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Fターム[3K107FF15]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | パラメータ (13,035) | 形状(長さ、厚さ、面積、角度など) (4,159)

Fターム[3K107FF15]に分類される特許

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本願は、照明ユニットに対する所望の警告信号を提供するための方法及び装置を開示する。検出モジュール320と信号生成モジュール330とを利用するコード化警告システムが提供され、検出モジュールは、照明ユニットの一つ以上の動作パラメータの検出に関する情報を得るように構成され、信号生成モジュールは、動作パラメータの一つ以上が異常な動作パラメータであると決定すると、複数の警告信号から選択される所望の警告信号331を生成する。複数の警告信号の各警告信号は、特定の異常な動作パラメータを示すか、又は特定の異常な動作パラメータの既知の組み合わせを示す。
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【課題】粒子が規則正しく配列した粒子配列構造体を容易に製造する方法の提供。
【解決手段】溶媒と、前記溶媒に溶解し得る重合性化合物と、前記溶媒に溶解し得ない粒子を含む分散液を調製し、その分散液を基板上へにスピンコートにより塗布して、分散液相中で前記粒子を配列させ、次いで重合性化合物を硬化させて粒子配列構造体を形成させる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタにおいて、電界効果移動度を向上させることを課題の一とする。また、薄膜トランジスタの電界効果移動度を向上させても、オフ電流の増大を抑制することを課題の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層とゲート絶縁層の間に、該酸化物半導体層より導電率が高い酸化物クラスターを形成することによって、該薄膜トランジスタの電界効果移動度を向上させ、且つオフ電流の増大を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】有機EL表示装置の製造工程で用いられる、従来より薄いマスク装置のシャドーマスクを提供する。
【解決手段】基板6が真空処理装置10内に搬入され、マスク装置1と基板6との位置合わせが行われる。マスク装置1は、枠体8と、枠体8上に配置される金属からなるテープ状のシャドーマスク2と、シャドーマスク2の一端を固定する固定装置3と、シャドーマスク2の他端部を水平方向から鉛直方向に変換する変換部材4と、他端に取り付けられた重り5とを有しており、重り5によってシャドーマスク2に張力が印加される。シャドーマスク2は、張力により弛まないので基板6との間に反応プラズマが入らない。従来より薄いシャドーマスク2によって、マスク装置1の周辺部分にある基板6表面も、より均一に成膜する事が出来る。 (もっと読む)


【課題】外部量子効率を低下させることなく低電圧化が可能な有機電界発光素子の提供。
【解決手段】陽極及び陰極の間に、第一の電子輸送層、第二の電子輸送層、及び前記第一の電子輸送層と前記第二の電子輸送層の間に中間層を含む有機層を有してなり、前記中間層が、金属非含有錯体を含有する有機電界発光素子である。該中間層の厚みが、0.5nm〜20nmである態様などが好ましい。 (もっと読む)


【課題】有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板101と、前記基板101上に形成されて有機発光素子を備える表示部120と、前記基板101上の前記表示部120の周辺に形成された非表示部と、前記表示部120上に形成され、無機物を含有する第1封止層を少なくとも一層と有機物を含有する第2封止層を少なくとも一層含む封止層であって、前記第1封止層と第2封止層とは前記表示部上に交互に積層される封止層と、を備え、前記基板101の非表示部と接触する前記封止層の端部の少なくとも一部は前記第1封止層のみを含む、有機発光表示装置100である。 (もっと読む)


【課題】パネルの狭額縁化の要求に対応しつつ、絶縁膜の周縁部を保護することが可能な有機EL表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁基板と、前記絶縁基板の上に配置された絶縁膜と、前記絶縁膜の上に配置された有機EL素子と、を備えたアレイ基板と、前記アレイ基板の前記有機EL素子が配置された面と向かい合う封止基板と、前記絶縁膜の周縁部よりも外側に枠状に形成され、前記アレイ基板と前記封止基板とを接合するフリットガラスからなるシール部材と、前記絶縁膜の周縁部の直上に配置された遮光体と、を備えたことを特徴とする有機EL表示装置。 (もっと読む)


