【課題】 バリア性と密着性に優れたバリア性積層体を提供する。
【解決手段】無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層を有し、前記無機層は、珪素酸化物、珪素窒化物、珪素炭化物、または、その混合物を主成分とし、前記有機層は、（メタ）アクリレート（１）と、シランカップリング反応を引き起こす基を有するラジカル重合性化合物（２）と、光ラジカル重合開始剤（３）と、光酸発生剤（４）を含む組成物を光照射して硬化させてなる、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】反りの発生をより有効に回避できる、簡便な基板の製造方法およびその製造方法で得られる基板を提供すること。
【解決手段】（ａ）支持体上に膜形成用組成物を用いて第１層を形成する、または、支持体上に粘着層を設けることで第１層を形成する工程と、
（ｂ）前記第１層上にフィルムの貼合により、または、膜形成用組成物を用いて第２層を設ける工程と、
（ｃ）前記工程（ａ）、工程（ｂ）において膜形成用組成物を用いる場合には、前記第１層および／または前記第２層を硬化させる工程と、
（ｄ）前記第２層上に素子を形成する工程と、
（ｅ）素子が形成された積層体から支持体を取り除いて、少なくとも素子が形成された第２層を含む基板を得る工程と
をこの順で含み、
前記工程（ｃ）の後の前記第１層および／または第２層が、特定の構造単位を有するポリイミド前駆体に由来するポリイミドを含む、
基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性能が向上したバリア性積層体の提供。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機バリア層を有し、前記有機層は２個以上の重合性基を有する重合性化合物を含む重合性組成物を硬化させてなり、前記有機層中における未硬化成分の総計が有機層の全質量の１．５質量％以下であるバリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】良好な透明性を示すガスバリア性フィルム、その製造方法及びガスバリア層、並びにガスバリア性フィルム又はガスバリア層を用いた装置を提供することを課題とする。
【解決手段】プラスチック基材１と、プラスチック基材１上に接して設けられた有機層２と、有機層２上に接して設けられた無機層３とを有し、無機層３の屈折率から有機層２の屈折率を差し引いた屈折率差を０．１５以下であるガスバリア性フィルムとすることにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】バリア性が高く、透明性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】有機層と、該有機層に隣接する無機バリア層とを有し、前記有機層は、１分子あたり２以上の重合性基を有する重合性化合物を重合させてなるポリマーを含み、かつ、屈折率が１．６０以上であり、さらに、前記無機バリア層の屈折率が１．６０以上であることを特徴とする、バリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層２と保護層３が積層された水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第１の塗布液を基材１上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層２を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を１００とした時に、蒸発速度が４０以下の第一溶媒と、蒸発速度が１００以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第２の塗布液を水蒸気バリアー層２上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層３を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム１０（１１）を作製するようにした。 （もっと読む）

【課題】寸法精度に優れた、プラスチック等のフィルム基板上に形成されたガスバリア基板および該ガスバリア基板上に形成され、同じく寸法精度に優れたカラーフィルタを提供する。
【解決手段】フィルム基板１０５の一方の面に第１のガスバリア層１０４，１０３を設け、他方の面に第２のガスバリア層１０４，１０３を設けたガスバリア基板であって、該ガスバリア基板の水蒸気透過率が０．００１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、該フィルム基板の一方の面に第１のガスバリア層を設けかつ他方の面にガスバリア層を設けなかった場合の水蒸気透過率をａとし、該フィルム基板の一方の面に第１のガスバリア層を設けずかつ他方の面にガスバリア層を設けた場合の水蒸気透過率をｂとしたとき、ａ／ｂが０．１〜１０の範囲内にあるガスバリア基板。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装
置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び
有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電
層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあ
わせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあわせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】積層体を封止する封止材としてフィルムを用い、減圧条件下で封止する場合に、封止材と積層体との間の滑りが抑えられることで接続ランドと電極との接続精度に優れるとともに、封止性能にも優れた有機半導体デバイスを提供する。
【解決手段】積層体１２と第１のフィルム基材１４との間に、積層体１２の封止時にこれらの間で生じる滑りを防止する滑り防止材４８が設けられており、これらの間での滑りが防止されることによって貫通孔３８と積層体１２の電極３０，３２との位置が合わされており、貫通孔３８を通じて導電性材料４０により積層体１２の電極３０，３２が外部に引き出されている。 （もっと読む）

【課題】過酷な環境下で保存されても密着性に優れ、かつ良好な透明性、ガスバリア耐性を備えた透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】基材上に少なくとも低密度層及び高密度層から構成されるガスバリア層を有する透明ガスバリア性フィルムにおいて、該低密度層と該高密度層との間に、１層以上の中密度層を有することを特徴とする透明ガスバリア性フィルム。 （もっと読む）

