【課題】製造工程が単純化され、かつ開口率が向上した有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板；基板上に形成される補助電極；補助電極上に形成され、活性層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を備えるＴＦＴ；ＴＦＴと電気的に連結され、ソース電極及びドレイン電極の少なくとも一部と同一層に同一物質で形成された画素電極、発光層を含む中間層、及び画素電極と対向するように配置された対向電極が順次積層された有機発光素子；ソース電極及びドレイン電極と同一層に同一物質で一定ほど離隔して形成されて、補助電極と前記対向電極とを電気的に連結するコンタクト電極；を備える有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上にある複数の多面構造体１１と、基板１０上にある複数の画素２０と、を有し、画素２０が、互いに発光色が異なる少なくとも２種類の発光素子部（２１Ａ，２１Ｂ，２１Ｃ，２１Ｄ）を有し、前記発光素子部が、第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間にある発光層と、を有し、前記発光素子部が、多面構造体１１の傾斜面上にあり、画素２０が、ストライプ配列で配列されていることを特徴とする、発光装置１。 （もっと読む）

【課題】開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上にある複数の多面構造体１１と、基板１０上に設けられる複数の画素２０と、から構成され、画素２０が、互いに発光色が異なる３種類の発光素子部（２１Ｒ、２１Ｇ、２１Ｂ）を有し、前記発光素子部が、第一電極と第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有し、前記発光素子部が、基板１０上に設けられる多面構造体１１の傾斜面上に設けられ、多面構造体１１が、コーナーキューブであることを特徴とする、発光装置１。 （もっと読む）

【課題】複数の画素に電源を供給する電源線による開口率の減少を最小化し、電源線の電圧降下によるクロストークの発生を低減できる表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素が行列状に配列される画素領域を含む表示装置は、前記画素領域の一側及び前記一側に対向する他側に設けられる複数の主電源線、前記画素領域の一側に設けられる第１主電源線に接続して、前記画素領域に延長される複数の第１副電源線、及び前記画素領域の他側に設けられる第２主電源線に接続して、前記画素領域に延長される複数の第２副電源線を含み、前記複数の第１副電源線及び前記複数の第２副電源線は、互いに異なる画素列に沿って延長され、一つの画素列に含まれる複数の画素は、隣接した第１副電源線及び隣接した第２副電源線に交互に接続される。 （もっと読む）

【課題】 複数のスリット状の開口を持つ蒸着マスクにおいて、隣接するスリット状の開口間の箔が互いに接触して密着し、スリット状開口部が塞がって成膜パターンの不良を引き起こしてしまう。
【解決手段】連続して配置された少なくとも３つの前記開口の少なくとも一方の端部を、前記開口の長手方向に互いにずらして配置する。 （もっと読む）

【課題】発光素子の特性ばらつき、劣化に伴う電流値ばらつきを生じにくくする表示装置とその駆動方法を提供する。
【解決手段】トランジスタと、容量素子と、発光素子と、ソース信号線と、電流供給線とを有し、前記発光素子は、前記トランジスタによって決定される電流値に応じた輝度で発光する表示装置の駆動方法であって、前記トランジスタのソースに第１の電位を入力する動作と、前記ソース信号線から、前記トランジスタのゲートに映像信号を入力する動作と、前記第１の電位と、前記映像信号とに応じて決定される電位差を、前記容量素子に保持し、前記トランジスタのソースの電位を第２の電位に変化させる動作とを含む。前記容量素子は、トランジスタのゲート・ソース間電圧を保持するため、トランジスタの第１の電極の電位が変化しても、ゲート・ソース間電圧を一定とすることにより電流値を一定とする。 （もっと読む）

【課題】開口率、発光効率及び寿命を向上させた発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上にある複数の多面構造体１１と、基板１０上にある複数の画素２０と、から構成され、画素２０が、互いに発光色が異なる複数の発光素子部（２１ｒ、２１ｇ、２１ｂ）を有し、前記発光素子部が、第一電極と、第二電極と、前記第一電極と前記第二電極との間に配置される発光層と、を有し、前記発光素子部が、多面構造体１１の傾斜面上にあり、画素２０が、デルタ配列で配列されていることを特徴とする、発光装置。 （もっと読む）

