【課題】簡便な有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板２００上に形成された第一電極２０１と、少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層を挟むように前記第一電極２０１と対向して形成された第二電極２０４と取り出し端子２０２を少なくとも備える有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記第一電極２０１を形成した後、前記発光媒体層のうちの少なくとも１層の有機層２０３を塗布法により形成し、その後、前記取り出し端子２０２部分を開口させたマスクを前記基板２００上に被せてＵＶオゾン処理をすることによって、前記取り出し端子２０２部分の上に形成された有機層２０３を除去する。 （もっと読む）

【課題】従来の描画装置では、コストを軽減することが困難である。
【解決手段】ワークに向けて液状体を吐出する吐出ヘッドと、前記吐出ヘッドに対する前記ワークの相対位置を変位させる変位装置と、前記相対位置の変位方向に沿って並ぶ複数の目盛り７５が設けられたリニアスケール７１と、前記相対位置の変位にともなって目盛り７５を検出し、目盛り７５を検出するごとに検出信号を出力するエンコーダー７３と、リニアスケール７１の一端７８ａ側を支持するビス８２と、リニアスケール７１の他端７８ｂ側からリニアスケール７１に張力を付与する引張りばね８３と、リニアスケール７１から独立した状態で、ビス８２から距離Ｄを隔てた位置に設けられ、他端７８ｂ側において、複数の目盛り７５のうちの一部の目盛り７５をエンコーダー７３から隠す隠し部材９１と、を有する、ことを特徴とする描画装置。 （もっと読む）

【課題】赤色、緑色、青色の複数の有機発光素子を用いた有機発光表示装置において、青色発光素子の長寿命化を図ることができ、且つ製造設備のコストの削減や生産性を向上させる。
【解決手段】有機発光表示装置１において、湿式成膜法により赤色発光層７、緑色発光層８及び第一青色発光層９を形成した後、青色画素領域にのみ、真空蒸着法により電荷発生層１０を形成する。その後、赤色発光層７、緑色発光層８及び電荷発生層１０を覆うように、真空蒸着法により第二青色発光層１１を形成する。第二青色発光層１１は、赤色発光層７及び緑色発光層８上では電子輸送機能を発揮し、電荷発生層１０上では青色発光層として機能する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた低温プロセスで形成する信頼性の高い薄膜トランジスタ、その製造方法、および表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１は、基板１００と、前記基板上の一部に設けられたゲート電極１１０と、前記ゲート電極を覆う第１の絶縁膜１２０と、前記第１の絶縁膜を介して前記ゲート電極上に設けられた酸化物半導体膜１３０と、前記酸化物半導体膜上の一部に設けられた第２の絶縁膜１５０と、前記酸化物半導体膜から露出する酸化物半導体膜の一部と接続されたソース電極１４０Ｓおよびドレイン電極１４０Ｄと、を備え、前記酸化物半導体膜はＩｎと、Ｇａと、Ｚｎのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物半導体を有し、前記第１の絶縁膜中に含有される水素濃度が５×１０^２０atm/ｃｍ^−３以上であり、かつ、前記第２の絶縁膜中に含有される水素濃度が１０^１９atm/ｃｍ^−３以下である。 （もっと読む）

【課題】アクティブ動作中に外部電源による電位の制御を必要としない静電気保護回路を有するアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板１は、複数のゲート配線２２と、複数のソース配線２１と、高電位側ＥＳＤリング３１及び低電位側ＥＳＤリング３２と、ゲート配線２２及びソース配線２１の各々に対応して配置されアノード電極が低電位側ＥＳＤリング３２に接続されカソード電極がゲート配線２２及びソース配線２１のうちの一の配線に接続されたＥＳＤダイオード４２と、アノード電極が当該一の配線に接続されカソード電極が高電位側ＥＳＤリング３１に接続されたＥＳＤダイオード４１と、２本以上のゲート配線２２の各々に対応して配置されアノード電極が低電位側ＥＳＤリング３２に接続されカソード電極が対応するゲート配線２２に接続された低電位固定ダイオード４３とを備える。 （もっと読む）

