【課題】品質の低下が抑制された有機ＥＬデバイスを製造し得る有機ＥＬデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機ＥＬ素子の構成層を形成する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた上向き蒸着部及び横向き蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、上向き蒸着工程と、横向き蒸着工程と、方向変換工程と、を備えている有機ＥＬデバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】品質の低下が抑制された有機ＥＬデバイスを製造し得る有機ＥＬデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機ＥＬ素子の構成層を形成する有機ＥＬデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第１及び第２蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ＥＬデバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 金属等の導電性の基材を基板として使用する際に絶縁平滑層を設けた場合であっても、初期発光の安定性を向上させ、高温多湿の環境下での劣化を防ぐことのできる有機ＥＬデバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性基板１０１を有する有機ＥＬデバイス１００であって、導電性基板１０１上に絶縁平滑層１０２を有し、絶縁平滑層１０２上にガスバリア層１２０を有し、ガスバリア層１２０上に有機ＥＬ素子１１０を有し、ガスバリア層１２０が、金属および半金属の少なくとも１種を含み、ガスバリア層１２０が、放電処理がされた放電処理層１２０ｂと、放電処理がされていない非放電処理層１２０ａとを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション構造の有機ＥＬ素子の基板として好適な有機ＥＬ素子用基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】金属製の基材１と、該基材１の一方の面に設けられ白色微粒子２ａ及び樹脂バインダー２ｂを含む絶縁反射層２と、を有し、
可視光領域の表面反射率が７０％以上であり、表面の最大高さ粗さＲｚが１００ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、安定的に電子素子部を形成可能な電磁波剥離性フレキシブルデバイス用基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、可撓性を有する金属基材と、上記金属基材の少なくとも一方の表面上に形成された絶縁層と、上記金属基材の他方の表面上に形成され、電磁波剥離性を有する電磁波剥離性粘着樹脂を含む電磁波剥離性粘着層と、を有することを特徴とする電磁波剥離性フレキシブルデバイス用基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】表示画像の視認性を低下せることなく、小型化および高精細化を実現可能な有機ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬ表示装置は、駆動基板上の表示領域に設けられた第１電極が、第１導電膜（反射膜）の下層に、これよりも低反射率の第２導電膜を有する積層膜からなる。周辺領域には、第２電極に接続される電極パッドが設けられ、この電極パッドが、第１電極を構成する積層膜のうちの少なくとも第２導電膜と同一材料よりなる導電膜を含む。第１電極では、積層膜のうちの反射膜としての第１導電膜の機能が発揮され、電極パッドでは、低反射率の第２導電膜と同一材料よりなる導電膜により、外光反射が抑えられる。 （もっと読む）

【課題】時間階調方式で表示するときに発生する擬似輪郭の低減を課題とする。
【解決手段】１つの画素をｍ個（ｍはｍ≧２の整数）のサブ画素に分割し、ｓ番目（ｓは１〜ｍの整数）のサブ画素の面積比を２^ｓ−１とする。また、１フレームに、複数のサブフレームから構成されるｋ個（ｋはｋ≧２の整数）のサブフレーム群を設けるとともに、１フレームをｎ個（ｎはｎ≧２の整数）のサブフレームに分割し、ｔ番目（ｔは１〜ｎの整数）のサブフレームの点灯期間の長さの比率を２^{（ｔ−１）ｍ}とする。そしてさらに、ｎ個の各サブフレームを、概ね１／ｋの長さの点灯期間を有するｋ個のサブフレームに分割し、ｋ個の各サブフレーム群に１個ずつ配置する。このとき、ｋ個のサブフレーム群で、サブフレームの出現順序が概ね同じになるように、サブフレームを配置する。 （もっと読む）

