【課題】有機エレクトロニクス素子用の材料として有用な共役ポリマーの製造方法、共役ポリマー、並びにこれを用いてなる、電気的特性に優れた有機エレクトロニクス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】鈴木カップリング反応を用いた共役ポリマーの製造方法において、アルキルホスフィン類もしくはコーンアングル（θ）が１７０度以上１９０度以下のホスフィン類とパラジウムとからなる触媒を用いる、共役ポリマーの製造方法。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。該半導体装置を作製する。半導体装置を歩留まりよく作製し、生産性を向上させる。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、酸化物半導体膜が順に積層され、酸化物半導体膜に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、エッチング工程によりゲート電極層、又はソース電極層及びドレイン電極層を形成後、ゲート電極層又は酸化物半導体膜表面及び該近傍に存在するエッチング工程起因の残留物を除去する工程を行う。 （もっと読む）

【課題】透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程を行う。 （もっと読む）

【課題】カール耐性に優れた円偏光板を提供することである。また、その製造方法、及び該円偏光を用いた光漏れの少ない有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
【解決手段】λ／４位相差フィルム（Ａ）、偏光子、λ／４位相差フィルム（Ｂ）がこの順で積層されており、それぞれのλ／４位相差フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸とのなす角度が４５°である円偏光板であって、それぞれのλ／４位相差フィルムが、正の固有複屈折を示すポリマー延伸型位相差フィルムであり、かつ該λ／４位相差フィルム（Ａ）とλ／４位相差フィルム（Ｂ）との遅相軸のなす角度が５°以下であることを特徴とする円偏光板。 （もっと読む）

【課題】外光下や高温高湿環境下でも背景部の映り込みのない黒色を表示できる有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供し、さらに、斜めから見たときに色相の変動が生じにくい有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、光反射電極と、発光層と、透明電極と、λ／４位相差フィルム及び直線偏光膜を有する円偏光板が、この順に備えられた有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、該λ／４位相差フィルムが、単一の層からなり、特定のアシル基による特定のアシル基置換度を有するセルロースアシレートを含有し、かつ固有複屈折値が負であるオリゴマーを含有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。 （もっと読む）

【課題】画素電極の駆動素子として酸化物ＴＦＴを用いた表示装置の信頼性を向上させつつ、製造コストの低減を図ることを可能にした表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】画素電極および薄膜トランジタを有する複数の画素と、薄膜トランジタを駆動する信号線および走査線と、共通電極と、複数の画素と共通電極との間に配置される表示層とを備える表示部４を、第１のガラス基板２と第２のガラス基板３との間の間隙に設けた後、レーザ吸収能を有する封着用ガラス材料の焼成層からなる枠状の封着材料層１０にレーザ光１１を照射することによって、表示部４を封止する封着層９を形成する。 （もっと読む）

【課題】遅延硬化剤を使用することなく十分な可使時間を確保でき、かつ透明性および物性に優れたＵＶ硬化性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】紫外線（ＵＶ）で硬化されるＵＶ硬化性樹脂組成物であって、多官能エポキシ樹脂を３０〜９５質量部、炭素数７〜２０の長鎖炭化水素骨格を有する単官能エポキシ化合物を５〜７０質量部含有することを特徴とする、ＵＶ硬化性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】 金属等の導電性の基材を基板として使用する際に絶縁平滑層を設けた場合であっても、初期発光の安定性を向上させ、高温多湿の環境下での劣化を防ぐことのできる有機ＥＬデバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 導電性基板１０１を有する有機ＥＬデバイス１００であって、導電性基板１０１上に絶縁平滑層１０２を有し、絶縁平滑層１０２上にガスバリア層１２０を有し、ガスバリア層１２０上に有機ＥＬ素子１１０を有し、ガスバリア層１２０が、金属および半金属の少なくとも１種を含み、ガスバリア層１２０が、放電処理がされた放電処理層１２０ｂと、放電処理がされていない非放電処理層１２０ａとを含んでいることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】発光層中のリン光発光性ドーパントを高濃度化させることなく、正孔輸送層と発光層との正孔注入性を向上させ、長寿命であり、且つ非発光時の保存性（耐熱性、耐光性）に優れる有機エレクトロルミネッセンス素子を提供する。
【解決手段】ホスト化合物とリン光発光性ドーパント化合物とを含有する発光層と、発光層に隣接し正孔輸送材料を含有する正孔輸送層と、を少なくとも有する有機エレクトロルミネッセンス素子であって、ホスト化合物の最高占有分子軌道ＨＯＭＯ（Ｈ）と正孔輸送材料の最高占有分子軌道ＨＯＭＯ（ＨＴ）との関係が、０≦ＨＯＭＯ（Ｈ）−ＨＯＭＯ（ＨＴ）≦０．４２を満たし、発光層内のリン光発光性ドーパント化合物の濃度が、ホスト化合物に対し３〜５ｖｏｌ％である。 （もっと読む）