【課題】高精細、高開口率を有する発光装置を提供する。
【解決手段】第１のトランジスタ及び第２のトランジスタ上の層間絶縁膜と、層間絶縁膜上の第１の電極と、第２の電極と、第１の電極の端部と第２の電極の端部を覆う絶縁物と、第１の電極及び絶縁物上の第１の発光層と、第２の電極及び絶縁物上の第２の発光層と、第１の発光層と重なる位置の第１のカラーフィルタと、第２の発光層と重なる位置の第２のカラーフィルタと、第１のカラーフィルタと第２のカラーフィルタの間の遮光部とを有し、第１の電極は第１のトランジスタに電気的に接続され、第２の電極は第２のトランジスタに電気的に接続され、第１の発光層の一部と第２の発光層の一部は、絶縁物上で重なっており、遮光部は、絶縁物上で重なる第１の発光層の一部と第２の発光層の一部に重なって設けられる。 （もっと読む）

【課題】電気光学装置において、新規の構成を有する画素回路を用いることにより、従来の構成の画素よりも高い開口率を実現することを目的とする。
【解決手段】ｉ行目を除くゲート信号線の電位は、ｉ行目のゲート信号線１０６が選択されている以外の期間においては定電位となっていることを利用し、ｉ−１行目のゲート信号線１１１をｉ行目のゲート信号線１０６によって制御されるＥＬ素子１０３への電流供給線として兼用することで配線数を減らし、高開口率を実現する。 （もっと読む）

【課題】電流入力型電流源回路において、信号電流の書き込み動作を素早く行う半導体装置を提供する。
【解決手段】プリチャージ動作を行った後、信号電流を書き込む。そのため、すばやく書き込むことが出来る。プリチャージ動作としては、複数の回路に電流を供給する。このとき、電流を供給する回路数に応じて、電流の大きさを大きくする。その結果、すばやく定常状態にすることが出来る。なお、プリチャージ動作を行うとき、信号を入力する対象の回路以外の回路に電流を供給してもよい。 （もっと読む）

【課題】発光素子を構成する電極の膜抵抗を低下させる構造を持つ発光装置を提供する。
【解決手段】第１の電極１１、第２の電極２０、及び第１の電極１１と第２の電極２０と
に挟まれた有機化合物層１７でなる発光領域と、発光領域でない領域において、第１の電
極１１上の絶縁物２４と、絶縁物上の第２の電極２０と、第２の電極の下面と接する補助
電極２１とを有する発光装置の構成により、第２の電極２０の低抵抗化および薄膜化を可
能とする。また、第２の電極は、フレキシブルプリントサーキットに接続される端子部の
電極と電気的に接続され、第２の電極の引き出しを可能とする。 （もっと読む）

【課題】構造及び製造工程を簡素化しながら、開口率を向上させた、ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係るディスプレイ装置１０１は、基板１１１、前記基板１１１上に形成された前記第１透明導電膜１３０１及び前記第１透明導電膜１３０１上に形成された第１金属膜１３０２を含む多重膜構造と前記第１透明導電膜１３０１で形成された単一膜構造とを含むゲート配線、前記ゲート配線の一部の領域上に形成された半導体層１５３、そして前記半導体層上に形成された第２透明導電膜１７０１及び前記第２透明導電膜１７０１上に形成された第２金属膜１７０２を含む多重膜構造と前記第２透明導電膜１７０１で形成された単一膜構造とを含むデータ配線を含む。 （もっと読む）

【課題】必要十分なキャパシティをもつ保持容量を備えた半導体装置を提供する。
【解決手段】金属表面を有する基板１１と、前記金属表面を有する基板上に形成された絶縁膜１２と、前記絶縁膜上に形成された画素部とを有する半導体装置において、前記画素部は、ＴＦＴと、該ＴＦＴと接続する配線２１とを有しており、保持容量は、前記金属表面を有する基板、前記絶縁膜および前記配線により構成されている。前記絶縁膜の膜厚が薄いほど、また、前記絶縁膜と前記配線の接する領域の面積が大きいほど、大きなキャパシティを得られるので有利である。 （もっと読む）

【課題】画素部の高精細化に伴い、新規の構成を有する画素を用いることでソース信号線側駆動回路の段数を水平方向画素数の１／２とし、余裕を持たせた配置とすることが出来、かつ高開口率化にも貢献出来る電気光学装置を提供することを課題とする。
【解決方法】１水平期間を前半、後半の期間に分割し、１本のソース信号線には隣接した２画素分の信号を順次入力し、隣接した２画素の間に配置した画素選択部によって１水平期間の前半もしくは後半で、それぞれ一方の画素を選択して信号の書き込みを行う。１本のソース信号線を隣接した２画素で共有出来るため、開口率の面でも有利となる。 （もっと読む）

