【課題】ＵＶ洗浄を行っても、紫外線硬化樹脂層のダメージがなく、安定した性能を発揮する表示素子用プラスチック基板を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素及び窒化ケイ素から選ばれた１種以上の材料が用いられ膜厚が１０〜３００ｎｍである無機化合物層と、アクリルモノマーを主成分とする樹脂からなる膜厚が３．５〜３０μｍである紫外線硬化樹脂層を該順序で交互に１回以上積層し、さらに最外層として無機化合物層を積層することにより各紫外線硬化樹脂層は上下に無機化合物層が積層された表示素子用プラスチック基板とし、得られた表示素子用プラスチック基板をＵＶ洗浄することにより耐ＵＶ性を表示素子用プラスチック基板に付与し、耐ＵＶ性を付与した表示素子用プラスチック基板を用いて表示装置を製造する。 （もっと読む）

【課題】簡単な画素回路構成で製造歩留まりの低下がなく、表示品質を維持しつつＥＬ素子の輝度劣化の回復を実現できる表示装置およびその駆動方法を提供する。
【解決手段】複数の発光画素を有する表示装置３であって、発光画素２２は、駆動トランジスタ１０２と、信号電流が流れることにより発光する発光素子１０１と、データ線１１と発光素子１０１との導通及び非導通を切り換えるスイッチングトランジスタ１０７とを備え、表示装置３は、信号電圧をデータ線１１に供給するデータ駆動回路１４１と、所定のバイアス電圧をデータ線１１に供給するバイアス供給回路１４２とを備え、信号電流を発光素子１０１に流さない期間と同期して、制御線１３を電圧変化させることでスイッチングトランジスタ１０７をオン状態とすることにより、発光素子１０１のアノードに所定のバイアス電圧を印加する。 （もっと読む）

【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを提供する。
【解決手段】酸化物半導体層、及びチャネル保護層を覆うようにソース電極層、及びドレイン電極層となる導電膜を形成した後、酸化物半導体層、及びチャネル保護層と重畳する領域の導電膜を化学的機械研磨処理により除去する。ソース電極層、及びドレイン電極層となる導電膜の一部を除去する工程において、レジストマスクを用いたエッチング工程を用いないため、精密な加工を正確に行うことができる。また、チャネル保護層を有することにより、導電膜の化学的機械研磨処理時に当該酸化物半導体層に与える損傷、または膜減りを低減できる。 （もっと読む）

【課題】クラックの発生が抑制された封止体の作製方法を提供すること。
【解決手段】ガラス層の中央部と外側部とで照射される期間に差が生じず、且つ溶融後のガラス層の固化が進む向きが略平行になるようにレーザ光を走査すればよい。より具体的には、ビームスポットのガラス層と重畳する領域において、走査方向の幅が略一定となるような、ビームスポット形状を有するレーザ光を用いて走査すればよい。また、ガラス層に照射するレーザ光として、長軸と、長軸と直交する短軸を有する線状のビームスポット形状を有するレーザ光（線状レーザ）を用いる。 （もっと読む）

【課題】抵抗負荷型インバータを用いて画素の点灯又は非点灯を制御すると、抵抗負荷型
インバータを構成するトランジスタの特性のバラツキにともなって、画素毎の発光にばら
つきが生じる。
【解決手段】画素内のインバータとしてＮチャネル型トランジスタとＰチャネル型トラン
ジスタを用いてＣＭＯＳインバータを適用する。ＣＭＯＳインバータを構成するトランジ
スタの特性がばらつき、インバータ伝達特性がばらついても、画素の点灯又は非点灯の制
御に影響を与えることがなくなり、画素毎の発光のばらつきを無くすことができる。また
、インバータの片方の電源電位として走査線の信号電位を用いることにより画素の開口率
を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高く、低駆動電圧、長寿命であり、かつ経時安定性に優れ、さらにウェットプロセスによる生産適性を有する半導体ナノ粒子分散液、有機エレクトロルミネッセンス素子、該有機エレクトロルミネッセンス素子を備えた照明装置及び表示装置を提供する。
【解決手段】半導体ナノ粒子が含フッ素アルコールに分散されたことを特徴とする半導体ナノ粒子分散液。 （もっと読む）

