【課題】量産実現性のある酸素濃度・水分濃度環境下におけるウェットプロセスにて、高発光効率且つ長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子を安定的に製造する。
【解決手段】陽極と陰極との間に、少なくともリン光発光材料を含有する発光層が挟持され、前記発光層がウェットプロセスで形成される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、発光層に含有される発光ホスト材料中に分散された、膜の状態での室温におけるリン光寿命が１．４μｓｅｃ未満であり、且つリン光量子収率が７０％以上のリン光発光材料を含む塗布液を調整する工程と、塗布液を、酸素濃度１０〜２０００ｐｐｍ、水分濃度１０〜２０００ｐｐｍの不活性ガス雰囲気下で塗布して乾燥させる工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】従来の材料を使用した素子に比して、初期耐久性が大幅に向上した有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】基板上に、一対の電極と、該電極間に発光層を有する有機電界発光素子であって、前記発光層に燐光性金属錯体Ａを含有し、該燐光性金属錯体Ａと同じ化学式で表されながら、配位子の配位方法が立体的に異なる構造異性体群Ｂを含有しないか所定量含有し、さらに、前記発光層のホスト材料は、その分子構造中に含まれる、下記式（ＩＩ）で表されるＮ−フェニルカルバゾール構造の窒素原子の数と、ホスト材料の分子全体に含まれる全炭素原子数との比Ｎ／Ｃを所定の範囲とした有機電界発光素子。
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【課題】封着材料層および封着層の形成工程にレーザ加熱を適用するにあたって、気密封止性に優れる封着層を再現性よく形成することが可能な気密部材の製造方法を提供する。
【解決手段】封着材料ペーストの枠状塗布層の第１の照射開始位置ＬＳ１から第１の照射終了位置ＬＦ１まで、焼成用レーザ光を枠状塗布層に沿って走査しながら照射して封着材料層５を形成する。封着材料層５を介して第１のガラス基板と第２のガラス基板２とを積層した後、第１の照射開始位置ＬＳ１および第１の照射終了位置ＬＦ２とは異なる位置に設定された第２の照射開始位置ＬＳ２から第２の照射終了位置ＬＦ２まで、封着用レーザ光８を封着材料層５に沿って走査しながら照射して封着層を形成する。 （もっと読む）

【課題】簡便な工程で作製することができ、水分の透過が少なく、封止も容易にできるＥＬ素子封止用フィルムを提供する。
【解決手段】水蒸気透過度が４０℃９０％Ｒ．Ｈ．の条件下で０．０３ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下のガスバリアフィルムを少なくとも２枚以上、接着剤層を介して貼り合わした積層体の一方の面に、封止用のシール層を有するエレクトロルミネッセンス素子封止用フィルムであって、前記ガスバリアフィルムは、基材フィルムの一方の面に、少なくとも1層以上の無機化合物からなるバリア性薄膜層とポリビニルアルコールを含むバリア性塗布膜層とを備え、且つ、前記透明バリア性薄膜層と前記バリア性塗布膜層とは、前記積層体のシール層側となる前記基材フィルムの一方の面に形成されている。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリアフィルムにおいて、基板の光取り出し性能の低下を防止しつつ、フィルムからのガスバリア層の剥離等の欠陥の発生を最小限に抑制しうる手段を提供する。
【解決手段】第１の表面にマイクロレンズ構造を有する基板と、前記基板の前記第１の表面上に形成された水蒸気バリア層とを備えた水蒸気バリアフィルムにおいて、前記水蒸気バリア層を、ポリシラザンを含有する溶液を塗布して得られた塗膜に紫外線を照射して前記ポリシラザンを改質することにより形成されたポリシラザン改質層とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ、その製造方法及びこれを含む有機発光ダイオード表示装置を提供する。
【解決手段】基板と、前記基板上に位置し、結晶化誘起金属を用いて結晶化された多結晶シリコン層からなり、ソース／ドレイン領域及びチャネル領域を含む半導体層と、前記半導体層上に位置するゲート絶縁膜と、前記ゲート絶縁膜上に位置するゲート電極と、前記ゲート電極上に位置する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜上に位置し、前記半導体層のソース／ドレイン領域と電気的に接続されるソース／ドレイン電極を含み、前記半導体層は前記半導体層の両端部に位置する第１ゲッタリングサイト及び前記第１ゲッタリングサイトと離隔されて前記半導体層のドレイン領域のみに位置する第２ゲッタリングサイトを含むことを特徴とする薄膜トランジスタ、その製造方法及びこれを含む有機発光ダイオード表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、塗膜の白ぼけや白っぽさを低減しコントラストを低下させずに、実用上問題ないレベルの防眩性と高い透過率、高い像鮮明度、画像のギラツキを抑制し、ディスプレイの視認性を向上させた防眩ハードコートフィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明フィルム上に、有機微粒子および樹脂を含有する防眩ハードコート層を設けてなるヘイズ値が０．１〜５．０％である防眩ハードコートフィルムであって、該防眩ハードコートフィルムの表面の評価領域内の高さの平均値をゼロ（零）としたときの、評価領域内の高さ最大値と評価領域内の高さ最小値との差で表わす最大断面高さが０．６μｍ以下、且つ該防眩ハードコートフィルムの内部ヘイズ値が０〜２．０％、全ヘイズ値に対する内部ヘイズ値の割合が４０％以下であることを特徴とする防眩ハードコートフィルム。 （もっと読む）

