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Fターム[3K107DD93]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 素子構造、材料、形状 (45,008) | 絶縁体、誘電体 (3,750) | 配線部 (86)

Fターム[3K107DD93]に分類される特許

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【課題】焼成によるコンタクトホールにおけるコンタクト抵抗値の増加を抑制して、良好な品質を備えた有機EL素子の製造方法を提供する。
【解決手段】金属から成る配線部を含むTFT層が上面に形成された基板を準備する第1の工程と、前記TFT層の上に絶縁膜用材料の層を積層する第2の工程と、前記配線部の一部が露出するように、前記絶縁膜用材料の層にコンタクトホールを形成する第3の工程と、前記絶縁膜用材料の層を、酸素を含む雰囲気で加熱焼成して絶縁膜層を形成する第4の工程と、前記第4の工程において前記配線部の表面の金属が酸化して形成された金属酸化物をエッチャントに溶解させて除去する第5の工程と、前記コンタクトホールにおいて前記配線部の一部に電気的に接続するように画素電極を形成し、前記画素電極の上方に有機発光層を形成し、前記有機発光層の上方に対向電極を形成する第6の工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】積層体を封止する封止材としてフィルムを用い、減圧条件下で封止する場合に、封止材と積層体との間の滑りが抑えられることで接続ランドと電極との接続精度に優れるとともに、封止性能にも優れた有機半導体デバイスを提供する。
【解決手段】積層体12と第1のフィルム基材14との間に、積層体12の封止時にこれらの間で生じる滑りを防止する滑り防止材48が設けられており、これらの間での滑りが防止されることによって貫通孔38と積層体12の電極30,32との位置が合わされており、貫通孔38を通じて導電性材料40により積層体12の電極30,32が外部に引き出されている。 (もっと読む)


【課題】信頼性の向上を図ることが可能で且つ光取り出し効率の向上を図ることが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス素子は、基板10と、基板10の一表面側に設けられた第1電極20と、基板10の上記一表面側で第1電極20に対向した第2電極50と、第1電極20と第2電極50との間にあり発光層32を含む機能層30とを備えている。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、機能層30の側面側に設けられ第2電極50と第1電極20とを絶縁する絶縁層60を備えている。この絶縁層60は、吸湿剤を含有している。 (もっと読む)


【課題】照明装置を大面積化した際に、発光領域内での輝度のばらつきを抑制することができる(つまり、輝度の均一性が良い)照明装置を提供する。
【解決手段】基板10上に設けられた絶縁層11と、絶縁層上に設けられた配線13と、絶縁層及び配線を覆うように基板上に形成された透明導電膜からなる第1の電極12と、第1の電極上に形成された発光物質を含む層14と、発光物質を含む層上に形成された第2の電極15とを有する照明装置。 (もっと読む)


【課題】鮮明な多階調カラー表示の可能なアクティブマトリクス型のEL表示装置を提供
することを課題とする。特に、選択的にパターン形成することが可能な作製方法を用いて
低コストで大型なアクティブマトリクス型のEL表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】選択的にパターン形成することが可能な作製方法を用いて、画素部の電源供
給線をマトリクス状に配置する。また、選択的にパターン形成することが可能な作製方法
を用いて、隣接する配線間の距離を大きくして配線間容量を低減する。 (もっと読む)


【課題】ボトムエミッション方式において開口率を高めることのできる画素構造を有する有機EL装置を提案する。
【解決手段】有機EL装置は、三原色に対応する三つの副画素10R−2、10G−2、10B−2を含む画素領域10−2を備える。三つの副画素10R−2、10G−2、10B−2のうち少なくとも一つの副画素10B−2は、有機EL装置を駆動するための信号又は電流を供給する複数の配線40に絶縁膜を介して積層形成された画素電極24B−2と、蒸着法により画素電極24B−2に形成される発光層とを備える。 (もっと読む)


【課題】3層以上の配線を接続する際に、最も効率的にかつ最小面積で接続を行えるコンタクト構造を実現可能な半導体装置およびその製造方法、並びに表示装置を提供する。
【解決手段】基板201上に3層以上のn層の導電層202〜204が積層して形成され、n層の導電層がコンタクトパターンを介して接続され、コンタクトパターンが形成される一つの主コンタクト領域には、(n−1)個の導電層202,203を接続する(n−1)個の接続領域211,212を有し、(n−1)個の導電層のうち基板201に対する積層方向(基板201の主面に対する法線方向)において第1層より上層の導電層は、その終端部がコンタクトパターンCPTNの縁の一部に臨むように形成され、(n−1)個の導電層は、第n層の導電層により電気的に接続されている。第n層の導電層は、コンタクトパターンCPTNであるコンタクト孔を埋めつくよう形成されている。 (もっと読む)


