【課題】容易に製造ができ、開口率の高い３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイを提供する。
【解決手段】３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイは、基板１０１と、基板１０１上にマトリクス状に配置された複数の副画素１２０と、前記副画素１２０が配置された領域を規定するバンク１０５と、を有する。本発明の３Ｄ表示用有機ＥＬディスプレイでは、それぞれの前記副画素１２０が、前記基板１０１上に配置された画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌと、前記バンク１０５によって規定された領域内全面に亘って配置され、前記画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌを覆う有機機能層と、を有し、前記画素電極Ａ、１０３Ｒおよび画素電極Ｂ、１０３Ｌが、互いに対向する前記バンク１０５の間に配置される。 （もっと読む）

【課題】断面形状が安定した異種の有機薄膜からなる機能層を備え、輝度むらがない発光が得られる有機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子の製造方法、有機ＥＬ装置、電子機器を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ素子２０は、素子基板１上において陽極としての画素電極２３と陰極としての共通電極２７との間に配置され、発光層２４Ｌを含む異種の有機薄膜が積層された機能層２４と、機能層２４を区画する隔壁部３６とを備え、有機薄膜は、隔壁部３６によって区画された膜形成領域Ａに機能層形成材料を含む液状体を塗布し乾燥することにより形成され、隔壁部３６は、隔壁部３６の厚み方向において側壁に設けられた少なくとも１段の段差部３６ａを有し、隔壁部３６の最上面３５ａと段差部３６ａの上面３４ａとに撥液性が付与され、段差部３６ａを除く側壁の表面は、段差部３６ａの上面に比べて親液性を有している。 （もっと読む）

【課題】狭額縁化を実現しつつ、アノード線もしくはカソード線の電圧降下を防ぐための構造を有した表示装置を提供すること。
【解決手段】表示装置における基板１００の額縁領域において多くの面積を占めていた引き回し配線を、ＦＰＣ１０６などにより外付けの配線とすること、導電性を有する封止缶で代用すること、対向基板１０１に形成した導電膜で代用すること等により、狭額縁化および引き回し配線の電圧降下抑制の二つを実現する。 （もっと読む）

【課題】Ｄ／Ａ変換回路の構成を複雑にすることなく、多階調表示を可能とする表示装置を提供する。
【解決手段】外部から入力されるｍビットデジタルビデオデータをｎビットデジタルビデオデータに変換し、ソースドライバに前記ｎビットデジタルビデオデータを供給する回路と（ｍ、ｎは共に２以上の正数、ｍ＞ｎ）、を有する表示装置であって、電圧階調と時間階調とを同時に行い、２m-n個のサブフレームによって１フレームの映像を形成することによって表示を行う。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタを具備する画素において、開口率の向上を図ることのできる発光表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】薄膜トランジスタ、及び発光素子を有する複数の画素を有し、画素は、走査線として機能する第１の配線に電気的に接続されており、薄膜トランジスタは、第１の配線上にゲート絶縁膜を介して設けられた酸化物半導体層を有し、酸化物半導体層は、第１の配線が設けられた領域をはみ出て設けられており、発光素子と、酸化物半導体層とが重畳して設けられる。 （もっと読む）

【課題】 表示領域を構成する画素の総数は同一でも、従来よりも開口率が向上でき、信号配線の総本数を少なくすることで、信号配線用駆動回路の低コスト化が可能な表示装置を提供する。
【解決手段】 複数の画素３０がマトリクス状に配置された表示領域５０と、画素３０はカラー表示を行うＮ（３以上の整数）原色に対応したＮ個の副画素３５から構成され、副画素３５は、走査配線２と、これに交差する信号配線３と、走査配線２によって制御されるスイッチング素子と、信号配線２とスイッチング素子を介して接続される画素電極７とを有し、画素構成において、走査配線２は、Ｎ個の副画素３５に対応したＮ本が、副画素３５間に群をなして並列に配置され、信号配線３は、Ｎ個の副画素３５に対応した共通の１本が、副画素３５間に配置され、Ｎ個の副画素３５のスイッチング素子に接続されているものである。 （もっと読む）