【課題】外光反射が少なく表示の均一性に優れる有機エレクトロルミネッセンス表示装置用円偏光板を提供する。また、上記有機エレクトロルミネッセンス表示装置用円偏光板を有する有機エレクトロルミネッセンス表示装置を提供する。
【解決手段】偏光子とλ／４位相差フィルムとが積層された有機エレクトロルミネッセンス表示装置用円偏光板であって、前記λ／４位相差フィルムの遅相軸と前記偏光子の吸収軸とのなす角度が４５°であり、前記λ／４位相差フィルムの４５°偏光入射時の内部ヘイズ値が０．０１〜０．１％の範囲内であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置用円偏光板。 （もっと読む）

【課題】高感度であり、保存安定性に優れ、得られる硬化膜の信頼性（特に耐薬品性）に優れ、硬化膜製造の際の露光マージンや現像マージンが広い感光性樹脂組成物等の提供。
【解決手段】 （Ａ）酸分解性基で保護されたカルボキシ基を有するモノマー由来の繰り返し単位、および／または、酸分解性基で保護されたフェノール性水酸基を有するモノマー由来の繰り返し単位（ａ１）と、架橋基を有する繰り返し単位（ａ２）とを、同一の重合体および／または異なる重合体に含む重合体成分（Ｂ）下記一般式（ｂ１）で表されるオキシムスルホネート残基を含む化合物、および（Ｃ）溶剤、を含有し前記溶剤として、少なくとも１種の沸点が１８０℃未満の溶剤と、少なくとも１種の沸点が１８０℃以上の溶剤を含み、（沸点が１８０℃未満の溶剤の合計量）：（沸点が１８０℃以上の溶剤合計量）が質量換算で９９：１〜５０：５０である、感光性樹脂組成物。
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【課題】酸化物半導体膜の被形成面近傍に含まれる不純物の濃度を低減する。また、酸化物半導体膜の結晶性を向上させる。該酸化物半導体膜を用いることにより、安定した電気特性を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極を覆い、シリコンを含む酸化物を含むゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜と接し、少なくとも前記ゲート電極と重畳する領域に設けられた酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接続するソース電極およびドレイン電極と、を有し、酸化物半導体膜における、ゲート絶縁膜との界面からの厚さが５ｎｍ以下の第１の領域において、シリコンの濃度が１．０原子％以下であり、酸化物半導体膜の第１の領域以外の領域に含まれるシリコンの濃度は、第１の領域に含まれるシリコンの濃度より小さく、少なくとも第１の領域内に、結晶部を含む半導体装置である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性補助基板を準備する補助基板準備工程と、剥離性補助基板と、未硬化の硬化性樹脂組成物層と、キャリア基板とをこの順で有する硬化前積層体を形成する第１の積層工程と、硬化前積層体中の未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化する硬化工程と、硬化後積層体から樹脂層付きキャリア基板を分離して得る第１の分離工程と、樹脂層表面上にガラス基板を剥離可能に積層する第２の積層工程と、ガラス基板の表面上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から、電子デバイスを分離して得る第２の分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、オン電流の低下を抑制すること。
【解決手段】酸化物半導体膜を用いたトランジスタにおいて、ゲート電極と、ゲート電極を覆い、シリコンを含む酸化物を含むゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜と接し、少なくともゲート電極と重畳する領域に設けられた酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極およびドレイン電極と、を有し、酸化物半導体膜において、ゲート絶縁膜との界面からの厚さが５ｎｍ以下の第１の領域は、シリコンの濃度が１．０原子％以下であり、酸化物半導体膜の第１の領域以外の領域に含まれるシリコンの濃度は、第１の領域に含まれるシリコンの濃度より小さくする。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い半導体装置を提供する。半導体装置を歩留まりよく作製し、高生産化を達成する。
【解決手段】ゲート電極層、ゲート絶縁膜、インジウムを含む酸化物半導体膜、ゲート電極層と重畳する酸化物半導体膜上に接する絶縁層が順に積層され、酸化物半導体膜及び絶縁層に接するソース電極層及びドレイン電極層が設けられたトランジスタを有する半導体装置において、絶縁層表面における塩素濃度を１×１０^１９／ｃｍ^３以下とし、かつインジウム濃度を２×１０^１９／ｃｍ^３以下とする。 （もっと読む）

