【課題】本発明は、第１導電層、少なくとも１つの中間導電層および第２導電層と、前記導電層の間に配置された発光単位を含む積層型有機発光素子である。
【解決手段】本発明は、第１導電層、少なくとも１つの中間導電層および第２導電層と、前記導電層の間に配置された発光単位を含む積層型有機発光素子であって、前記導電層のうちの互いに隣接しない少なくとも２つの導電層が共通電位となるように電気的に連結した第１群の導電層であり、前記第１群の導電層と共通電位となるように電気的に連結しない導電層のうちの互いに隣接しない少なくとも１つの導電層が共通電位となるように電気的に連結した第２群の導電層であり、前記第１群の導電層と第２群の導電層が＋電圧と−電圧が交互に印加されるようにする電圧制御器を介在して連結したことを特徴とする積層型有機発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】アルカリ金属又はアルカリ土類金属を含む材料の薄膜を成膜する際において、生産性を低下させず且つ安全にメンテナンスを行うことができる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】処理室と、処理室内を真空にする真空排気手段と、処理室内に設けられ、成膜材料を放出するための手段と、成膜材料を放出するための手段に対向して設けられた基板支持手段と、一方の面が処理室の内壁と対向し、且つ熱伝導性を有する領域であり、他方の面が熱伝導性を有する領域に接して設けられた酸化物を含む領域である、防着板と、を備えている成膜装置である。そして、当該成膜装置を用いた成膜方法である。 （もっと読む）

【課題】通常発光時における最大輝度よりも高輝度で有機ＥＬ素子を発光させることが可能な表示装置の製造方法等を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１３と駆動トランジスタ１１８からなる直列回路、容量素子１２３、グラウンド線ｇｎｄおよび電源線１２０を備え、グラウンド線ｇｎｄが直列回路における駆動トランジスタ１１８のソース電極側の端部に電気的に、電源線１２０がドレイン電極側の端部にそれぞれ電気的に接続された表示装置の製造方法において、グラウンド線ｇｎｄの電位を、ゲート電極とソース電極間の電圧が通常発光時よりも高くなるような電位にすることにより、容量素子１２３を通常発光時よりも高い電圧で充電する充電工程と、充電工程において充電された容量素子１２３の充電電圧に基づき、有機ＥＬ素子１３を通常発光時における最高輝度よりも高輝度で発光させる高輝度発光工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板に有機物薄膜を蒸着する全体の工程時間を最小化できる平板パネル製造装置を提供する。
【解決手段】少なくとも二つの基板１０が処理される複数の工程チャンバー１１０；第１の方向Ｌ１に沿って複数の工程チャンバーの間に配置され、第１の方向に直交する第２の方向Ｌ２に沿って直線状に往復移動しながら未処理の基板を工程チャンバーに供給したり、処理が完了した基板を工程チャンバーから排出する移送ロボット１２３を備える移送チャンバー１２０；移送チャンバーの一側に結合され、供給される基板を収容するローディングチャンバー１３０；及び移送チャンバーの他側に結合され、排出された基板を収容するアンローディングチャンバー１４０；を含み、工程チャンバーの内部では、第２の方向に沿っていずれか一つの基板に工程ガスが蒸着されると同時に、残りの基板に対する移送及び位置整列が行われることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＴＦＴ形成時や通常使用時の熱による寸法変化が小さく、且つ、透明性及び信頼性に優れた樹脂−ガラス複合透明基板を得ることが可能な樹脂−ガラス複合透明基板用ガラスを提供する。
【解決手段】 質量％で、ＳｉＯ_２ ６０〜８０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３ １５〜２５％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＢａＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜１０％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５％、Ｋ_２Ｏ ０〜５％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０〜５％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜１０％を含有し、３０〜３８０℃における線熱膨張係数が４０×１０^−７／℃未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】凸版印刷法により有機発光層を形成してなる有機ＥＬ素子であって、第一電極間にある隔壁前後に供給されるインキの流れ込みを防ぎ、隔壁近傍の有機発光層の膜厚と電極中央の有機発光層の膜厚を略同等にすることにより、画素内での発光ムラ並びに混色、画素間での発光ムラの無い高光学特性の有機ＥＬ素子の提供を目的とする。
【解決手段】基板上に、第一電極（画素電極）と有機発光体層が順次積層してなる画素が隔壁で区画され、さらに前記有機発光体層側上に前記第一電極と対向するように第二電極を設けた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記隔壁で区画された画素間の中央部に第二の隔壁を設けることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。 （もっと読む）