【課題】密着性と耐熱性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】無機層１と、該無機層の表面に設けられた有機層２を有し、前記有機層は、多官能（メタ）アクリレート、一般式（Ｉ）で表される化合物、ならびに、一般式（ＩＩ−ａ）で表される化合物および一般式（ＩＩ−ｂ）で表される化合物の少なくとも１種を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。
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【課題】有機層と無機層とからなるバリア性積層体において、有機層と無機層の密着性とバリア性の両方を達成する。
【解決手段】無機層と、該無機層の表面に設けられた有機層とを有し、前記有機層が、下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を含有する、バリア性積層体。一般式（１）
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【課題】バリア性と密着性に優れたバリア性積層体の提供。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層のアルミまたはケイ素の、酸化物、窒化物、炭化物、またはその混合物を含む無機層とを有し、前記有機層は、下記一般式(１)または(２)で表される重合性化合物を含む重合性組成物を重合させてなるポリマーを含む、バリア性積層体。
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【課題】ブリーディング、ブルーミング及び移行汚染が発生せず、湿度に依存せずに、即効性に優れ、物性の低下を招かず、かつ優れた制電性が持続するガスバリアフィルムを提供することを主要な目的とする。
【解決手段】本発明に係るガスバリアフィルムは、基材フィルム１１と、基材フィルム１１の上に設けられた、ガスの透過を遮断する緻密な無機層１４と、上記無機層の上又は下に接して積層された、該無機層１４を保護し、柔軟性を与える有機層１３とを備える。上記有機層１３は、フルオロ基およびスルホニル基を有する陰イオンを備えた塩が重合性化合物、樹脂、エラストマー又は粘着性樹脂中に分散されてなる制電性組成物を硬化してなる、フィルムまたは粘着フィルムで形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、高いガスバリア性能と高いガスバリア性能安定性（湿熱耐性、屈曲耐性）を達成できるガスバリア性フィルムと、ガスバリア性フィルムの製造方法、及び該ガスバリア性フィルムを用いた電子デバイスの提供。
【解決手段】樹脂基材４と、少なくとも１層のバリア層２と、少なくとも基材側で前記バリア層に隣接する隣接層１を有する３ガスバリア性フィルムにおいて、下記（１）、（２）を満たすことを特徴とするガスバリア性フィルム。（１）前記隣接層１が少なくとも、Ｍ原子（ＭはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ，Ｚｎを表す。）、Ｏ原子、Ｃ原子を同時に含む領域を有し、原子組成比で、Ｃ／Ｍが０．２〜２．２、かつ、Ｏ／Ｍが１．０〜２．０である。（２）前記バリア層が少なくとも、Ｓｉ原子、Ｎ原子を同時に含む領域を有し、原子組成比で、Ｎ／Ｓｉが０．３〜０．８、Ｃ／Ｓｉ＜０．１である。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの損傷を防止しつつ、ガラスフィルムの取扱い性を向上させる。
【解決手段】ガラスフィルム積層体１は、支持フィルム２と、粘着層３と、粘着層３を介して支持フィルム２と接合されたガラスフィルム４と、ガラスフィルム４の長手方向に沿ってガラスフィルム４の長手方向端部に連接された端部フィルム５と、支持フィルム２とガラスフィルム４および端部フィルム５との間に介在され、且つ、ガラスフィルム４および端部フィルム５に粘着された第１のテープ部材６と、を備える。支持フィルム２及び粘着層３の長手方向端部は、第１のテープ部材６の端部より外方へ突出すると共に、端部フィルム５上に配置されている。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの変形を防止することができるガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】本発明によるガラスフィルム積層体１０は、ガラスフィルム１１と、ガラスフィルム１１に粘着層１３を介して積層された金属基材１２と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】ガラスフィルムの損傷を防止しつつ、ガラスフィルムの取扱い性を向上させたガラスフィルム積層体を提供する。
【解決手段】支持フィルム２と、支持フィルム２の一主面の全体に付着される粘着層３と、粘着層３を介して支持フィルム２と接合されるガラスフィルム４と、ガラスフィルム４の長手方向に沿ってガラスフィルム４の長手方向端部に連接される端部フィルム５と、前記ガラスフィルムおよび前記端部フィルムに粘着される第１のテープ部材と、を備えたガラスフィルム積層体１。ガラスフィルム４と端部フィルム５とを両者の長手方向に連接して、これらの両主面に第１のテープ部材６を粘着させるため、端部フィルム５との境界付近で、ガラスフィルム４の端部が割れるおそれが少なくなり、端部フィルム５にてガラスフィルム４を牽引する際に、ガラスフィルム４が傷つかなくなる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性に優れたフィルム状基板を提供する。
【解決手段】フレキシブルフィルム１１と、フレキシブルフィルム１１の上に形成され、メチル基が少なくとも１つ付加したＳｉ原子１６と、フレキシブルフィルム１１に含まれる原子と共有結合したＯ原子１７とで構成されるシロキシ基１８を含む密着層１２と、密着層１２の上に形成され、Ｓｉ−Ｏ結合およびＳｉ−ＣＨ_３結合の少なくともいずれかを含むガスバリア層１３と、を備える。 （もっと読む）