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エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 素子構造、材料、形状 (45,008) | 陰極 (2,152)

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【課題】コストを抑えた状態で、立体視画像を表示することができる画像表示装置を提供すること。
【解決手段】有機ELパネル200は、第1の画像と第2の画像に基づいて立体視画像を表示する画像表示装置であって、偏光発光を行う複数の有機EL素子と、複数の有機EL素子の偏光発光を利用して、第1の画像および第2の画像を形成する後面基板210とを有する。また、複数の有機EL素子は、第1の画像の形成に用いられる複数の第1の有機EL素子220と、第2の画像の形成に用いられる複数の第2の有機EL素子230とを含み、後面基板210は、複数の第1の有機EL素子220および複数の第2の有機EL素子230を面状に配置し、複数の第1の有機EL素子220の偏光軸が平行であり、かつ、複数の第2の有機EL素子230の偏光軸が平行である。 (もっと読む)


【課題】低電圧で駆動可能で、高輝度かつ発光寿命の長い有機エレクトロルミネッセンス部材及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することである。
【解決手段】基板上11に少なくとも陽極、陰極12、及び該陽極12と陰極14間に発光層を含む複数の有機層13を有する有機エレクトロルミネッセンス部材において、前記陰極14がアルミニウム、マグネシウム、インジウム、銀及び銅から選ばれる単体金属またはこれらの合金と、アルカリ金属のハロゲン化物との共蒸着で形成され、さらに前記陰極14が厚さ方向に濃度勾配を有し、前記有機層13との界面側が前記アルカリ金属のハロゲン化物が多いことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス部材。 (もっと読む)


【課題】表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機EL素子の作製に最適な、線太りの抑制及び印刷物の膜厚均一性の向上が可能な印刷用凸版を提供することを課題とする。
【解決手段】凸版のレリーフの頂面に供給されたインクを被印刷体へ転写する凸版印刷において用いるための凸版であって、該レリーフの厚みが10μm以上500μm以下であり、かつ、該レリーフの頂面に、該レリーフの長辺方向と略平行に連続する複数個の細長形状の窪みを設けたことを特徴とする印刷用凸版を提供する。本発明の印刷用凸版は、線太りを抑制し、印刷物の膜厚均一性を向上させるため、表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機EL素子の作製に最適である。 (もっと読む)


【解決課題】 有機EL素子の製造において、陰極材料、補助電極材料の種類や、現在の製造工程を大きく変更することなく、陰極と補助電極との間の接触抵抗が低く、高電流効率で低電圧駆動する有機EL素子を提供する。
【解決手段】 基板1の上に陽極4、有機発光層6および陰極7をこの順に備え、さらに該陰極7に駆動電流を供給するための補助電極2を備えた有機EL素子の製造方法であって、前記基板1上に、前記補助電極2を形成する工程と、前記補助電極2の表面に、補助電極材料、陰極材料または酸素のいずれにも不活性なガスプラズマを照射する工程と、前記基板1上に、補助電極2と短絡しないように陽極4を形成する工程と、前記陽極4上に、有機発光層6を形成する工程と、前記有機発光層6および補助電極2の上面に陰極7を形成する工程とをこの順に含む有機EL素子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】LiFなどの電子注入材料を使用することなく、酸化に強い陰極を使用できる有機EL素子を提供すること。
【解決手段】
陽極及び陰極からなる一対の電極と、該一対の電極間に少なくとも発光層と電子輸送層からなる複数の有機化合物層が挟持された有機電界発光素子において、前記電子輸送層が下記式(1):


で示されるホウ素化合物を少なくとも1種類含有し、前記陰極の仕事関数が4.0eV以上である有機電界発光素子である。 (もっと読む)


【課題】電子注入層の成膜中の劣化を抑えつつ、性能及び経時的に安定した取出し電極とのコンタクトをもつ有機ELディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を備える薄膜トランジスタ付き基板を形成し、ソース電極又はドレイン電極に延在して接続する画素電極を形成し、画素電極上に正孔輸送層及び有機発光層を形成し、有機発光層上に電子注入層と対向電極とを第1のシャドウマスクを用いて形成し、基板側にレイアウトされた取出し電極と対向電極とが電気的に接続するコンタクト電極を第2のシャドウマスクを用いて、電子注入層及び対向電極の側面を覆うように形成することを特徴とする有機ELディスプレイパネルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】30分、230℃で1%未満の収縮率を有するフィルムを含む基板層およびその表面上のバリアー層を含む複合フィルムを使用して共役導電性ポリマーを含む電子または光電子素子内の基板を提供する。
【解決手段】ポリエチレンナフタレートを含む層を、延伸、ヒートセット、および熱安定化処理することにより、30分、230℃で1%未満の収縮率を有するフィルムを含む基盤層を製造し、その表面上にバリアー層を形成して複合フィルムを入手する。 (もっと読む)