【課題】比較的優れた品質の有機ＥＬ素子を製造し得る有機ＥＬ素子の製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を搬送部に供給し、該搬送部表面に前記基材の一面側を当接させて前記基材を搬送しつつ、前記搬送部と対向し且つ前記基材に対して近接する位置に配された蒸着源のノズルから、気化された有機ＥＬ膜の構成層形成材料を吐出させて、前記基材における前記搬送部と反対の面側に有機ＥＬ膜の構成層を形成する蒸着工程を含んでなる有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記蒸着工程では、更に、回転軸を中心として回転駆動する板状の回転体を有し且つ該回転体に開口部が形成されたシャドーマスクを、前記搬送部に当接した前記基材と前記ノズルとの間にて基材の近傍に介入させ、前記基材の移動に追従するように前記シャドーマスクを回転させつつ、前記開口部を通して気化された前記構成材料を基材側に供給し、前記基材に前記開口部に応じた有機ＥＬ膜の構成層を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの変形を防止することができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるガラスフィルム積層体１０は、ガラスフィルム１１と、ガラスフィルム１１に粘着層１３を介して積層された金属基材１２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】発光層を含む機能層が基材の一表面における規定方向に沿った２辺間に亘って形成された構成でありながらも防湿性を向上させることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子は、基材２０の周部と封止部材７０の周部との間にある枠状の封止部８０とを備えている。第１電極を兼ねる基材２０の一表面側の機能層３０は、基材２０の上記一表面における規定方向に沿った２辺間に亘って形成され、且つ、残りの２辺から離れて形成される。基材２０は、上記一表面において上記規定方向に直交する方向の両端部が機能層３０の各一部と併せて封止部材７０側へ折り返され、当該折り返された両端部では他表面が封止部８０と接着されている。また、第２電極５０に電気的に接続された引き出し電極部４７は、上記規定方向に沿って封止部８０の外側へ引き出されている。 （もっと読む）

【課題】一表面側に発光層などが設けられる導電性基板の他表面側に絶縁層を設けながらも簡単な構成で端子部を設けることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子は、第１電極１１を兼ねる導電性基板１２と、導電性基板１２の一表面側で第１電極１１に対向した第２電極５０と、第１電極１１と第２電極５０との間にあり発光層３２を含む機能層３０とを備え、第２電極５０側から光を取り出すものである。この有機エレクトロルミネッセンス素子は、導電性基板１２の他表面側に設けられた絶縁層１５と、導電性基板１２から上記他表面側に突出した凸部１２ａとを備え、凸部１２ａの一部を絶縁層１５から露出させて外部接続用の端子部１２ａａとしてある。 （もっと読む）

【課題】炭素薄膜の製造方法、炭素薄膜を含んだ電子素子及び炭素薄膜を含んだ電気化学素子を提供する。
【解決手段】基板上にコールタール及びコールタールピッチのうち一つ以上を含んだ前駆体膜を形成する段階と、基板と前駆体膜との間の触媒膜、及び前駆体膜上の保護膜のうち一つ以上を形成する段階と、基板を熱処理し、基板上に炭素薄膜を形成する段階と、を含む炭素薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基材上に形成された有機ＥＬ膜の損傷を防止しつつ該有機ＥＬ膜が形成された基材の巻き取りを可能とする有機ＥＬ素子の製造方法、その製造装置及び有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】帯状の基材を供給しつつ、該基材の一面側に発光層を含む有機層と電極層とを少なくとも順次蒸着することにより前記基材上に有機ＥＬ膜を形成し、前記有機ＥＬ膜が形成された前記基材の巻き取りを順次行って有機ＥＬ素子を製造する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記巻き取りにおいては、前記基材よりも柔らかい帯状の保護フィルムをさらに供給し、前記基材の非蒸着面側に接着させつつ前記基材を前記保護フィルムと共に巻き取ることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】発光部の大面積化に適した発光装置を提供する。また、上部電極の抵抗に起因する電位降下が抑制された発光装置を提供する。また、信頼性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】対向基板側に配線を形成し、これと基板上に形成したＥＬ素子の上部電極とを物理的に接触させるように封止することにより、当該上部電極の導電性を補助する補助配線とすることが出来る。このような補助配線を用いることにより、大面積の発光領域を有する発光装置であっても、上部電極の抵抗に起因する電位降下が抑制される。 （もっと読む）