【課題】電極形成時に有機発光層等に与えるダメージを低減するとともに、電極から有機発光層等への電荷注入を容易にすることができる素子構造を備えた有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】陽極２と陰極５との間に発光物質を含む有機層３が挟まれた有機ＥＬ素子において、陽極２乃至陰極５と有機層３との間に、バイポーラ性電荷輸送用有機化合物と電子受容性化合物とを含む透明保護層４が設けられるように構成して上記課題を解決する。このとき、有機層３と透明保護層４との間に、仕事関数の小さい金属層を含む導電層６’を形成することが好ましく、その導電層６’が、仕事関数の小さい金属層である第１導電層６ａと、元素周期律の１族又は２族に属する元素を少なくとも含む第２導電層６ｂとからなるように構成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
半導体回路と対向基板との位置合わせ及び貼り合せが容易であり、かつ工程数を削減することで歩留りが高く、かつ開口率の高い表示装置を提供することである。
【解決手段】
少なくとも、基板と、ゲート配線と、キャパシタ配線と、ゲート絶縁膜と、半導体活性層と、前記半導体活性層及び前記ゲート絶縁膜上でこれらと接触し、かつ互いに隔絶して形成されたソース配線及びドレイン電極と、前記半導体活性層上に形成された保護膜と、少なくとも前記ソース配線を覆うように前記ソース配線及び前記ドレイン電極及び保護膜上に形成されたソース配線絶縁層と、対向電極が形成された対向基板と、前記基板と前記対向基板の間に形成された表示要素と、を備えた表示装置であって、前記ソース配線絶縁層が前記対向基板と接していることを特徴とする表示装置としたものである。 （もっと読む）

【課題】絶縁層上の補助電極の剥離を防ぎ、かつ絶縁層上の補助電極から外部光によって生じる反射光を抑制した、視認性の良い電界発光表示装置を提供する。
【解決手段】第一絶縁層と補助電極に跨って第二絶縁層が覆い、第一絶縁層と第二絶縁層の接触面積は第二絶縁層と補助電極の接触面積より大きく、かつ第二絶縁層は電界表示装置の表示面に入射した光及び補助電極で反射した光を減衰する吸光性あるいは光路長を有することを特徴とする電界発光表示装置。 （もっと読む）

【課題】多層配線間で形成される寄生容量を低減することを目的の一とする。
【解決手段】画素、メモリ部、又はＣＭＯＳ回路等に配置されたトランジスタのチャネル形成領域２１３、２１４と重なる第１の配線（ゲート電極）の一部または全部と第２の配線（ソース線またはドレイン線）１５４、１５７とを重ねる。また、ゲート電極と第２配線１５４、１５７の間には第１の層間絶縁膜１４９及び第２の層間絶縁膜１５０ｃを設け、寄生容量を低減した半導体装置である。 （もっと読む）

【課題】開口率の高い発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置１０は、行方向及び列方向に配置された複数の画素３０を備える。画素３０は発光駆動トランジスタと、画素電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層上に形成された対向電極とを備える。電流供給ライン（電流供給ライン）Ｌａは、画素３０を行方向に接続し、電流供給ラインＬａは同一方向に並んで配置される。隣接する電流供給ラインＬａは、電流供給ラインＬａ間に位置する画素３０の発光駆動トランジスタのドレイン電極を介して電気的に接続されており、これにより隣接する電流供給ラインＬａが同電位とされる。 （もっと読む）

【課題】発光パネルの製造時に使用するフォトマスクを減らし、開口率の向上を図る。
【解決手段】基板２の上部に形成され、開口を有する遮光部と、遮光部の開口の上部に形成された第１電極４１と、第１電極４１が露出するような開口８を有する隔壁６と、第１電極４１上に形成された少なくとも一層からなる担体輸送層４２と、隔壁６及び担体輸送層４２上に形成された第２電極４６と、を備え、遮光部の形状と隔壁６の形状とが対応している。 （もっと読む）

【課題】輝度ムラや発光色ムラがない画素面積を拡大させることができる有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】画素に対応するパターンで形成された第１電極２を有する基板１を準備する工程と、基板１上の隣り合う第１電極２，２間の隙間Ｇに、その隙間幅Ｗ１より狭い幅Ｗ２の隔壁３を形成して前記画素に対応する開口部を形成する工程と、隔壁３で囲まれた開口部内に有機ＥＬ層の一部又は全部を構成する有機材料を塗布して有機層４，５，６を形成する工程と、有機ＥＬ層上に第２電極を形成する工程と、を少なくとも有する。有機層を塗布形成した工程後で有機ＥＬ層の一部又は第２電極を形成する工程前に、絶縁層１７を形成することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】表示装置内でシール材部分と画素部及び駆動回路周辺の配線部分とが占める面積が大きく、表示装置を小型化する上で問題となっていた。
【解決手段】画素基板上のシール材で覆われた部分に配線を形成する。なお、この配線を介してシール材に紫外線を照射した時に、配線上部のシール材が紫外線に十分露光される様にこの配線の線幅を設定する。線幅の大きな配線を用いる代わりに、複数の線幅の小さな配線を並列に接続した形状の配線を用いる。これにより、表示装置内で画素部及び駆動回路周辺の配線とシール材とが占める面積を減らし、表示装置を小型化することができる。 （もっと読む）