【課題】検査用の回路を追加することなく、画素容量検査の制御リソースを低減する。
【解決手段】マトリクス基板１０は、行列状に配置された複数の発光画素２０と、複数の発光画素２０の行に対応してそれぞれ配置された第１の制御線及び第２の制御線を備え、発光画素２０をＮ行ごとにまとめた単位のそれぞれを検査用ブロックとしたときに、検査用ブロックごとに１本ずつ設けられ、当該検査用ブロックに属するＮ本の前記第１の制御線同士を電気的に接続した第１の検査用制御線及びこれに接続された第１の検査用端子と、検査用ブロックの各々から１本ずつ選択される第２の制御線同士を電気的に接続したＮ本の第２の検査用制御線及びこれに接続された第２の検査用端子とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、カラーフィルタの画素としての特性を維持・向上しつつ、膜の硬化性を向上した着色樹脂組成物を提供することを課題とする。
本発明は、また色純度のよいカラーフィルタ、並びに高品質の液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】（Ａ）青色顔料、（Ｂ）溶剤、（Ｃ）バインダー樹脂及び（Ｆ）光重合開始成分を含有し、該（Ｆ）光重合開始成分が、ビイミダゾール、２−メチル−1−［４−（
メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン及び（Ｆ２）連鎖移動剤を含有することを特徴とする、着色樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】フェニルピリジンおよびジベンゾ含有配位子を含む新規の燐光性ヘテロレプティックイリジウム錯体を提供する。
【解決手段】開示した化合物は、精製を容易にしおよび様々なＯＬＥＤ素子の作製を可能にする低い昇華温度を有する。 （もっと読む）

【課題】隣接する開口部の内部へ有機半導体インクを塗布した際に、互いのインクの混合を抑制し、高い品質を備える薄膜トランジスタ装置とその製造方法、有機ＥＬ表示素子、および有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁１０１６における開口部１０１６ｂを臨む側面部のうち、隣接する開口部１０１６ｃの側の側面部１０１６ｅは、側面部１０１６ｄを含む他の側面部よりも傾斜が相対的に急峻な斜面となっている。隔壁１０１６における開口部１０１６ｃを臨む側面部のうち、隣接する開口部１０１６ｂの側の側面部１０１６ｆは、側面部１０１６ｇを含む他の側面部よりも傾斜が急峻な斜面となっている。開口部１０１６ｂと開口部１０１６ｃとの各内部に対して、有機半導体インクを塗布した場合、Ｘ軸方向に互いに離れる方向に偏った表面プロファイルを有することになる。 （もっと読む）

【課題】水分や酸素などの不純物、外力による信頼性の低下を抑制しつつ、さらに熱による信頼性の低下も抑制できる、有機ＥＬ素子を用いた発光装置を提供する。
【解決手段】支持基板、金属基板、及び封止材に囲まれた空間内に、発光素子を含む発光部を備え、封止材は、発光部の外周を囲むように設けられ、発光素子は、第１の電極と、発光性の有機化合物を含む層と、第２の電極とを備え、支持基板及び第１の電極は、発光性の有機化合物が発する光に対して透光性を有し、空間は、発光素子に対して不活性である気体で充填されている、又は、真空であり、第２の電極上に、第２の電極よりも放射率が高く、第２の電極と熱的に接続する第１の高放射層を有し、金属基板の支持基板と対向する面に、金属基板よりも反射率が低い低反射層を有する発光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】小規模な外部周辺回路により駆動可能な画素回路を有し、簡略化された製造工程による表示装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】表示装置１が有する発光画素は、有機ＥＬ素子１４と、ドレインが電源線ＰＳに接続された電流駆動トランジスタ２１と、電流駆動トランジスタ２１のＶｇｓを保持するコンデンサ２２と、コンデンサ２２と電源線ＰＳとを導通させるスイッチトランジスタ２３と、コンデンサ２２と初期化電源線ＰＩとを導通させるスイッチトランジスタ２４と、電流駆動トランジスタ２１により駆動される電流を有機ＥＬ素子１４へ流すための電流径路を導通及び遮断する電流スイッチトランジスタ１１と、電流スイッチトランジスタ１１のＶｇｓを保持するコンデンサ１２と、電流スイッチトランジスタ１１のゲートとデータ線ＤＴとを導通させる選択トランジスタ１３とを備える。 （もっと読む）