【課題】支持基材および反射電極としての機能を兼ね備え、かつ、熱伝導性に優れた、電極箔ならびにそれを用いた有機デバイスが提供される。
【解決手段】金属箔と、前記金属箔上に直接設けられる反射層とを備えてなり、フレキシブル電子デバイス用の支持基材を兼ねたアノードまたはカソードとして用いられる、１〜１００μｍの厚さを有する電極箔。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子において、表面プラズモンによる光の損失を低減し、且つ素子内部での短絡を抑制する。
【解決手段】有機ＥＬ素子１は、一面にナノオーダーサイズの凹凸２’が設けられた金属層２と、金属層２の一面側に設けられた発光層３１を含む複数の有機層３と、を備え、有機層３の各界面における凹凸の高さが、金属層２に設けられた凹凸２’より小さくなるように構成されている。この構成によれば、金属層２の一方面の凹凸２’により、表面プラズモンを伝搬光に変えて、光の損失を低減することができ、また、各有機層３の各界面の凹凸を、金属層２面上の凹凸２’より小さくすることにより、素子内部での短絡を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透過型液晶表示装置、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置などの、ＴＦＴ基板側が受光面または発光面となるフレキシブルディスプレイに用いることができるＴＦＴ基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、光透過性および絶縁性を有し、樹脂を含有する平坦化層と、上記平坦化層の一方の面にパターン状に形成され、フレキシブル性を有する金属層と、上記平坦化層の上記金属層側とは反対側の面に形成されたＴＦＴ素子および画素電極とを有し、上記画素電極が形成されている画素電極形成領域の少なくとも一部と、上記金属層が形成されていない金属層非形成領域の少なくとも一部とが重なるように配置されていることを特徴とするＴＦＴ基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬデバイスにおいて、電極取出し部を簡易に形成することができ、効率的に製造することができるものとする。
【解決手段】有機ＥＬデバイス１は、導電性を有する第１の基板２と、第１の基板２上に形成された有機層３と、有機層３上に形成された電極層４と、接着層５を介して電極層４と接合される第２の基板６と、を備える。電極層４は、有機層３と当接する主電極部４１と、有機層３のある領域よりも外周側に延設された補助電極部４２と、を有し、補助電極部４２は、絶縁層７よりも外周側で第１の基板２の周縁部と接する。第１の基板２は、絶縁層７の下面側で分割され、一方が有機層３と接する第１の電極取出し部４０ａを構成し、他方が補助電極部４２と接する第２の電極取出し部４０ｂを構成する。この構成によれば、第１の基板２を分割する簡易な手順で電極取出し部を形成することができ、デバイスを効率的に製造することができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬを用いた発光デバイスは水分によって劣化することが知られている。そのため、透湿を防ぐ封止の技術が重要となっている。
【解決手段】放熱性が高くかつ可とう性を有する支持基板（ステンレス鋼、ジュラルミンなど）上に有機ＥＬを用いた発光デバイスを有する発光装置を作製し、該発光装置を透光性が高くかつ非透湿性である積層体、または透光性が高くかつ非透湿性である厚さが２０μｍ以上１００μｍ以下のガラスを用いて封止する。 （もっと読む）

【課題】複数の発光素子を含む発光装置において、発光面積が大きく、発光素子のパターン形成不良が抑制された構造を提供する。また、発光装置を含む照明装置を提供する。
【解決手段】絶縁表面を有する基板上に設けられた第１の配線と、第１の配線上に設けられた絶縁膜と、絶縁膜上に設けられた第２の配線と、絶縁膜を介して前記第１の配線上に設けられた複数の発光素子を有する発光素子ユニットと、を有し、複数の発光素子は、それぞれ遮光性を有する第１の電極層と、第１の電極層と接する有機化合物を含む層と、有機化合物を含む層と接する透光性を有する第２の電極層と、を有し、有機化合物を含む層は、分離層によってそれぞれ分離された発光装置である。 （もっと読む）