【課題】電極ホール46における有機EL材料の成膜不良によるEL素子の発光不良を改
善することを課題とする。
【解決手段】上記課題を達成するために、本発明では画素電極上の電極ホール46に絶縁
体を埋め込み、保護部41bを形成させた後、有機EL材料を成膜することで、電極ホー
ル46における成膜不良を防ぐことができる。これにより、EL素子の陰極、陽極間の短
絡により電流集中が生じるのを防ぎ、EL層の発光不良を防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】多層配線を形成する際における配線の加工に要する工程を簡便にすることを課題
とする。また、開口径の比較的大きいコンタクトホールに液滴吐出技術やナノインプリン
ト技術を用いた場合、開口の形状に沿った配線となり、開口の部分は他の箇所より凹む形
状となりやすかった。
【解決手段】高強度、且つ、繰り返し周波数の高いパルスのレーザ光を透光性を有する絶
縁膜に照射して貫通した開口を形成する。大きな接触面積を有する1つの開口を形成する
のではなく、微小な接触面積を有する開口を複数設け、部分的な凹みを低減して配線の太
さを均一にし、且つ、接触抵抗も確保する。 (もっと読む)


【課題】
アルミニウム配線の上側に有機保護膜を配置した場合でも、当該配線の耐腐食性に優れた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】
基板(SUB)上に画素部と外部接続端子部が設けられ、該画素部と該外部接続端子部とをアルミニウム配線(LN)で接続する画像表示装置において、該外部接続端子部のコンタクト孔(CH)及び画素部の一部を除いて、該アルミニウム配線を直接被覆する有機保護膜(OPAS)と、該外部接続端子部を含み該画素部までの該アルミニウム配線を覆うように、該有機保護膜の上側に設けられたITO膜(ITO)とを有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機ELデバイスにおいて、電極取出し部を簡易に形成することができ、効率的に製造することができるものとする。
【解決手段】有機ELデバイス1は、導電性を有する第1の基板2と、第1の基板2上に形成された有機層3と、有機層3上に形成された電極層4と、接着層5を介して電極層4と接合される第2の基板6と、を備える。電極層4は、有機層3と当接する主電極部41と、有機層3のある領域よりも外周側に延設された補助電極部42と、を有し、補助電極部42は、絶縁層7よりも外周側で第1の基板2の周縁部と接する。第1の基板2は、絶縁層7の下面側で分割され、一方が有機層3と接する第1の電極取出し部40aを構成し、他方が補助電極部42と接する第2の電極取出し部40bを構成する。この構成によれば、第1の基板2を分割する簡易な手順で電極取出し部を形成することができ、デバイスを効率的に製造することができる。 (もっと読む)


【課題】消費電力の低いトップエミッション構造の発光装置を提供する。
【解決手段】有機EL素子を形成する基板上に凸状構造体を形成した後に、上部電極層を形成する。これにより、上部電極層は凸形状に追従した形状を有する構造となる。また、有機EL層を封止する基板上に導電層を形成する。そして、上部電極層形成面と導電層形成面が対向した状態で両者を封止することで、凸状構造体と重畳する電極層の少なくとも一部が導電層と接触し、上部電極層の抵抗率が大きく減少する。これにより、発光素子の消費電力を低減できる。 (もっと読む)


【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装
置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第1の導電層、及び
有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第2の導電
層を形成して素子形成層を形成し、第2の導電層上に第1の可撓性を有する基板を貼りあ
わせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】
TFT基板の電流取出用端子と画素電極間の導通性を向上させることによって、優れた発光特性の発揮を期待できる有機発光装置を提供する。
【解決手段】基板10の片面に、平坦化膜11、被覆膜20、陽極2、ホール注入層4を形成する。平坦化膜11は被覆膜20で被覆する。ホール注入層4上にホール輸送層6A、発光層6B、陰極8を順次積層して有機発光装置1を構成する。被覆膜20及びホール注入層4は所定の成膜条件で成膜した膜厚2nm以上の酸化タングステン層とし、かつ、その電子状態において、価電子帯で最も低い結合エネルギーよりも1.8〜3.6eV低い結合エネルギーの範囲内に占有準位を存在させる。ソース電極17と陽極2とを被覆膜20を介して電気接続する。 (もっと読む)


