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Fターム[3K107DD89]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 素子構造、材料、形状 (45,008) | 絶縁体、誘電体 (3,750) | 隔壁、バンク (1,353)

Fターム[3K107DD89]に分類される特許

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【課題】歩留まりや信頼性の低下を防止すると共に構成部材である有機EL素子の性能を向上させるための有機EL装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極21と、上部電極と、前記下部電極21と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、からなる有機EL素子を有する画素を複数備える有機EL装置の製造方法において、前記下部電極21が設けられた基板上に保護層を形成する工程と、少なくとも一部の画素に対応する領域に開口部31を有するマスク30を前記保護層に密着させた状態で、前記開口部31に対応する領域に設けられている保護層を選択的に除去する工程と、前記保護層が除去された領域において、前記下部電極21上に有機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする、有機EL装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本明細書では、水分による性能低下の抑制された発光装置を提供する。
【解決手段】各々の発光素子の周囲を多孔質構造の隔壁で囲む構造とした。多孔質構造の隔壁は水分を物理吸着するため、発光装置は、発光素子に極めて近い箇所に吸湿膜として機能する隔壁が存在し、当該吸湿膜により発光装置内部に残留した水分や水蒸気、また、発光装置外部から侵入する水分や水蒸気を効率良く吸着することができるため、水分や水蒸気に起因した発光装置の性能低下を効果的に抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】高い表示性能を実現しつつ、簡便に作製可能な表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、基板上に、第1電極層、発光層を含む有機層、および第2電極層が各々順に積層されてなる複数の発光素子と、有機層を、発光素子ごとに分離する黒色絶縁層とを備える。黒色絶縁層において外光が吸収される。また、対向基板にブラックマトリクス層を設ける必要がない構造であることから、対向基板を貼り合わせる際にアライメントが不要である。 (もっと読む)


【課題】クロストーク現象の発生が抑制された発光パネルを提供する。または、クロストーク現象の発生が抑制された発光パネルの作製方法を提供する。
【解決手段】一方の発光素子の第1の電極と、他方の発光素子の第1の電極と、2つの第1の電極を隔てる絶縁性の隔壁を有し、隔壁の側面と重なる部分に発光性の有機化合物を含む層の厚さAの1/2より薄い厚さAの部分を含み、第2の電極の隔壁の側面と重なる部分の厚さBと、第1の電極と重なる部分の第2の電極の厚さBから求めた比(B/B)が(A/A)より大きい構成とする。 (もっと読む)


【課題】タクトの悪化及び印刷材料の表面状態の変化を抑えるとともに、被印刷体に塗布された後の印刷材料の膜厚を一定に近づけることのできる技術を提供する。
【解決手段】印刷装置10は、表面上に隔壁60の配列が形成された基板Wを保持するステージ22と、所定のパターンが形成された印刷版17を有し、有機EL材料のインク70が塗布された印刷版17から基板Wの隔壁60間にインク70のパターンを転写する版胴14と、印刷版17にインクを供給するインク供給ローラ12と、インク供給スリットノズル11がインク供給ローラ12上に吐出したインク70を非接触で加熱する赤外線ヒータ80と、を備える。 (もっと読む)


【課題】容易に製造することが可能な構造を備える表示装置を提供する。
【解決手段】各サブピクセルは、1つの有機EL素子が設けられる素子形成領域と、コンタクトスペーサーが設けられる素子非形成領域とから構成され、複数のピクセルは、前記第2基板の表面上において、第1方向に延在する複数本の直線に沿ってそれぞれ配置され、第2基板上の1つのピクセルにおいて、当該ピクセルを構成する複数のサブピクセルの素子非形成領域は、前記第1方向に沿って配置され、第2基板上の1つのピクセルにおいて、当該ピクセルに設けられる複数のサブピクセルの素子形成領域は、第2方向に沿って配置され、第2基板上の1つの直線上に配列される複数のピクセルにおいて、全てのサブピクセルの素子非形成領域は前記第1方向に沿って配置され、同種類の光を放射するサブピクセルの素子形成領域は前記第1方向に沿って配置される、表示装置。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子を用いた表示装置において、リフロー工程によって良好なレンズ形状を有するレンズを形成し、発光光の利用効率を高める。
【解決手段】有機EL素子上に開口部を有する撥液性部材8を形成し、リソグラフィ技術によって該撥液性部材8の開口部にレンズ材料を付与した後、加熱してリフローによりレンズ9を形成する。 (もっと読む)