【課題】蒸着法にて有機ＥＬ層を形成する際に点灯不良を回避することができる有機ＥＬ表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１と、基板１上に配置された第一電極２と、第一電極２上に形成される有機ＥＬ層５と、有機ＥＬ層５上に形成される第二電極６と、からなる有機ＥＬ素子を複数有し、有機ＥＬ層５を構成する層のうち少なくとも第一層が蒸着法によって形成される有機ＥＬ表示装置の製造方法において、有機ＥＬ層５の形成工程に先立って下記（１）及び（２）の工程を行うことを特徴とする、有機ＥＬ表示装置の製造方法。
（１）導体でない間隙充填材料からなる層４を第一電極２上に成膜する工程
（２）間隙充填材料からなる層４をエッチングして第一電極２を露出させる工程 （もっと読む）

【課題】本発明は改良された性能を提供しつつ簡単な制御構造を有するＯＬＥＤ制御装置を提供することを目的とする。
【解決手段】制御信号に応答してフレーム期間内で蓄積回路に輝度値を蓄積する制御回路を含む、ＬＥＤ表示画素を制御するためのアクティブマトリクス回路。駆動回路が蓄積回路に応答してＬＥＤの電流を制御して輝度値により決定される輝度レベルで発光させる。蓄積回路に接続された輝度値減少回路がフレーム期間における蓄積回路に蓄積された輝度値の制御された減少をもたらす。 （もっと読む）

【課題】有機薄膜太陽電池への使用に適した透明電極基材を提供するとともに、安価で大面積化が容易な透明電極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明電極基材１は、板状の透明基材２と、前記透明基材２の片側に形成された透明樹脂層３と、前記透明樹脂層３の前記透明基材２とは反対側の面に埋め込まれたパターン電極４と、前記透明樹脂層３および前記パターン電極４の直上に形成された透明な集電電極５とを有し、前記集電電極５の表面１５が平坦である。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布されたインクの乾燥ムラを抑制する。
【解決手段】本発明の一形態に係るインクジェット塗布装置は、第１のヘッド群１２Ａと第２のヘッド群１２Ｂとを有するインクヘッドモジュール１２を備える。第１のヘッド群１２Ａは、基板Ｓの表面全域をＸ軸方向に沿って配列された複数列の領域Ｒ１〜Ｒ６で区画したときに、所定の第１の領域群（Ｒ１，Ｒ３，Ｒ５）にインクの液滴を塗布する。第２のヘッド群１２Ｂは、第１のヘッド群１２Ａに対してＹ軸方向に所定距離（Ｈ）オフセットした位置に配置され、上記複数列の領域のうち残余の第２の領域群（Ｒ２，Ｒ４，Ｒ６）にインクの液滴を塗布する。このとき、第１のヘッド群１２Ａからの液滴が基板Ｓ上に着弾してから、第２のヘッド群１２Ｂからの液滴が基板上に着弾するまでの時間が所定時間以内となるように、基板Ｓを支持するステージ１１の移動が制御される。 （もっと読む）