【課題】 電荷輸送層上に形成したバンクを有する有機電界発光素子において、駆動電圧が低く、かつ均一な発光が得られる有機電界発光素子を提供すること。
【解決手段】 基板上に、直接または他の層を介して1層または2層以上の電荷輸送層を有し、該電荷輸送層上にバンクおよび該バンクによって区画された領域を有し、
該バンクによって区画された領域に1層または2層以上の有機薄膜を有する有機電界発光素子であって、該有機薄膜上に、直接または他の層を介して、導電性微粒子または有機導電性物質を含有する樹脂層を有することを特徴とする、有機電界発光素子。 (もっと読む)


【課題】電子注入性が良好であり、駆動性及び保存安定性に優れた陰極構造を有し、さらには生産性をも良好にした、高分子型の有機EL素子を提供する。
【解決手段】陽極30と陰極50との間に有機発光層46を含む有機機能層40を挟持してなる有機エレクトロルミネッセンス素子60である。陰極50は、有機機能層40側に配置された電子注入層52と、陰極層56とを有してなる。電子注入層52は、仕事関数が2.9eV以下のアルカリ金属またはアルカリ土類金属と、ホウ素(B)、炭素(C)、窒素(N)、アルミニウム(Al)、フッ素(F)、ケイ素(Si)、リン(P)、硫黄(S)、塩素(Cl)、臭素(Br)、ヨウ素(I)のうちの少なくとも一種の原子と、酸素原子とを含む無機膜からなる。陰極層56は、仕事関数が2.9eVを超える金属からなっている。 (もっと読む)


【課題】エッチングプロセスが不要で、平坦性の良好な薄膜パターンを容易に形成することのできる薄膜パターンの形成方法を提供すること。
【解決手段】本発明にかかる薄膜パターンの形成方法は、第1基板の平坦面にインク層を形成する工程と、前記第1基板に形成された前記インク層に含まれる溶媒を減少させる工程と、凹凸面を有する第2基板40の凹凸面の凸部に前記第1基板から前記インク層を転写する工程と、凸部から第3基板50にインク層を転写する工程と、を含む。 (もっと読む)


【課題】従来の蒸着法やスパッタ法等の高真空薄膜形成技術では、成膜レートが低く生産コストが高くなると言う課題を有していた。そこで、蒸着法やスパッタ法等の高真空薄膜形成技術によらず、簡略化された有機EL素子の電極の製造方法を提供し、簡略化された有機EL素子の製造方法及び有機EL素子を光源に用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】2つ以上の電極の間に少なくとも一層以上の有機物からなる有機デバイスであって、少なくとも電極の1つを固体平板状態で有機物層上に接触配置し、電極を軟化し接合により作成することで、有機デバイスを安価で容易に製造する。 (もっと読む)


【課題】 有機EL表示装置の高輝度化や高精細化を容易にする。
【解決手段】 赤色系の光を発する第1のサブ画素、緑色系の光を発する第2のサブ画素、および青色系の光を発する第3のサブ画素を有する画素がマトリクス状に配置された表示装置であって、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素は、それぞれ、第1の電極、第2の電極、および発光層を有し、かつ、前記第1の電極と前記発光層とは、前記第1の電極と前記発光層との間に介在する絶縁層の開口部で接続しており、それぞれの前記サブ画素における前記開口部の面積は概ね等しく、第1の方向には、前記第1のサブ画素、前記第2のサブ画素、および前記第3のサブ画素が、あらかじめ定められた順番で繰り返し並んでおり、かつ、前記第1の方向で隣接する2つの前記サブ画素の前記開口部の間隙の寸法が2通り以上である表示装置。 (もっと読む)


【課題】
改良された二層電極構造を表面に製造する。
【解決手段】
本発明の1つの見地に従うと、電極構造の第1の層は、流体電子材料に電気コンタクトを提供するようにできており、電極構造の第2の層は、正確なパターンで流体電子材料を制限するように形成される。代替えとして、所望のパターンに流体電子材料を制限する際に更に支援するために、二層電極構造の第2の層は、低い表面エネルギー材料を含む。他の代替で、電極構造の第1の層は、電気光学デバイスに接続する透過性電極材料を含む。この電極構造の第2の層は、電気光学デバイスの上に直接でない領域の電極構造の第1の層に接続する高伝導材料を含み、透明電極構造の伝導率を改良する。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、電子材料に用いられる薄膜のレーザーアブレーション加工法による薄膜のパターニング方法を提供することなる。さらには、レーザーアブレーション加工法によってパターン化された電子材料薄膜及び有機EL表示装置を提供するものである。
【解決手段】電子材料のための基板上に第1の薄膜を形成する工程、レーザーアブレーション加工法により所定の形状よりも大きな形状に前記第1の薄膜を加工する第1のパターニング工程、及び前記第1のパターニング工程で成形された薄膜を前記所定の形状に加工する第2のパターニング工程を含むことを特徴とする薄膜のパターニング方法。 (もっと読む)