【課題】コントラストを向上させることができる画像表示装置を提供すること。
【解決手段】発光素子10と、発光素子10の一端に電気的に接続されるドライバ素子12と、ドライバ素子12に接続される静電容量15と、を有する画素を複数備え、1画素の面積Sに対する1画素あたりに占めるドライバ素子12の面積Sの割合(S/S)、および/または1画素の面積Sに対する1画素あたりに占める容量素子の面積Sの割合(S/S)が0.05以上とする。 (もっと読む)


【課題】基板上の溶液を乾燥させ、乾燥後の発光層の形状を均一にすることができ、しかも安価に製造することができる乾燥装置を提供する。
【解決手段】溶液を塗布した基板Pをチャンバー100にて乾燥させる。このチャンバー100内に、乾燥時に蒸発する溶液中の溶媒を吸着する多孔質の吸着部材102を基板Pと相対向させて配置する。吸着部材102の開口率は、吸着部材102の中央部が外周部よりも大きいように設定する。 (もっと読む)


【課題】表面の平滑性を維持しつつ、剥離や劣化を抑制し長寿命で、信頼性の高い表示パネルを形成するための表示パネル用基板を提供する。また、明瞭な表示画像を提供することができ、長寿命で信頼性の高い表示パネルを提供する。
【解決手段】透光性のガラス基板表面に、散乱物質を含み、所望のパターンを構成する散乱領域と、前記散乱領域とは光散乱特性が異なり前記散乱領域を囲む背景領域とを形成してなり、前記散乱領域がガラス層で構成され、前記散乱特性の差により、表示パターンを構成する。 (もっと読む)


【課題】絶縁層のコンタクトホールに起因した光量のムラを抑制する。
【解決手段】駆動トランジスタTdrを覆う第2絶縁層42の表面には第1電極61が形成される。第1電極61は、第2絶縁層42のコンタクトホールCHを介して駆動トランジスタTdrのドレイン電極34に接触する。第1電極61とこれに対向する第2電極62との間には発光層66が形成される。発光層66からの放射光の出射側には補助配線70が形成される。補助配線70は、第2電極62よりも抵抗率が低い導電材料によって形成されて第2電極62に電気的に接続される配線であり、第2絶縁層42のコンタクトホールCHと重なり合う部分を含む。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の作製工程におけるプラズマダメージの影響を低減し、しきい値電圧のばらつきの抑制された均一な表示特性の半導体装置を提供する。
【解決手段】トランジスタ上の平坦化層と、該平坦化層の上面もしくは下面に設けられると共に前記平坦化層からの水分や脱ガス成分の拡散を抑制するバリア層を備えた半導体装置であって、これら平坦化層及びバリア層の位置関係を工夫することにより平坦化層に及ぶプラズマダメージを低減する上で有効なデバイス構成を用いる。また、画素電極の構造として新規な構造との組み合わせにより、輝度の向上等の効果をも付与する。 (もっと読む)


発光デバイスは、第1の電極(11)、第2の電極(12)、第1および第2の電極に接触してこれらを分離する発光活物質(13)を有する。デバイスは共役ポリマーと電解質の組み合わせを含み、電解質はイオンを含み、共役ポリマーの電気化学ドーピングを可能にする。デバイスにおいて、イオンと共役ポリマーの比は(i)それぞれの電極界面のドープ領域(ゼロまたは低過電圧で、それぞれ、ドープ領域へのおよびこれを通しての電子電荷キャリアの注入および輸送を可能にする)および(ii)ドープ領域を分離する実効的なアンドープ領域(ここで注入された電子電荷キャリアは共役ポリマーの励起により再結合可能であり、ポリマーは発光により脱励起可能である)を形成できるように選択される。イオンと共役ポリマーの比は、アンドープ領域が実効的にアンドープのままでイオンを含まず、活物質中の実質的にすべてのイオンがドープ領域に閉じ込められるように十分に低い。 (もっと読む)


【課題】ドナー基板の全面に共通層の材料となる有機物層を均一に形成し、かつ、転写された基板上では、赤(R)、緑(G)、青(B)それぞれの共通層となる転写層の膜厚を異ならせる成膜方法を提供すること課題とする。
【解決手段】第1の基板上に、第1の吸収層と第1の反射層を有する第1のマスク層と第2の吸収層と第2の反射層を有する第2のマスク層を形成し、さらに有機物層を形成し、有機物層と第2の基板の被成膜面が対向させ、第1の基板の有機物層を形成した面と反対側から光照射して、第1及び第2の吸収層の上の有機物層を昇華させ、第2の基板上に第1のマスク層に対応する第1の画素に第1の転写層及び第2のマスク層に対応する第2の画素に第2の転写層を成膜し、第1及び第2の転写層の膜厚は第1及び第2の吸収層の面積比に応じて異なる成膜方法及びそれを用いた発光装置の作製方法に関する。 (もっと読む)