【課題】クラックの発生が抑制され、信頼性の高い発光装置を提供する。
【解決手段】発光デバイスが形成された第１の基板と、第２の基板とがガラスフリットを用いて封止された発光装置において、ガラスフリットを溶融、固化して形成された封止材と重なる領域に用いる配線材料には、発光装置に用いる基板の材料と線熱膨張係数の近い導電性材料を用いればよい。より具体的には、基板材料の線熱膨張係数との差が、０℃から５００℃の範囲において、５ｐｐｍ以下の線熱膨張係数を有する導電性材料を配線材料として用いる。 （もっと読む）

【課題】シェーディングやムラの少ない表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、（Ａ）走査回路１０１、（Ｂ）映像信号出力回路１０２、（Ｃ）電流供給部１００、（Ｄ）電流供給部１００に接続され、第１の方向に延びるＭ本の電流供給線ＣＳＬ、（Ｅ）走査回路１０に接続され、第１の方向に延びるＭ本の走査線ＳＣＬ、（Ｆ）映像信号出力回路１０２に接続され、第２の方向に延びるＮ本のデータ線ＤＴＬ、並びに、（Ｇ）第１の方向にＮ個、第１の方向とは異なる第２の方向にＭ個、合計Ｎ×Ｍ個の、２次元マトリクス状に配列され、それぞれが、発光部ＥＬＰ、及び、発光部ＥＬＰを駆動するための駆動回路を備えた発光素子１を備えており、各走査線ＳＣＬと走査回路１０１との間に容量負荷部１０１Ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性と良好な水蒸気バリアー性能を有する水蒸気バリアーフィルムの製造方法を実現し、そのような優れた性能を有する水蒸気バリアーフィルムと、その水蒸気バリアーフィルムを用いた水蒸気バリアー性に優れた電子機器を得ること。
【解決手段】基材１上に水蒸気バリアー層４と保護層５が積層された水蒸気バリアーフィルム１０において、その水蒸気バリアーフィルム１０の周縁部の少なくとも一部に、その中央側よりも水蒸気透過率が低い低透過領域Ｒｂを形成することとした。この低透過領域Ｒｂは、周縁部の全体に亘って形成されていることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】微粒子及び紫外線吸収剤を含有し、λ／４の位相差を有し、ヘイズが低く抑えられた位相差フィルム、偏光板、及びそれを用いた表示装置を提供することであり、特に、クロストークが無く、画像のコントラストの高い３Ｄ液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置を提供すること。
【解決手段】２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５５０ｎｍの光で測定したフィルム面内のリターデーション値Ｒｏが、１２８〜１４８ｎｍの範囲となる、少なくとも二層が積層された構成の位相差フィルムであって、第１層が紫外線吸収剤を含有し、第２層が体積平均粒径が０．０１〜１．００μｍの範囲内にある微粒子を含有し、かつ該第２層が、前記第１層の形成後巻き取られるまでの間に積層されて作製されたことを特徴とする位相差フィルム。 （もっと読む）

【課題】金属配線の下層を加工または損傷させることなく、金属配線がショート不良となることを未然に防止できるレーザー修正工程を有する表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】複数の画素を備えた表示部を有する表示装置の製造方法は、当該表示部が有するガラス基板１１上に形成された駆動回路層１２の表面を平坦化する平坦化膜１３と、平坦化膜１３上に積層された上部電極層１４Ｐと、上部電極層１４Ｐ上に形成され上部電極層１４Ｐを画素形成領域ごとに配置された上部電極１４として分離形成するためのパターニングされたレジスト２０とを準備する第１工程と、隣接する画素形成領域の間の領域に残存するレジスト残り２０Ｎに対し、２６６ｎｍの波長を有するレーザーを照射することにより、レジスト残り２０Ｎを除去する第２工程と、当該第２工程の完了後、全ての画素に対して、レジスト２０をマスクとしてエッチングする第３工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】優れた電荷輸送性を有する電荷輸送性有機薄膜、および該電荷輸送性有機薄膜を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子の提供。
【解決手段】本発明の電荷輸送性有機薄膜は、基材上に形成され、互いに平行でない複数のπ電子共役構造面を有する電荷輸送性のπ共役化合物を含んでなる電荷輸送性の非晶質薄膜であって、前記π共役化合物が電子輸送性である場合は最低非占有分子軌道（ＬＵＭＯ）が主に分布しているπ電子共役構造面を、前記π共役化合物が正孔輸送性である場合は最高占有分子軌道（ＨＯＭＯ）が主に分布しているπ電子共役構造面を、それぞれ第１のπ電子共役構造面としたとき、前記第１のπ電子共役構造面が前記基材の表面に対して実質的に平行に配向していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機発光装置の高効率化には、有機分子の配向を水平にし、表面プラズモンポラリトンの励起に消費されるエネルギーを可視光へ転換することが重要である。しかし、従来の配向制御法では、製造工程が複雑、成膜速度が遅いといった課題がある。
【解決手段】本発明の有機発光素子は、上部電極と、下部電極と、前記上部電極と前記下部電極との間に配置された発光層とを有する有機発光素子であって、前記発光層にはホスト、第一のドーパントが含まれ、前記第一のドーパントには第一の機能性基が含まれ、前記第一のドーパントの濃度について、前記発光層において前記上部電極が存在する側の領域と、前記下部電極が存在する側の領域のうちいずれか一方が、他方の領域より高く、前記第一のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する水平方向成分が、垂直方向成分より大きい。 （もっと読む）