【課題】低コストで簡便且つユーザーに印象強く、種々の情報を表示することができる情報表示カードを提供する。
【解決手段】情報を記憶する記憶部と、基板上に複数の発光素子を設けてなり、全体として均一色に発光し且つ発光する色が可変である面発光パネルと、前記記憶部に記憶された情報に応じて前記面発光パネルに供給する電力を制御する制御部と、を有する情報表示カード。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の低い材料が設けられた基板にも適用可能な、組成物の加熱方法を提供する。また、クラックの発生が抑制された、ガラスパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された組成物に対してレーザ光を照射して、局所的に加熱して焼成する。組成物の中央部と外側部とで照射される期間に差が生じないように、レーザ光を走査すればよい。より具体的には、組成物と重畳するビームスポットの、走査方向の幅が略一定であるようなレーザ光を用いて走査すればよい。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極や走査線（ゲート線）及びデータ線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供する。
【解決手段】半導体膜107と基板との間に第１の絶縁膜を介して設けられた第１の配線102を、半導体膜107と重ねて設け、遮光膜として用いる。さらに半導体膜上にゲート絶縁膜として用いる第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上にゲート電極と第２の配線134を形成する。第１及び第２の配線は、第１及び第２の絶縁膜を介して交差する。第２の配線134の上層には、層間絶縁膜として第３の絶縁膜を形成し、その上に画素電極147を形成する。画素電極147は、第１の配線及び第２の配線とオーバーラップさせて形成することが可能であり、反射型の表示装置において画素電極147の面積を大型化できる。 （もっと読む）

【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを歩留まりよく提供する。該トランジスタを含む半導体装置においても、高性能化、高信頼性化、及び高生産化を達成する。
【解決手段】酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、及び側面に側壁絶縁層が設けられたゲート電極層が順に積層されたトランジスタを有する半導体装置において、ソース電極層及びドレイン電極層は、酸化物半導体膜及び側壁絶縁層に接して設けられる。該半導体装置の作製工程において、酸化物半導体膜、側壁絶縁層、及びゲート電極層上を覆うように導電膜及び層間絶縁膜を積層し、化学的機械研磨法によりゲート電極層上の層間絶縁膜及び導電膜を除去してソース電極層及びドレイン電極層を形成する。 （もっと読む）

【課題】品質の低下が抑制された有機ＥＬデバイスを製造し得る有機ＥＬデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機ＥＬ素子の構成層を形成する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第１及び第２蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ＥＬデバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】表示むらを抑制すること、又は異なる画素におけるトランジスタ特性のばらつきを低減すること、あるいは、発光素子の劣化等に伴う輝度の低下を抑制する事が可能な発光装置を提供する。
【解決手段】基板１００の上に設けられたトランジスタ１２１と、発光素子１０９とを具備する画素部１２０を有し、トランジスタは、チャネル形成領域を形成する単結晶半導体層１２２を有し、基板と単結晶半導体層との間に、酸化シリコン層が設けられており、トランジスタのソース又はドレインと発光素子の電極とが電気的に接続され、発光素子の発光時にトランジスタを飽和領域で動作させる。また、発光素子の階調表示を、トランジスタのゲートに印加する電位を変化させることによって行う。 （もっと読む）

【課題】基板に生じるクラックの発生を防止した薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】薄膜形成方法は、基板を準備する基板準備工程と、基板上に第１薄膜を形成する第１薄膜形成工程と、第１薄膜に対して光線を相対走査して照射することにより、第１薄膜を結晶化する結晶化工程と、結晶化工程において第１薄膜に生じる熱の基板への伝導量を低下させる緩和層を、結晶化工程の前に、基板の端部領域及び基板を切断する際に切断線が通る領域の少なくとも一方を含む領域に形成する緩和層形成工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程を行う。 （もっと読む）