【課題】積層構造体の保護層の被覆率を評価する工程を有する配線形成方法において、金属の酸化溶解が発生しない評価法含む配線の製造方法の提供と大画面、高精細な画像表示装置を歩留まりよく容易に製造すること。
【解決手段】基板上に下地としての金属層とその上の保護層とを具備する積層構造体を形成する工程、該保護層の被覆性を評価する工程を有する配線形成方法において、積層構造体を溶存酸素が含有しているアルカリ溶液に浸漬し、電位を変化させながら印加した時、下地を構成する金属表面での還元反応に伴う電流を計測し、計測結果から保護層の被覆率を求める配線の製造方法。 (もっと読む)


【課題】アクティブマトリクス型の発光装置において、発光素子の陽極における平均膜抵抗を低抵抗化を可能とする素子構造を提供する。
【解決手段】陰極104の間を埋めるように形成されたバンク107の上部107bを導電膜で形成することにより、陽極109における平均膜抵抗を低抵抗化することができ、より鮮明な画像表示の発光装置を得ることができる。 (もっと読む)


【課題】有機EL表示装置において、非発光時における表示のシームレス化を適切に実現する。
【解決手段】可視光を遮光する金属よりなる背面電極23と光取り出し側に位置する透明電極21との間に有機EL材料よりなる有機層22を挟んでなる有機EL発光部20を有する文字盤10を備え、有機EL発光部20の光取り出し側に、背面電極23による光反射を防止する反射防止膜12を備えてなる有機EL表示装置において、背面電極23は、文字盤10のうち有機EL発光部20の外側の全体にまで、透明電極21とは絶縁膜25を介して設けられており、文字盤10のうち有機EL発光部20の外側の全体にて、背面電極23よりも光取り出し側には、透明電極21と同一材料よりなる透明ダミー膜26が背面電極23と重なるように設けられており、透明ダミー膜26と透明電極21とは絶縁膜25を介して電気的に分断されている。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子が配列された領域に水分が侵入することを抑制する。
【解決手段】複数のTFT素子が形成された基板GAと、複数のTFT素子の上側に形成される第1の無機絶縁膜IL1と、第1の無機絶縁膜IL1の上側に配列される複数の有機EL素子によって形成される素子配列領域と、素子配列領域内の各画素を隔て、かつ外側を覆う第1の有機絶縁膜OL1と、第1の有機絶縁膜OL1を上側から覆って、第1の無機絶縁膜IL1の第1の有機絶縁膜OL1から露出する部分で重複して密着される第2の無機絶縁膜IL2と、第1の無機絶縁膜IL1に埋設される配線ES3と、を有する有機EL表示装置であって、配線ES3は、第2の無機絶縁膜IL2が密着される密着領域SLの下側を通過する密着領域通過部を有し、密着領域通過部は、主配線部と、主配線部から側方に突出する少なくとも1つの突出部と、を有する、ことを特徴とする有機EL表示装置。 (もっと読む)


【課題】狭額縁化に適した電気光学装置を提供する。
【解決手段】複数の電源線103R,103G,及び103Bのうちの少なくとも1つの電源線の少なくとも1部を第1配線層135に設けられた導電膜と第2配線層136に設けられた導電膜とにより構成することにより、電源線の線幅を狭くする。 (もっと読む)


【課題】上側配線の下側配線との交差部分における断線を減らし歩留まりを向上させる。
【解決手段】基板2の上部に形成された下部配線Ldと、下部配線Ldを被覆する絶縁層31と、絶縁層31の上部に、下部配線Ldと交差するように形成された上部配線Laと、下部配線Ld及び上部配線Laと接続された画素トランジスタ11〜13と、画素トランジスタ11〜13により電力が供給される有機EL素子40と、を備える発光パネル10である。絶縁層31の上面であって下部配線Ldの上部には、下部配線Ldに沿った突条が形成され、上部配線Laは、少なくとも突条の傾斜面31Bにおいて幅が変化している。 (もっと読む)


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