【課題】メタルマスクの精細度に依存されない高精細の有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】互いに隣接する画素（１０）に含まれる副画素の配列パターンが、画素間境界線を挟んで線対称に配列される配列パターンであり、画素１０の両端に設けられる副画素（Ｒ副画素１０Ｒ、Ｂ副画素１０Ｂ）には、同種の副画素に共通する共通発光層（Ｒ発光層１５Ｒ、Ｂ発光層１５Ｂ）が設けられており、画素１０の両端に設けられる副画素以外の副画素（Ｇ副画素１０Ｇ）には、画素１０の両端に設けられる副画素（Ｒ副画素１０Ｒ、Ｂ副画素１０Ｂ）のいずれかに共通するコモン発光層（Ｇ発光層１５Ｇ）が設けられている。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の開口率を向上させる。
【解決手段】同一基板上に画素と駆動回路が設けられ、駆動回路の第１の薄膜トランジスタ及び画素の第２の薄膜トランジスタは、ゲート電極層と、ゲート電極層上にゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上に酸化物半導体層と、酸化物半導体層上にソース電極層及びドレイン電極層と、ゲート絶縁層、酸化物半導体層、ソース電極層、及びドレイン電極層上に酸化物半導体層の一部と接する酸化物絶縁層と、を有し、第２の薄膜トランジスタのゲート電極層、ゲート絶縁層、酸化物半導体層、ソース電極層、ドレイン電極層、及び酸化物絶縁層は透光性を有し、第１の薄膜トランジスタのソース電極層及びドレイン電極層は、第２の薄膜トランジスタのソース電極層及びドレイン電極層と材料が異なり、第２の薄膜トランジスタのソース電極層及びドレイン電極層よりも低抵抗である。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の開口率を向上することを課題の一とする。
【解決手段】同一基板上に駆動回路部と、表示部（画素部ともいう）とを有し、当該駆動回路部は、ソース電極及びドレイン電極が金属によって構成され且つチャネル層が酸化物半導体によって構成された駆動回路用チャネルエッチ型薄膜トランジスタと、金属によって構成された駆動回路用配線とを有し、当該表示部は、ソース電極層及びドレイン電極層が酸化物導電体によって構成され且つ半導体層が酸化物半導体によって構成された画素用ボトムコンタクト型薄膜トランジスタと、酸化物導電体によって構成された表示部用配線とを有する半導体装置である。多階調マスクを用いたフォトリソグラフィ工程を用いることで、作製工程を簡略化できる。 （もっと読む）

【課題】効果的に共通電極の電圧降下を防ぐことのできる発光装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に設けられる複数の画素２と、から構成され、
画素２が、第一副画素２ａと、第二副画素２ｂと、からなり、第一副画素２ａ及び第二副画素２ｂが、下部電極（１１ａ，１１ｂ）と、第一有機化合物層（１３ａ，１３ｂ）と、中間電極層１４と、第二有機化合物層１５と、上部電極（１６ａ，１６ｂ）と、をこの順に含み、第一副画素２ａに含まれる中間電極層１４が、第一副画素２ａに含まれる下部電極１１ａ又は上部電極１６ａに接続される配線と電気接続されていることを特徴とする、発光装置１。 （もっと読む）

【課題】高い開口率を有し、安定した電気的特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい表示装置を作製し、提供することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体膜とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。また、ゲート電極層、ソース電極層、及びドレイン電極層を透光性の導電膜を用いて作製し、開口率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】消費電力の上昇を抑えつつ、輝度を向上させると共に広い視野角を確保することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】発光領域１５Ａの開口率が相対的に小さな正面輝度優先の第１領域（例えば画素１０１）と、発光領域１５Ａの開口率が相対的に大きな視野角輝度優先の第２領域（例えば画素１０２）と、第１領域および第２領域を駆動する駆動手段とを備えている。第１領域および第２領域それぞれの開口率の大きさに対応して、第１領域では第２領域と比較して発光領域１５Ａから表示面側に取り出される光は広がりにくくなり、第２領域では発光領域１５Ａからの取り出し光の広がりは第１領域と比較して広くなる。 （もっと読む）