【課題】
本発明の目的は、透明性、導電性、膜強度に優れると共に、高温、高湿度環境下においても透明性、導電性、膜強度の劣化が少なく、安定性に優れ、かつ発光均一性の劣化が少なく発光寿命に優れる有機ＥＬ素子を与える透明電極を提供することにある。
【解決手段】基材上にパターン上に形成された金属材料からなる第１導電層と、導電性ポリマーを含有する第２導電層を有する透明導電膜において、前記第２導電層にオキサゾリン基を有する構造単位を含むバインダー樹脂を含有することを特徴とする透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】発光色の制御が容易で、且つ、半導体集積回路が形成されたＳｉ基板や可撓性の基体の上面に形成可能な発光膜を有するカラー表示が可能な電界効果発光素子とその製造方法を提供する。
【解決手段】第１の電極となるＳｉ基板１０の表面に、スピンオンコート法やインクジェット印刷法等で、希土類元素の有機化合物を含む溶液を塗布して、塗膜を形成せしめた後、その塗膜を熱処理することにより、所望の発光色の発光領域を有する発光膜１２を形成し、更に、その発光膜１２の表面に第２の電極１３を形成する。 （もっと読む）

【課題】導電層の高い接着性、導電性および透明性を兼ね備えてかつ、高速生産可能であり、有機ＥＬ素子、有機太陽電池といった有機電子素子を製造するための洗浄が可能な透明導電性基板を提供すること。
【解決手段】基板上に、下引き層、パターン状に形成された金属細線からなる第一導電層、および該第一導電層を被覆し導電性ポリマーを含有する第二導電層、を有する透明導電性基板において、該第一導電層が印刷方式によりパターン状に、該下引き層上に形成されており、かつ該第二導電層が水酸基含有非導電性のポリマーＸを含有しており、該下引き層が水酸基、−ＮＲ^４Ｒ^５（式中Ｒ^４，Ｒ^５は、それぞれ独立して、炭素数１から４のアルキル基を表す）で表される基の少なくとも一つの基を分子内に有するポリマーＹを含有していることを特徴とする透明導電性基板。 （もっと読む）

【課題】品位良好な有機ＥＬ装置を提供することを可能とする。
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置されたスイッチング素子と、前記スイッチング素子を覆うとともに前記スイッチング素子に到達するコンタクトホールが形成された絶縁膜と、前記絶縁膜の上に配置され、前記コンタクトホールを介して前記スイッチング素子に接続された透過電極と、前記透過電極の上に積層された反射電極と、前記反射電極の上に積層され、アモルファス・カーボンによって形成された導電層と、前記導電層の上に配置され、発光層を含む有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。 （もっと読む）

有機発光デバイスは、カソードおよびデバイスの外部にあるオプションの基板を含む。デバイスはさらに、カソードまたは基板の少なくとも１つの上に配置される少なくとも１つの膜層を含む。少なくとも１つの膜層は、磁性材料、混合磁性材料、およびそれらの組合せの少なくとも１つを含む。デバイスはさらに、アノードおよびカソードとアノードとの中間にある少なくとも１つの有機層を含む。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の層形成時に、ホスト材料中のドーパントの濃度を厳密に制御すること。
【解決手段】本発明に係る有機ＥＬ素子７の製造方法は、絶縁性基板１上に、陽極４、両電荷輸送性領域１０３、発光領域１０１、両電荷輸送性領域１０３、および陰極９を順に形成していく。この際、陽極４はアクセプターによって構成されており、陰極９はドナーによって構成されている。その後、基板を加熱してアニール処理を行うことによって、陽極４を構成するアクセプターが、陽極４に隣接する両電荷輸送性領域１０３に熱拡散し、陰極９を構成するドナーが、陰極９に隣接する両電荷輸送性領域１０３に熱拡散する。これによって、ドーパントの濃度が連続的に勾配をつけた正孔輸送領域１００および電子輸送領域１０２が形成される。 （もっと読む）

【課題】金属膜の酸化を防止し、さらに金属膜の酸化を防止するだけでなく、酸化防止を行うことで新たに発生した不具合（腐食）も防止する。
【解決手段】
電子部品素子１では、基板２上に少なくとも３層からなる金属膜群５が形成されている。この金属膜群５は、少なくとも、金属膜５１と、金属膜５１を保護する保護膜５２と、金属膜５１と保護膜５２との電位差を無くす調整膜５３とから構成されている。この電子部品素子１では、基板２上に、金属膜５１、調整膜５３、および保護膜５２の順に積層されている。 （もっと読む）

【課題】インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）薄膜を導電膜として用いた場合と同等の輝度を有するＥＬ素子、及びその導電膜の形成用感光材料を提供する。
【解決手段】支持体（２１）上に、メッシュパターンを有する導電層（２）、蛍光体層（３）、反射絶縁層（４）および背面電極（５）をこの順で有するＥＬ素子であって、前記導電層（２）の前記メッシュパターンの開口部の幅Ｘ（μｍ）と、前記メッシュパターンの開口部の表面抵抗Ｙ（Ω／□）とが、下式（ａ）及び（ｂ）を満たすＥＬ素子（１）。
式（ａ） ５０≦Ｘ≦７０００
式（ｂ） １０⁵≦Ｙ≦（５×１０²³）×Ｘ^-4.02 （もっと読む）