【課題】青色発光層の効率、及び寿命を改善する。
【解決手段】基板１上を、赤色、緑色、及び青色の画素に区画する隔壁３と、各画素の基板１上に設けた画素電極２と、各画素の画素電極上に設けた第一正孔輸送層４と、赤色画素の第一正孔輸送層４上に設けた赤色発光層５と、緑色画素の第一正孔輸送層４上に設けた緑色発光層６と、青色画素の第一正孔輸送層４上に設けた第一青色発光層７と、赤色発光層５上、緑色発光層６上、及び第一青色発光層７上に設けた第一電子輸送層８と、第一電子輸送層８上に設けた電荷発生層９と、青色画素の電荷発生層９上に設けた第二正孔輸送層１０と、第二正孔輸送層１０上に設けた第二青色発光層１１と、赤色画素、及び緑色画素の電荷発生層９上、並びに青色画素の第二青色発光層１１上に設けた第二電子輸送層１２と、第二電子輸送層１２上に設けた対向電極１３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性の高い高分子有機ＥＬパネルを安価に生産できる印刷装置を提供する。
【解決手段】支持基台上に、凸版と、凸版を設置する回転式の版シリンダと、凸版にインキを供給するインキ供給部と、被印刷基板を載置して前記凸版上のインキを被印刷基板に転写する凸版印刷部とを具備する凸版印刷装置であって、
予備転写の際に前記印刷基板に代えて凸版上のインキを転写する予備転写部を備えており、かつ、この予備転写部の被転写表面の材質が前記披印刷基板表面と同一の材質であることを特徴とする凸版印刷装置。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で画素内の平坦性を向上させ、局所的な材料への負荷を減らすことで、高輝度化、低電圧化、長寿命化を図ることができる有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上に、第一電極と、前記第一電極を区画する隔壁と、前記第一電極上に形成される少なくとも発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層上の第二電極と、からなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記発光媒体層を形成する工程は、ウェットコーティング法により塗膜を形成する工程と、前記塗膜に透光性基板上の第一電極を有する面と逆の面側から光エネルギーを印加して塗膜の一部を選択的に硬化する工程と、前記塗膜の未硬化部分を除去する工程と、を含むこと。 （もっと読む）

【課題】蒸着マスクに強固に付着した付着物を、蒸着マスクにダメージを与えるおそれを低減しつつ、効率よく除去する蒸着マスク洗浄装置、蒸着マスク洗浄システムおよび蒸着マスク洗浄方法を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造工程に用いられる蒸着マスク１６を洗浄するための蒸着マスク洗浄装置としての電解洗浄装置１３は、蒸着マスク１６を収容する洗浄槽としての電解槽２０と、電解槽２０にアルカリ性の電解液を供給するポンプ２１および貯留槽２２からなる電解液供給部と、洗浄槽内に設けられている陽極電極２３および陰極電極２４の電極と、陽極電極２３および陰極電極２４の電極間に通電する通電部２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】金属細線および透明基板上での塗布液のはじきを抑制する。
【解決手段】透明電極の製造方法は、透明基板１００上に金属細線１０４を形成する工程と、透明基板１００および金属細線１０４上に透明導電層１０５を形成する工程と、を備える。透明導電層１０５を形成する工程では、所定の塗布液を、インクジェット印刷により透明基板１００および金属細線１０４上に塗布し、前記塗布液として、少なくとも導電性ポリマーと、水溶性バインダーと、炭素数が３〜６であるジオールと、プロピレングリコールエーテルとが含有された混合液を使用する。 （もっと読む）

【課題】発光素子の投影面積を拡げることなく明るく、且つ歩留まり良く製造できる発光装置を提供する。
【解決手段】本発明の一態様は、複数の凸部１３と、この複数の凸部１３に沿って形成された第１の電極１４と、複数の凸部１３に沿って形成され、第１の電極１４上に形成された発光性の有機化合物を含む層１６と、複数の凸部１３に沿って形成され、発光性の有機化合物を含む層１６上に形成された第２の電極１７と、を具備し、複数の凸部１３それぞれは、隣接する凸部の底面と接する辺を備える底面と、前記底面に対して０°より大きく８０°以下の一定の角度を備える複数の側面と、第１の連続する曲面からなる頂点と、を有することを特徴とする発光装置である。 （もっと読む）

【課題】発光不良や発光ムラのない有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に形成された対向する一対の電極と、該電極間に設けられ少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、発光媒体層の１層以上が印刷法を用いて形成されており、前記印刷法が、被印刷基板を搬送する移動定盤が印刷版の面方向に進行し、印刷版と被印刷基板との接触面でインキを転移することで印刷を行う印刷方式であり、前記接触面よりも移動定盤の進行方向側に位置し、基板上の印刷された領域が搬送される空間である印刷後基板空間と、前記接触面より移動定盤の進行方向逆側に位置し、基板上の印刷前の領域が搬送される空間である印刷前基板空間の少なくともどちらか一方の雰囲気を、印刷機設置空間とは独立に雰囲気制御して、印刷を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光層への水分等の侵入を抑制できる発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光領域２０と、発光領域２０とＸ軸方向に隣接する配線領域３０とをそれぞれ含む複数の素子領域１０が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ配列された基板Ｗに作製される。Ｙ軸方向に延在しＸ軸方向に配列された複数のバー４２と、複数のバー４２間に形成された複数の開口部４３とを有するマスク４０が、バー４２が配線領域３０を被覆し、開口部４３から発光領域２０が露出するように、基板Ｗ上に配置される。マスク４０を介して、基板Ｗ上に無機膜８と有機膜９とが交互に成膜される。基板Ｗが、素子領域１０毎に分離される。このように製造された発光素子１は、無機膜８と有機膜９からなる保護膜Ｐを有し、保護膜Ｐによって発光層５への水分等の侵入が抑制される。 （もっと読む）