【課題】発光特性に優れた発光装置及び発光装置の製造方法を実現する。
【解決手段】画素電極8aと正孔注入層8bと発光層8dと対向電極8eとが積層されてなるEL素子8を備えるELパネル1を製造するに際し、酸化モリブデン層を成膜して正孔注入層8bを形成することに先立って、バンク13と、そのバンク13の開口部13aに露出する画素電極8aの表面を中和洗浄することによって、正孔注入層8bを変質させてしまう発光阻害要因となる水酸化テトラメチルアミン(TMAH)を除去することとした。 (もっと読む)


【課題】トップエミッション型の発光装置において発光素子の導電性が劣化することを抑制する。
【解決手段】第1基板10と、第1基板10上に形成された光反射層14と、光反射層14上に形成された画素電極16と、画素電極16上に形成された発光機能層18と、発光機能層18上に形成された電子注入層20と、電子注入層20上に形成されて半透過反射性を有する対向電極22と、を具備し、対向電極22はAg合金で形成され、そのAgの含有量は、対向電極22の抵抗率が31×10−8Ω・m以下になるように設定される。 (もっと読む)


【課題】製造工程を複雑化することなく、各画素において目的とする色の輝度を高い色純度で上げる。
【解決手段】カラー画素1は、赤色光(R)を出射するサブ画素2rと、緑色光(G)を出射するサブ画素2gと、青色光(B)を出射するサブ画素2bと、白色光(W)を出射するサブ画素2wを備える。白色用のサブ画素2wは、赤色光(R)を出射する第1領域3rと、緑色光(G)を出射する第2領域3gと、青色光(B)を出射する第3領域3bに区分される。サブ画素2r,2g,2bの各々と、サブ画素2wの第1〜第3領域3r,3g,3bの各々には、発光層からの出射光を光反射層と半透過反射層との間で共振させる共振器構造が形成される。サブ画素2wの第1領域3rはサブ画素2rと共振器構造が同じであり、サブ画素2wの第2領域3gはサブ画素2gと共振器構造が同じであり、サブ画素2wの第3領域3bはサブ画素2bと共振器構造が同じである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安定的に明点不良を暗点化して、表示品質の低下を抑制した有機発光表示装置、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機発光表示装置は、複数の画素領域を含む基板部材と、前記画素領域毎に前記基板部材上に各々離隔配置された複数の画素電極と、前記画素電極を各々露出する複数の開口部を有して前記基板部材上に形成された画素定義膜と、前記画素電極上に形成された有機発光層と、前記有機発光層及び前記画素定義膜上に形成された共通電極と、を含み、前記複数の画素領域のうち一つ以上の画素領域には前記共通電極が切断されて形成されて、前記画素定義膜の開口部を囲む電極切断部が形成される。 (もっと読む)


【課題】外部からの衝撃に強いフレキシブルな発光装置およびその作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】一対の可撓性基板の間に繊維体に有機樹脂を含浸させてなる構造体を挟んで形成されたTFT等を含む第1の素子形成層と、発光素子等を含む第2の素子形成層とを有する構造とすることにより外部からの衝撃に対する耐久性を高めることができる。また、第1の素子形成層と第2の素子形成層とは、構造体の内部に形成された配線を介して電気的に接続されており、また配線は、構造体に開口部を形成することなく構造体内部に形成されているため、構造体の耐衝撃層としての機能を弱めることなく形成することができる。 (もっと読む)


【課題】冷電子放出源や有機EL等の素子へC12A7エレクトライドを応用するために
、大気中でも界面が劣化することが少ない、オーミック表面を形成すること。
【解決手段】12CaO・7Alエレクトライドを導電性素子材料として、その表
面に金属を蒸着してオーミック接合を形成する方法において、該素子材料表面をリン酸処
理して改質した後、該素子材料表面に金属を蒸着することによって、該素子材料表面と該
金属との界面の接触抵抗を0.5Ω・cm未満とすることを特徴とするC12A7エレ
クトライドからなる導電性素子材料表面に対するオーミック接合形成方法。 (もっと読む)


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