【課題】明るい画像表示の可能な、信頼性の高い電子装置を提供する。さらに、上記電子装置の製造コストを低減するためのプロセスを提供する。
【解決手段】トランジスタと発光素子とを有する画素部を有する第１の基板と、前記第１の基板上に、前記画素部を取り囲むように設けられた第１シール材と、前記第１シール材により前記第１の基板に固着された第２の基板と、前記第１シール材の外側で、前記第１の基板の側面と前記第２の基板の側面とを覆う第２シール材と、を有し、前記第２シール材は、前記第１シール材の側面に接して設けられていることを特徴とする電子装置。 （もっと読む）

【課題】占有面積を増大せずにオン電流が低い酸化物半導体トランジスタを得ること、開口率を減少させずに、オン電流が低い酸化物半導体トランジスタを画素に用いた表示装置を得ること、同一基板上に画素にオン電流が低い酸化物半導体トランジスタ、かつ駆動回路にオン電流が高い酸化物半導体トランジスタを用いた表示装置を得る。
【解決手段】絶縁表面上に設けられ、互いに離れて配置された第１のゲート電極及び第２のゲート電極と、ゲート絶縁膜を介して、第１のゲート電極及び第２のゲート電極と重畳する領域、並びに第１のゲート電極及び第２のゲート電極と重畳しない領域を有する酸化物半導体膜と、ゲート絶縁膜、第１のゲート電極、第２のゲート電極、及び、酸化物半導体膜を覆い、酸化物半導体膜と直接接触している絶縁膜とを有する半導体装置、及び、当該半導体装置を有する表示装置に関する。 （もっと読む）

【課題】開口部をシンプルにしてシュリンクの問題を解決する。
【解決手段】駆動トランジスタと、スイッチングトランジスタと、消去用トランジスタと
、を画素内に有する３トランジスタ型の発光装置の場合において、スイッチング用ＴＦＴ
５５０５と消去用ＴＦＴ５５０６の２つのＴＦＴを、第１のゲート信号線５５０２と第２
のゲート信号線５５０３の間に配置する。このように配置することで開口率を上げ、開口
部もシンプルな形状にすることが出来る。 （もっと読む）

【課題】カラー画像を表示する表示装置の開口率を高くする。
【解決手段】赤、緑、青の三色の画素Ｒ，Ｇ，Ｂを、行毎に、二つの赤色画素Ｒ，Ｒと二つの緑色画素Ｇ，Ｇと一つの青色画素Ｂとが同色の画素同士が隣り合わないように所定の順で並んだ配列順の繰り返しで配置する。 （もっと読む）

【課題】小面積化が可能、素子数が少なく構成が簡易、低消費電力動作、製造における高
歩留まりが見込める電流記憶回路を実現する。また、この電流記憶回路をＯＬＥＤ表示装
置等の電流駆動型の表示装置に適用することにより、表示装置の画素開口率の向上、高信
頼性化、高性能化等を実現する。
【解決手段】ドレインまたはソースを複数有するトランジスタのような形状の新規な半導
体素子を用いることを特徴とする。この半導体素子を書込み用素子と駆動用素子に用いる
場合、電流値の読込み、記憶、そして電流出力が、この半導体素子二つで行うことができ
、小面積化が著しく容易となる。 （もっと読む）

【課題】色フィルターを具備する有機ＥＬディスプレイの作製においても、外部環境からの水分等の侵入を長期にわたって防ぐことの可能なトップエミッション型有機ＥＬディスプレイ及びその製造法を提供すること。
【解決手段】複数の有機EL素子が形成された有機EL素子基板と、色フィルター層、ブラックマトリスク層を有する色フィルター基板とを光硬化型シール剤を介して貼り合わせ、（ａ）有機ＥＬ素子基板の外周部に相当する色フィルター基板上のブラックマトリスク層領域内に導光部を形成することと、（ｂ）該導光部の位置に相当する有機ＥＬ素子基板と色フィルター基板の間に、少なくとも光散乱部材を有することを特徴とするトップエミッション型有機ELディスプレイ及びその製造方法。 （もっと読む）