【課題】フレキシブルディスプレイの製造方法において、流品中は膜剥がれを防ぎ、最終的には支持基板とポリイミドフィルムを表示領域の素子変動を抑制可能な剥離による表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】
表示装置の製造方法は、支持基板の上にフィルム材料層を形成する工程と、前記フィルム材料層を加熱してフィルム層を形成する第1の加熱工程と、前記フィルム層の中央部に設けられた第1領域を囲む第2領域を、前記第1の加熱工程より高い温度で加熱する第2の加熱工程と、前記第1領域の一部に表示層を形成し前記第２領域の少なくとも一部に周辺回路部を形成する工程と、前記フィルム層のうち表示層が形成された範囲以外の少なくとも一部を前記第２の加熱工程より高い温度で加熱する第３の加熱工程と、前記支持基板と前記フィルム層とを剥離する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】気泡の巻き込みが無く、貼付と剥離が容易であり、大型基板に対応できる転写成膜装置を提供する。
【解決手段】配置台１２上に転写リボン３４を装着した転写ヘッド１５₁〜１５₃を配置し、透明部材３３で転写リボン３４を押圧し、転写リボン３４表面のインク層４２を転写対象物１６に接触させて、転写リボン３４の裏面にレーザ光を照射し、インク層４２の裏面にレーザ光が照射された部分を転写対象物１６の表面に転写する。転写リボン３４の転写に使用した部分は移動させ、新しい部分を透明部材３３で転写対象物１６に接触させて、次の転写を行う。細長の転写リボン３４を使用しているので、気泡が巻き込まれることはなく、また、大型基板への転写が容易である。 （もっと読む）

【課題】低コスト化と画質品質とが両立する表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、画素回路と発光素子とで構成される画素をマトリクス状に形成した画素アレイ部と、画素回路を駆動する駆動回路とを有し、駆動回路は、１本の信号線に接続された複数個の画素回路の閾値補正動作を同じタイミングで完了させ、閾値補正動作が完了した後に、複数個の画素回路のそれぞれに対応した信号電位を信号線に印加し、信号電位の複数個の画素回路への書込みを、画素回路毎に、閾値補正動作の完了から異なる時間間隔を空けて順次行ない、閾値補正動作が完了した後であって信号電位のうち最初の信号電位を信号線に印加するより前に、複数個の画素回路の駆動トランジスタのゲート電極に閾値補正用の基準電位よりも低いリセット電位を印加するように、複数個の画素回路を駆動する。 （もっと読む）

【課題】安価なフイルム基板上にロール成膜可能とされた、高透明性、高導電性を両立した有機電子デバイス用の透明導電フイルムを得る。
【解決手段】プラスチック支持体１２上に、マスク蒸着された、膜厚が５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下であり、平面視における線幅が０．３ｍｍ以上１ｍｍ以下の金属もしくは合金からなる導電性ライン１４ａが複数、間隔３ｍｍ以上２０ｍｍ以下で配置されてなる導電ストライプ１４と、プラスチック支持体１２と導電ストライプ１４を覆うように設けられた、比抵抗が４×１０^−３Ω・ｃｍ以下であり、膜厚２０ｎｍ以上５００ｎｍ以下である透明導電材料層１８とから透明導電フィルムを構成する。 （もっと読む）

【課題】バリア性が高く、透明性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】有機層と、該有機層に隣接する無機バリア層とを有し、前記有機層は、１分子あたり２以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率が１．６０以上であり、さらに、前記無機バリア層の屈折率が１．６０以上であることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】ガラスペーストの塗布高さを所定の誤差範囲に好適に維持できるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ノズル５５ａの始点Ｐｓから始端部１０１Ｓを形成する部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより低くしてノズル５５ａが移動し、ノズル５５ａの終点Ｐｅまでの終端部１０１Ｅを形成する部分では、ノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨより高くしてノズル５５ａが移動し、始端部１０１Ｓが形成される部分および終端部１０１Ｅが形成される部分以外の部分ではノズル高さＮｈを基準塗布高さＳｔｄＨとしてノズル５５ａが移動し、さらに、始端部１０１Ｓと終端部１０１Ｅの少なくとも一部でガラスペーストＧｐが重なって塗布されるようにノズル５５ａが移動することを特徴とするペースト塗布装置およびペースト塗布方法とする。 （もっと読む）

【課題】ノズルの移動方向の違いで塗布高さに生じる違いを吸収してガラスペーストの塗布高さの精度を確保できるペースト塗布方法およびペースト塗布装置を提供することを課題とする。
【解決手段】有機ＥＬ素子が蒸着された基板８の蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａを移動させてガラスペーストを基板８の蒸着部Ａ１の周囲に塗布するペースト塗布方法であって、ノズル５５ａが移動するときのノズル高さを補正するノズル補正量を、蒸着部Ａ１の周囲に沿ってノズル５５ａが移動するときの移動方向ごとに設定する準備工程と、ノズル高さを移動方向ごとにノズル補正量で補正し、ノズル５５ａを蒸着部Ａ１の周囲に沿って移動させてガラスペーストを塗布する塗布工程と、を有することを特徴とするペースト塗布方法とする。また、当該ペースト塗布方法によってガラスペーストを基板８に塗布するペースト塗布装置１００とする。 （もっと読む）