【課題】量産性の高い新たな半導体材料を用いた大電力向けの半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ＧＲＴＡ装置を用いて、第１の酸化物半導体膜に熱を加え、熱が加えられた第１の酸化物半導体膜に、酸素を添加して第２の酸化物半導体膜とし、ＧＲＴＡ装置を用いて、酸素が添加された第２の酸化物半導体膜に熱を加える。ＧＲＴＡ装置は、高温のガスを用いて加熱処理を行う装置であって、当該ＧＲＴＡ装置を用いると短時間での高温加熱処理が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 耐久性の高い画像表示装置用ユニットを提供する。
【解決手段】 本発明は、光学フィルム積層体と画像表示装置用パネルとが接着剤層を介して積層された画像表示装置用ユニットを提供する。光学フィルム積層体は、偏光子、偏光子の一方の面側に積層された偏光子保護機能層、及び偏光子の偏光子保護機能層が接する面とは反対側の面側に積層された表面保護層を含む。接着剤層は、偏光子保護機能層の偏光子が接する面とは反対側の面側に積層されている。画像表示装置用パネルは、接着剤層の偏光子保護機能層が接する面とは反対側の面に積層されている。接着剤層は、硬化後の２５℃における弾性率が、光学フィルム積層体に含まれる各層のうち弾性率が最も小さい層の弾性率の５０分の１以上である。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ工程時に高温でもバリア層の特性に変化がなく、基板のストレスを軽減させて工程安定性を高めることができるだけでなく、基板の量産が可能な、新規かつ改良された有機発光装置の製造方法及び有機発光装置を提供する。
【解決手段】有機発光装置の製造方法は、基板１０を用意する工程と、基板１０上にバリア層２０を形成する工程とを含み、バリア層２０を形成する工程は、基板１０上にバリア層側第１無機膜２１を形成する工程と、バリア層側第１無機膜２１上にポリイミド形成用モノマーを、熱蒸着法、プラズマ化学気相蒸着または原子層蒸着法を利用して蒸着させた後、熱処理することでポリイミドからなるバリア層側第１有機膜２２を形成する工程と、バリア層側第１有機膜２２上にバリア層側第２無機膜２３を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】より高効率に光を取り出すことができる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】透明基板１と、透明基板１の上に設けられた透明電極２と、透明電極２の上に設けられた有機発光層３とを備えた有機エレクトロルミネッセンス素子に関する。透明電極２はマトリクス樹脂４中に金属ナノワイヤ５及び屈折率制御用粒子６を含有して形成されている。そして、透明基板１の屈折率ｎ１、透明電極２の屈折率ｎ２、有機発光層３の屈折率ｎ３は、ｎ１≦ｎ２≦ｎ３、ｎ３−ｎ１≦０．３の関係に設定されている。有機発光層３と透明電極２の界面で、また透明電極２と透明基板１の界面で、それぞれ光の全反射を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。該半導体装置を作製する。半導体装置を歩留まりよく作製し、生産性を向上させる。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程によりゲート電極層、又はソース電極層及びドレイン電極層を形成後、ゲート電極層又は酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の残留物を除去する工程を行う。 （もっと読む）

【課題】低コストで簡便且つユーザーに印象強く、種々の情報を表示することができる情報表示カードを提供する。
【解決手段】情報を記憶する記憶部と、基板上に複数の発光素子を設けてなり、全体として均一色に発光し且つ発光する色が可変である面発光パネルと、前記記憶部に記憶された情報に応じて前記面発光パネルに供給する電力を制御する制御部と、を有する情報表示カード。 （もっと読む）

【課題】耐熱性の低い材料が設けられた基板にも適用可能な、組成物の加熱方法を提供する。また、クラックの発生が抑制された、ガラスパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された組成物に対してレーザ光を照射して、局所的に加熱して焼成する。組成物の中央部と外側部とで照射される期間に差が生じないように、レーザ光を走査すればよい。より具体的には、組成物と重畳するビームスポットの、走査方向の幅が略一定であるようなレーザ光を用いて走査すればよい。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極や走査線（ゲート線）及びデータ線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供する。
【解決手段】半導体膜107と基板との間に第１の絶縁膜を介して設けられた第１の配線102を、半導体膜107と重ねて設け、遮光膜として用いる。さらに半導体膜上にゲート絶縁膜として用いる第２の絶縁膜を形成し、第２の絶縁膜上にゲート電極と第２の配線134を形成する。第１及び第２の配線は、第１及び第２の絶縁膜を介して交差する。第２の配線134の上層には、層間絶縁膜として第３の絶縁膜を形成し、その上に画素電極147を形成する。画素電極147は、第１の配線及び第２の配線とオーバーラップさせて形成することが可能であり、反射型の表示装置において画素電極147の面積を大型化できる。 （もっと読む）

【課題】微細な構造であっても高い電気特性を有するトランジスタを歩留まりよく提供する。該トランジスタを含む半導体装置においても、高性能化、高信頼性化、及び高生産化を達成する。
【解決手段】酸化物半導体膜、ゲート絶縁膜、及び側面に側壁絶縁層が設けられたゲート電極層が順に積層されたトランジスタを有する半導体装置において、ソース電極層及びドレイン電極層は、酸化物半導体膜及び側壁絶縁層に接して設けられる。該半導体装置の作製工程において、酸化物半導体膜、側壁絶縁層、及びゲート電極層上を覆うように導電膜及び層間絶縁膜を積層し、化学的機械研磨法によりゲート電極層上の層間絶縁膜及び導電膜を除去してソース電極層及びドレイン電極層を形成する。 （もっと読む）

【課題】品質の低下が抑制された有機ＥＬデバイスを製造し得る有機ＥＬデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機ＥＬ素子の構成層を形成する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第１及び第２蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ＥＬデバイスの製造方法。 （もっと読む）