【課題】発光デバイスにおいて、金属電極は発光層材料からの原子拡散や、金属電極から発光層への原子拡散によって発光特性が大きく低下することを防止する。
【解決手段】透明基板１上に透明電極２、無機化合物または／および有機化合物からなる発光層３、裏面電極６を積層した有機または無機発光デバイスデバイスにおいて、裏面電極６が銀からなり、裏面電極６と発光層３との間にカーボン薄膜４と酸化亜鉛を主成分とする透明導電酸化物薄膜５が、発光層３側からカーボン薄膜４−透明導電酸化物薄膜５の構造で存在することを特徴とする発光デバイス用電極。また、裏面電極６と発光層３の間に発光デバイスの劣化を予防する樹脂が封止されており、且つ裏面電極６がリードフレームとして機能し、リードフレームと発光層３を金属により接続されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】光透過性が高く、且つ、表面抵抗率が低い可撓性に優れた電極部を有すると共に、１０ｋＨｚ以上の交流電源を使用することができ、システムの製品コストの低廉化をも図る。
【解決手段】支持体１２と、該支持体１２上に設けられ、且つ、導電性金属からなる細線構造部１４と透光性の透明導電膜１６とを有する第１電極部２２と、該第１電極部２２と対向して配された第２電極部２８と、第１電極部２２及び第２電極部２８間に配された発光層２６を有する表示部２４とを備えた自発光表示装置２０を有する発光システム６０であって、第１電極部２２に取出し電極５０が加熱圧着され、該取出し電極５０と第２電極部２８間に自発光表示装置２０を駆動する電源５２が接続され、電源５２として、１０ｋＨｚ以上の交流電源が用いられる。 （もっと読む）

【課題】経年劣化等による自発光型素子の異常発熱を個別に且つ安価に防止すると共に、省スペース化を図ることができる自発光型素子及び照明装置並びに表示装置を提供する。
【解決手段】電極層１３と、電極層１４と、これらの電極層１３，１４間に配置されこれらの電極層間に電流を流すことにより発光する発光層１５と、を備えた有機ＥＬ素子１であって、温度上昇に基づいて電極層間を流れる電流量を制限する機能性層１６を備えた。 （もっと読む）

【課題】簡素な工法で形成可能な、低反射且つ低抵抗の電極を提供する。
【解決手段】電極１７は、基板１１上に所定のパターンで形成された透明電極１２上に、その少なくとも一部が透明電極と電気的に接続して形成されたアルミニウムを含むＡｌ薄膜１５と、Ａｌ薄膜上に形成されたクロムを含むＣｒ薄膜１６とを備える。 （もっと読む）

【課題】硫化水素雰囲気下で高温焼成した場合でも電極が硫化されないような表示素子の電極保護膜を提供する。
【解決手段】一対の電極層を有するエレクトロルミネッセント素子の、少なくとも一方の電極層の表面に設ける電極保護膜であって、前記保護層が、オクチル酸Ｂａおよびオクチル酸Ｔｉを主成分とするオクチル酸金属化合物と、バインダーと、溶媒と、を少なくとも含んでなる組成物を、前記電極の表面に塗布し、焼成して形成されたチタン酸バリウム膜であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】硫化水素雰囲気下で高温焼成した場合でも電極が硫化されないような表示素子の電極用保護膜を提供する。
【解決手段】一対の電極層を有するエレクトロルミネッセント素子の、少なくとも一方の電極層の表面に設ける電極用保護膜であって、前記保護層が、無機化合物が結晶化した薄膜からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】上面への発光効率が優れた発光素子の構造を提供する。
【解決手段】発光層を挟んで基板面に平行な方向に２つの電極を並べる構造とする。発光層の下方にも電極が配置されない。従って、発光層の下方に反射膜を設けて、上面への発光効率を向上させることもできる。例えば、発光層よりも屈折率の低い膜を設け、屈折率に差がある積層の界面で発光層の下方への発光を反射し、上面への発光効率を向上させることができる。また、発光層の下方に反射率の高い金属膜（固定電位またはフローティング状態の反射金属膜）を配置することもできる。 （もっと読む）

フラットパネルディスプレイ（ＬＤＣ、ＥＬＤ、プラズマディスプレイ、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ）、タッチパネル、光学フィルター、太陽電池および他の用途における透明な電極を製造するのに適した２層型透明導体スキームが提示される。上層は典型的にインジウム・スズ酸化物からなり、より薄い下層はＡｌ_２Ｏ_３でドープされた酸化亜鉛（ＡＺＯ）、または酸化ガリウムでドープされたＺｎＯ（ＧＺＯ）、またはＡｌ_２Ｏ_３およびＧａ_２Ｏ_３の両方でドープされたＺｎＯ（ＡＧＺＯ）からなる。下層は上層よりも顕著に高い湿式化学エッチング速度を有し、これにより上部のＩＴＯ層のより迅速でより均一なエッチングを可能にし、そうしてＩＴＯ「アイランド」の形成を防止する。 （もっと読む）