【課題】表示装置において、TFT基板の上に透明共通電極をシャドウマスクによるスパッタ法を用いて成膜した場合、シャドウマスク近傍に成膜粒子が回りこむため、この領域には、封止基板を接着させることが出来ないため、表示装置の狭額化の妨げとなっている。また、シャドウマスクを使用することで、製造コストがかかり、また、位置精度により精密加工が困難となっている。
【解決手段】TFT基板の上に、シャドウマスクを用いることなく、全体に対して、透明共通電極を成膜する。その上に、封止基板を接着させ、切断後、エッチャントによって、共通電極膜の余分な部分を除去する。 (もっと読む)


【課題】電極及び発光機能層間の汚染物が発光素子の特性に影響を与えないようする。
【解決手段】本発明は、基板上に画素電極(13)を形成する工程と、この画素電極の表面を洗浄する工程と、この画素電極を覆うように第1正孔注入層(181a)を形成する工程と、を含む。そして、前記基板面内の第1位置に関して、第1正孔注入層と同じ材料からなる第2正孔注入層(181R)を形成する工程と、その上に発光層(183R)を形成する工程とが行われ、その後、前記基板面内の第2位置に関して、前記第1正孔注入層と同じ材料からなる第2正孔注入層(181G)を形成する工程と、その上に発光層(183G)を形成する工程とが行われる。 (もっと読む)


【課題】発光波長ピークが580nm以上の赤色域に発光中心を有し、十分な発光効率が得られる無機蛍光体粒子、それを用いる交流分散型無機EL素子および直流薄膜型無機EL素子を提供する。
【解決手段】第2−16族化合物および第12−16族化合物から選ばれる少なくとも1種、またはそれらの混晶を母体材料とする無機蛍光体であって、周期律表の第6族〜第11族の第2遷移系列に属する金属元素および第3遷移系列に属する金属元素のうちの少なくともいずれかを含有し、且つ、CuとInを含有する。 (もっと読む)


【課題】寿命特性が良好でダークスポットや輝点の発生のない信頼性に優れた有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】複素環化合物を用いて構成された電子輸送層7cと、金属材料を用いて構成された陰極11と、電子輸送層7cと陰極11との間に挟持された遷移金属錯体層9とを備えた有機電界発光素子1である。遷移金属錯体層9を構成する遷移金属錯体の中心金属は、配位数2以上である。遷移金属錯体層9は、膜厚10nm以下が好ましく、さらに好ましくは膜厚2nm以下である。電子輸送層7cを構成する複素環化合物は含窒素環化合物である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、蒸着回数を増やすことなく、マスクの強度も低下させずに、マスク蒸着法によって発光層を形成することを目的とする。
【解決手段】ピクセルグループPXGが繰り返して横方向に並ぶ。第1ピクセルPXで第1サブピクセルSPに位置した第1色は、第2ピクセルPXで第2サブピクセルSPに位置し、第3ピクセルPXで第3サブピクセルSPに位置する。第1ピクセルPXで第2サブピクセルSPに位置した第2色は、第2ピクセルPXで第3サブピクセルSPに位置し、第3ピクセルPXで第1サブピクセルSPに位置する。第1ピクセルPXで第3サブピクセルSPに位置した第3色は、第2ピクセルPXで第1サブピクセルSPに位置し、第3ピクセルPXで第2サブピクセルSPに位置することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機EL表示装置の寿命・消費電力等の性能を損なうことなく、高い歩留まりで、低コストで、画素の微細化や高集積化、及び基板の大型化を可能にする有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】基板10と、基板10上に設けられ、B副画素21と、G副画素22と、R副画素23と、からなる複数の画素と、から構成され、B副画素21、G副画素22及びR副画素23に共通して形成されるB発光層122と、G副画素22及びR副画素23に共通して形成されるG発光層123と、上部電極13の上方に設けられ、赤色光より短波長の光を吸収して赤色光に変換する薄膜層である色変換膜151と、を有することを特徴とする、有機EL表示装置1。 (もっと読む)


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