【課題】駆動回路等を制御するための駆動制御信号の信号線を基板の所定部位に配設することで、基板面の有効利用と、駆動制御信号への外的影響を防止ないし抑制することが可能な表示装置、及びそれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】基板20上に、バンク層221と該バンク層221により区画形成された凹状区画領域223とを所定のマトリクスパターンで配列するとともに、表示部たる画素部110に、表示に寄与する実画素部111と、表示に寄与しないダミー画素部112とを構成する。さらに基板20上には、走査線を導通する走査信号の出力制御を行う走査線駆動回路80と、該走査線駆動回路80を駆動させるための駆動制御信号が導通する駆動制御信号導通部320とが設けられ、基板20を平面視した場合に、駆動制御信号導通部320が、少なくともダミー画素部112のバンク層221と重畳配置する部分を含むように配置されている。 (もっと読む)


【課題】直列構造形成のための画素領域と電極接続領域のパターニングをアライメントフリーで行う有機発光素子光源を提供する。
【解決手段】第一の下部電極,画素形成層,混合層,電極接続層および第一の上部電極を有する第一の有機発光素子と、第二の下部電極および第二の上部電極を有する第二の有機発光素子と、を有する有機発光素子用光源であって、基板上に第一の下部電極,画素形成層,第一の上部電極の順に形成され、基板上に第二の下部電極,電極接続層の順に形成され、第一の下部電極の表面エネルギーおよび第二の下部電極の表面エネルギーは異なり、電極接続層により第二の下部電極と第一の上部電極が電気的に接続され、画素形成層と電極接続層との境界に混合層が形成され、混合層は画素形成層の成分と電極接続層の成分とを含み、画素形成層はホストおよび発光ドーパントを含む有機発光素子光源。 (もっと読む)


【課題】 電子装置における、デジタル階調と時間階調とを組み合わせた駆動方法において、高いデューティー比を確保し、かつアドレス期間よりも短いサステイン期間を有する場合にも正常に画像(映像)の表示が可能であり、かつ信号波形のなまりの影響を受けにくい新規の駆動方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 アドレス期間よりも短いサステイン期間を有するサブフレーム期間102において、サステイン期間104の終了後、次のサブフレーム期間のアドレス期間が開始されるまでの期間、強制的にクリア期間105を設けて、サステイン期間104の長さを、アドレス期間103の長さとは無関係に設定することを可能とする。この非表示期間は、保持容量線の電位を変えることにより行うため、陰極配線の電位を変えることで非表示期間を設ける方法と異なり、信号波形のなまりによる影響を受けない。 (もっと読む)


【課題】発光素子を用いた発光装置において、外部より侵入する水の影響を抑制し、十分
な信頼性を有する封止構造を提供する。
【解決手段】発光装置は隔壁を有し、隔壁には発光素子が設けられる第1の開口部と、第
2の開口部が設けられ、第2の開口部は画素部の外周を囲んでいる。第2の開口部では、
隔壁が厚さ方向に貫通し、第2の開口部には発光素子の陰極が設けられ、さらには第2の
開口部の底部では、陰極と接する導電膜が設けられている。このような構成により、外部
より侵入してきた水が画素部の発光素子へ到達する経路を遮断し、その影響を抑えること
ができる。 (もっと読む)


【課題】アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属膜の上に、インジウムを含む金属酸化物からなる透明導電膜が積層された構造の導電膜パターンを良好に形成する方法を提供する。
【解決手段】
平坦化膜2の上に、金属材料(AlまたはAl合金)を薄膜成形し、その表面上にIZOからなる透明導電膜を製膜する。金属膜30,透明導電膜40の積層体を200℃〜230℃で焼成する。この焼成工程で、金属膜30を構成する金属材料の結晶が締まり、膜密度が向上するので膜の耐久性も向上する。透明導電膜40の上にタングステンを反応性スパッタ法で成膜することによって、酸化タングステン膜を形成する。製膜した金属膜30と透明導電膜40と酸化タングステン膜50の積層体を、3層一括してウェットエッチングすることによって、マトリクス状にパターニングする。パターニング後に、200℃〜230℃で15分以上焼成する。 (もっと読む)


【課題】ノズル間の液滴吐出量のばらつきを高精度に補正しつつ、不定形な発光を抑制することのできる有機EL装置を提案する。
【解決手段】有機EL装置は、複数の画素10−1,10−2を備える。各画素10−1,10−2は、三原色に対応する三つの副画素を有している。各副画素は、三原色に対応する光を発光する有機EL素子を有している。隣接する二つの画素10−1,10−2の同一色に対応する二つの副画素10G−1,10G−2は、二つの副画素10G−1,10G−2のそれぞれが有する有機EL素子の液状の構成材料に対して撥液性の隔壁41に囲われており、有機EL素子を駆動するための回路素子は、有機EL素子からの光の進行方向から見て隔壁41と平面的に重なる位置に形成されている。 (もっと読む)


