで供給させる(ST102,ST103)。次に、コントローラは、画像データを電流駆動回路に供給し、電流駆動回路に画像データに対応する駆動電流を電流設定期間が経過するまで供給させる(ST104,ST105)。なお、設定準備期間および電流設定期間における駆動電流の供給によって駆動対象回路に対する画像データに応じた駆動電流の書き込みが完了するように、設定準備データのデジタル値が決定される。 (もっと読む)


【課題】発光層を含む機能層の平坦化を実現させることが可能な発光装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】有機EL装置1は、基板上に、画素5ごとに形成された画素電極11と、一部が画素電極11の外縁部に重なった状態に形成された無機バンク12と、無機バンク12上に、複数の発光領域6を囲うようにして形成された有機バンク13とを有している。無機バンク12は、発光領域6に対応する領域に開口部12aを有している。有機バンク13は、開口部12aの近傍を除いた領域に形成されている。画素電極11、無機バンク12、有機バンク13によって形作られる凹部は、画素5及び発光領域6が液滴吐出法に適さないほど小さい場合であっても、これらを複数包含しているため、液滴吐出法によって平坦な層を形成することができる。当該凹部には発光層を含む機能層が配置され、機能層を挟んで画素電極11の反対側には陰極が形成されている。 (もっと読む)


【課題】上部透明電極とその補助電極を備えるとともに、高い開口率を有し、しかも容易に製造することができる有機EL表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板12と、該基板上にストライプ状に配置された下部電極14と、該下部電極上に配置された絶縁層18と、前記下部電極と交差する方向にストライプ状に配置された上部透明電極28と、前記下部電極と前記上部透明電極との間に配置された有機EL層26と、前記絶縁層上に配置され、前記上部透明電極と接続する上部電極用補助電極20と、前記絶縁層上又は前記上部電極用補助電極上に配置され、上部で幅が拡大している絶縁隔壁24とを有し、前記上部電極と前記上部電極用補助電極とが、前記絶縁隔壁の幅が最も拡大している部分と前記絶縁層との間であって、前記絶縁隔壁の幅が最も拡大している部分よりも内側で接続していることを特徴とする有機EL表示装置10。 (もっと読む)


【課題】形成プロセスが簡便で、光の取り出し効率が高く、陰極を断線させることなく、電極パターンのエッジ部に起因する陽極−陰極間の短絡及び表示素子の破壊を確実に防止できる順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成する。
【解決手段】電極パターン2が形成された基板1上に酸失活層3を形成し、さらに絶縁層4を積層形成する。その後、フォトマスク5を介して露光光線6により絶縁層4の露光を行い、露光後ベーク処理を施した後、任意の現像液と現像時間で現像することにより順テーパー形状または裾引き形状の断面形状を有する絶縁パターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して作製可能な表示装置及びその作製技術を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上に選択的に光吸収層を形成し、絶縁表面上及び光吸収層上に絶縁層を形成し、絶縁表面、光吸収層及び絶縁層にレーザ光を照射し、絶縁層のレーザ光照射領域において光吸収層上の絶縁層のみを選択的に除去し絶縁層に光吸収層に達する開口を形成し、開口に光吸収層と接するように導電膜を形成する。露出した光吸収層と接するように開口に導電膜を形成することによって、光吸収層及び導電膜は絶縁層を介して電気的に接続することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ディスプレイデバイスに関し、特に有機EL素子を用いた表示パネルを提供する。
【解決手段】電極が交差する領域に多数の画素が形成されるダブルスキャン構造の有機EL素子であって、透明基板と、前記透明基板の上に形成されている第1電極と、前記第1電極と連結されて前記第1電極と一部分が重なるように形成される補助電極と、前記画素上に形成されている第1電極の上に形成される有機発光層と、前記有機発光層の上に前記第1電極と交差するように形成される第2電極とからなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイの開口率を上昇する。
【解決手段】各画素に設けられるトランジスタ6,7のゲート電極2−1、4−1を形成するゲートメタル層と同じ層にデータライン1−1を形成する。ゲートライン2−2及び電源ライン3をデータライン1−1に交差して異なる層に形成し、電源ライン3を水平方向のサブピクセルで共有する。 (もっと読む)


【課題】有機発光層の電圧制御を行いつつ発光効率を向上できる有機発光トランジスタ及び表示装置を提供する。
【解決手段】有機発光トランジスタは、ソ−ス電極層に対向するドレイン電極層と、ソ−ス電極層及びドレイン電極層の間に形成された有機発光層と、有機発光層及びソ−ス電極層の間に形成された半導体層と、ソ−ス電極層におけるドレイン電極層と対向している面の反対側にゲ−ト絶縁膜を介して配置されたゲ−ト電極層と、を有する有機発光トランジスタであって、有機発光層及びソ−ス電極層の間に形成されかつ開口を有する電荷規制層と、電荷規制層及びソ−ス電極層の間に形成されかつソ−ス電極層から前記開口へ電荷を中継する中継領域と、を有する。 (もっと読む)


【課題】隣接する表示画素間で混色を生じることなく、良好な発光機能層(有機EL層)が形成された表示パネルを備えた表示装置、及び、当該表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁性基板11上に配列される各表示画素PIXの画素形成領域Rpxを画定するためのバンク18は、少なくとも共通電圧ラインLcとなる金属層(主配線層18c)を含む導電性バンク部を備えた構造を有し、当該金属層の上面18upが撥液化され、各画素形成領域Rpxに露出する画素電極と金属層の側面18sdが親液化された状態で、有機EL層16を形成するための有機化合物含有液を塗布し、加熱乾燥させる。 (もっと読む)


【課題】接触転写法によって下部電極上に有機層をパターン形成する際に、画素の開口率を低下させずに補助配線上への有機層の形成を防止でき、これにより上部電極の電圧降下を防止して表示性能の向上を図ることを可能とした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板10の平坦面上に、下部電極18とこれよりも膜厚の薄い補助配線20とをパターン形成する。これらを覆う状態で第3絶縁膜22を平坦化絶縁膜として形成し、画素開口22aとこれよりも深い接続孔22bを補助配線20上に形成する。補助配線20との間に間隔dを設ける一方、下部電極18に密着させる状態で、有機層5が設けられたドナーフィルム1を基板10に対向配置し、この状態でのレーザ光hの照射によりドナーフィルム1を密着させた部分でかつレーザ光hを照射した部分に対応させて有機層5を下部電極上に選択的にパターン転写する。 (もっと読む)


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