【課題】良好なパターン形成性を維持しつつ、高温処理等を行った場合においても、優れた色相が長期間維持される着色膜を形成可能な着色硬化性組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）染料と、（Ｂ）一般式（１）で表される構造単位及び一般式（２）で表される構造単位から選ばれる少なくとも１種の構造単位（ｂ−１）並びに酸性基を有する構造単位（ｂ−２）を含み、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であるバインダー樹脂と、（Ｃ）有機溶剤と、を含有する着色硬化性組成物。一般式（１）中、Ｒ^１１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は水素原子又は不飽和二重結合を部分構造として含む炭素数３〜２０のカルボニル基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３の双方が水素原子であることはない。一般式（２）中、Ｒ^２０は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ^２１〜Ｒ^２５は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基又はアリール基を表す。
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【課題】 低抵抗かつ高反射率の特性と共に表面粗さが小さく、高い耐硫化性及び耐塩化性を兼ね備えた導電性膜およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 導電性膜が、ＩｎおよびＳｎのうち１種または２種を合計で：０．１〜１．５原子％、Ｓｂ：０．１〜１．５原子％を含有し、さらにＧａ，Ｍｇの内の１種または２種を合計で０．５〜３原子％を含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金で構成されている。この導電性膜は、表面に有機ＥＬ素子の透明導電膜が積層され、さらにその上に有機ＥＬ層を含む電界発光層が積層される有機ＥＬ素子用の反射電極膜として好適である。 （もっと読む）

【課題】温度条件や湿度条件が厳しい環境下でも、色抜けやカラーシフトが発生しにくく、溶融製膜法で製造することが可能な位相差フィルムを提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）及び（Ｂ）の関係を満たす位相差フィルム。
式（Ａ）：０．７＜Ｒ_１（４５０）／Ｒ_１（５５０）＜１
式（Ｂ）：｜Ｒ_２（４５０）／Ｒ_２（５５０）−Ｒ_１（４５０）／Ｒ_１（５５０）｜＜０．０２０
（Ｒ_１（４５０）及びＲ_１（５５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値。Ｒ_２（４５０）及びＲ_２（５５０）はそれぞれ温度９０℃において４８時間放置した後の波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおけるフィルム面内の位相差値。） （もっと読む）

【課題】耐熱性能が向上したバリア性積層体の提供。
【解決手段】少なくとも１層の有機層と、少なくとも１層の無機バリア層を有し、前記有機層は２個以上の重合性基を有する重合性化合物を含む重合性組成物を硬化させてなり、前記有機層中における未硬化成分の総計が有機層の全質量の１．５質量％以下であるバリア性積層体。 （もっと読む）

【課題】湿式法による有機エレクトロルミネッセンス素子の製造において、有機発光媒体層の塗布液化による発光効率の低下を抑え寿命を向上させる有機エレクトロルミネッセンス素子形成用塗布液を提供する。
【解決手段】有機発光媒体層の塗布液にフッ素系溶媒を含有した塗布液を用いて、湿式法により素子基板上に塗布し、溶媒を除去することにより形成して有機エレクトロルミネッセンス素子を製造することで、上記課題を解決できる。 （もっと読む）