【課題】塗布ムラやノズルの目詰まりが生じない有機エレクトロルミネッセンスインク組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】高分子有機エレクトロルミネッセンス材料が有機溶媒に溶解してなる溶液を、孔径０．０３〜０．１０μｍのフィルターで加圧濾過する。ここで、高分子有機エレクトロルミネッセンス材料の重量平均分子量は１×１０^４〜５×１０^５の範囲であってもよい。また、圧濾過における圧力は５ｋＰａ〜１００ｋＰａの範囲であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有機発光装置の高効率化には、表面プラズモンポラリトンの励起を除く電子正孔対の非発光再結合の影響を減らし、励起子エネルギーの大半を可視光に変換し、有機発光素子の発光効率を飛躍的に向上することが必要である。
【解決手段】本発明の有機発光素子は、反射電極と、透明電極と、前記反射電極と前記透明電極との間に配置された発光層とを有する有機発光素子であって、前記発光層にはホスト、第一のドーパントが含まれ、前記第一のドーパントについて、遷移双極子モーメントの平均値の基板面に対する垂直方向成分が、水平方向成分より大きく、前記反射電極の前記発光層側に凹凸構造を有する。 （もっと読む）

【課題】例えば太陽光のような発光を得るために、半値幅の広い発光スペクトルを得ることができる蛍光体を提供する。
【解決手段】バナジン酸とアルカリ土類金属とを組み合わせることによりアルカリ土類バナジン酸塩系化合物AE₂VO₄X（AE：アルカリ土類金属、X：Cl）を形成し、このアルカリ土類バナジン酸塩系化合物AE₂VO₄Xを、無機ＥＬ素子１の発光層４として使用する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】ＴＦＴ基板１上のアノード電極２Ｒ〜２Ｂ上に対応色の有機ＥＬ層３Ｒ〜３Ｂを形成して有機ＥＬ表示装置を製造する有機ＥＬ表示装置の製造方法であって、ＴＦＴ基板１上に可視光を透過する樹脂製のマスク用部材４を被着するステップと、ＴＦＴ基板１上のＲ対応アノード電極２Ｒ上にレーザ光Ｌを照射し、当該アノード電極２Ｒ上のマスク用部材４に画素に対応した形状の開口５を設けてマスク６を形成するステップと、ＴＦＴ基板１上のＲ対応アノード電極２Ｒ上にマスク６の開口５を介してＲ有機ＥＬ層３Ｒを成膜形成するステップと、マスク６を剥離するステップと、を含むものである。 （もっと読む）

【課題】支持基板の変形を防止し、かつ、有機機能層の膜厚を均一にすることができる有機エレクトロニクスデバイスを提供する。
【解決手段】有機エレクトロニクスデバイス１は、可撓性を有する樹脂基板１０と、樹脂基板１０上に形成された透明導電膜１２と、スリットダイコート法により所定の塗布液が透明導電膜１２上に塗布され形成された有機機能層１４と、を備えている。有機エレクトロニクスデバイス１では、透明導電膜１２が、電極として使用される使用領域１２ａと使用されない不使用領域１２ｂとに分離した状態でパターニングされ、有機機能層１４を構成する塗布液の塗布領域１８に対する透明導電膜１２の占有面積が８０〜９９％である。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ、これを備えた表示装置、およびその製造方法に関する。
【解決手段】本発明に係る薄膜トランジスタは、基板上に形成され、金属触媒の作用による結晶の成長によって結晶化したアクティブ層と、アクティブ層の一部領域上に形成されたゲート絶縁膜パターンと、ゲート絶縁膜パターンの一部領域上に形成されたゲート電極と、ゲート絶縁膜パターン上にゲート絶縁膜パターンと同じパターンで形成され、ゲート電極を覆うエッチング防止膜パターンと、アクティブ層およびエッチング防止膜パターン上に形成されたソース電極およびドレイン電極と、アクティブ層およびエッチング防止膜パターンとソース電極およびドレイン電極の間にソース電極およびドレイン電極と同じパターンで形成され、アクティブ層の結晶化に用いられた金属触媒を除去するゲッタリング層パターンとを含む。 （もっと読む）