【課題】有機平坦化層から発生するガスによる表示品質の低下の防止、画素欠陥の発生を防止することができる有機EL装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】平坦化層41の上にガスバリア層53が形成され、ガスバリア層53及び無機隔壁43には、無機隔壁43を貫通して平坦化層41に到達する貫通孔46が形成されている。 (もっと読む)


【課題】帯電粒子や有機EL材料などの表示材料が略均一に封入され、必要に応じて電圧を印加したり、電荷を注入したりして、光の透過、不透過を短時間で切り替えることができる応答性に優れた電子シャッターや所望の画像を簡便に表示することができる画像の高品質性に優れた画像表示媒体として使用できる表示材料封入パネルの提供。
【解決手段】表示材料と、表示材料の外表面を覆う隔壁形成材と、を有する表示セルが、マイクロ流路の内部に複数配列されて形成された表示セル形成体を備えている。 (もっと読む)


【課題】表示装置を大型化した場合でも発光領域を減少させることなく、安定して電圧を供給することができるとともに、製造工程を簡略化した狭額縁化された有機EL素子、有機EL素子の製造方法、有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に形成された複数の第1電極と、複数の第1電極のうち一つ以上の第1電極上に形成され、外部と電気的に接続する複数のコンタクト部と、複数の第1電極及び複数のコンタクト部を区画して形成された複数の隔壁と、複数の第1電極及び複数のコンタクト部上に形成された複数の有機発光層と、複数のコンタクト部及び複数の有機発光層上に形成された複数の第2電極と、を備えることを特徴とする有機EL素子。 (もっと読む)


【課題】有機発光構造物、有機発光構造物の製造方法、有機発光表示装置、及び有機発光表示製造方法を提供すること。
【解決手段】有機発光表示装置は第1基板、第1電極、画素定義膜、有機発光構造物、第2電極などを含むことができる。有機発光構造物は、正孔輸送層、疎水性パターン、有機発光層、電子輸送層などを含むことができる。画素定義膜は第1基板と第1電極上に配置され、画素領域の第1電極を露出させることができる。正孔輸送層は画素定義膜と露出した第1電極上に配置されることができる。疎水性パターンは非画素領域の正孔輸送層上に配置できる。有機発光層は画素領域の正孔輸送層上に配置できる。電子輸送層は疎水性パターン及び有機発光層上に配置でき、第2電極は電子輸送層上に配置できる。疎水性パターンによって有機発光層が画素領域にのみ選択的に形成し有機発光表示装置の発光特性を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】 有機EL素子を用いたトップエミッション方式の発光装置において、光出射側にある第2電極における電圧降下を抑制するために第2電極に接続する補助配線を設けるにあたり、逆テーパー状の側部を有する隔壁を用いて補助配線を形成すると、隔壁の逆テーパー状の側部によって第2電極が段切れし、電圧降下を抑制することができない。
【解決手段】 基板上に形成された逆テーパー状の側部を有する隔壁と、前記隔壁間に形成された第1電極と、前記隔壁上に形成された第3電極と、前記第1電極上と前記第3電極上の一部に形成された有機層化合物と、前記第3電極上と前記有機化合物層上に形成された第2電極とを備える発光装置において、前記有機化合物層は、前記隔壁よりも厚い膜厚で、前記第1電極の上から前記隔壁の上部の一部にかけて連続して形成されている。 (もっと読む)


【課題】簡易な製造で素子特性を向上することが可能な表示装置およびこれを備えた電子機器を提供する。
【解決手段】本技術の表示装置は、複数の画素と、複数の画素の間の少なくとも一部に設けられた複数の第1撥液領域と、隣り合う複数の第1撥液領域の間にそれぞれ設けられた複数の第1親液領域とを有する表示領域と、少なくとも一部に第2親液領域が形成された周辺領域とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表示装置自体の厚さを薄くし、しかも水分や酸素に対するバリア性を充分に確保して発光層の劣化を防止できる表示装置及びその封止構造及びこの表示装置を備えた電子機器並びに表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、少なくとも基体2上に形成された電子素子部3上に、平坦化樹脂層14cとバリア層14dとが1以上ずつ積層されてなる多層封止膜14bを積層することにより電子素子部3を封止する構造であり、基体2上に電子素子部3を内側に囲む環状の堰止部14aが形成され、平坦化樹脂層14cが堰止部14aの内側に形成されていることを特徴とする電子素子部3のバリア性薄膜封止構造を採用する。 (もっと読む)


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