【課題】容易に製造することができ、３００ｎｍ程度または４００ｎｍ程度もしくはその両方の短波長領域でEL発光する発光素子を提供するものである。
【解決手段】本発明の発光素子は、第１電極と、第２電極と、第１電極及び第２電極の間に設けられゲルマニウム発光体を含む担持体とを備え、前記ゲルマニウム発光体は、少なくとも一部が酸素欠損を有する酸化ゲルマニウムを含み、前記第１電極と第２電極に電位差を与えた際の発光の波長のピークが２５０〜３５０の範囲内及び３５０〜５００ｎｍの範囲内のうち少なくとも一方にあることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】薄膜封止が行なわれる発光装置において発光素子の導電性が低下することを抑制する。
【解決手段】第１基板１０と、第１基板１０上に形成された光反射層１４と、光反射層１４上に形成されて透過性を有する第１電極１６と、第１電極１６上に形成された発光機能層１８と、発光機能層１８上に形成されて半透過反射性を有する第２電極２０と、第２電極２０上に形成されて当該第２電極２０への応力を緩和するための応力緩和層２２と、応力緩和層２２上に形成されて無機材料からなるパシベーション層２４と、を具備し、第２電極２０はＭｇＡｇからなり、当該第２電極２０を形成するＭｇおよびＡｇの蒸着速度比は、１：３〜１：５０の範囲であることを特徴とする発光装置。 （もっと読む）

【課題】各画素の発光輝度を光センサで測定して各画素が所要の輝度で発光するように各画素に与える表示データ信号を補正する。この場合に、各光センサの検出ばらつきの影響を受けないで補正値を得ることができるようにする。
【解決手段】少なくとも２以上の画素に対して、各画素から等距離の位置に光センサを設ける。そして一方の画素の発光輝度と他方の画素の発光輝度を、等距離に配置された１つの光センサで検出することで、光センサの検出ばらつきの影響の無い補正値を算出する。さらに他の画素に対しても、既に補正値を更新した画素を一部に用いながら順次連鎖的に補正値を求めていくことで、表示画面を構成する全画素について、光センサの検出ばらつきの影響を排除した補正値を得る。 （もっと読む）

【課題】反射鏡膜を形成するための複雑な後工程を不要とすることができると共に、有機発光素子の劣化を抑えることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。
【解決手段】駆動用基板１１に有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂを形成し、発光パネル１０を形成する。基体２１に、有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂの各々に対応する凸状の反射素子２４を設けて、反射板２０を形成する。発光パネル１０と反射板２０とを、発光パネル１０の周縁に沿って形成した接着層３０により貼り合わせ、発光パネル１０と反射板２０との間の空間を真空層４０とする。有機発光素子１０Ｒ，１０Ｇ，１０Ｂで発生した光を、反射素子２４の側面２４Ａと真空層４０との界面により反射させる。従来の金属等の反射鏡膜による吸収損失を抑え、光取り出し効率を更に向上させる。 （もっと読む）

【課題】表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機ＥＬ素子の作製に最適な、線太りの抑制及び印刷物の膜厚均一性の向上が可能な印刷用凸版を提供することを課題とする。
【解決手段】凸版のレリーフの頂面に供給されたインクを被印刷体へ転写する凸版印刷において用いるための凸版であって、該レリーフの厚みが１０μｍ以上５００μｍ以下であり、かつ、該レリーフの頂面に、該レリーフの長辺方向と略平行に連続する複数個の細長形状の窪みを設けたことを特徴とする印刷用凸版を提供する。本発明の印刷用凸版は、線太りを抑制し、印刷物の膜厚均一性を向上させるため、表示パネルにおける配線の形成、電極の形成及び絶縁材料や有機ＥＬ素子の作製に最適である。 （もっと読む）

【課題】 有機ＥＬ装置の視野角特性を改善する。
【解決手段】有機ＥＬ装置は、画素電極（１３）、発光機能層（１８）及び対向電極（５）からなる有機ＥＬ素子（８）を複数含む。これら複数の有機ＥＬ素子には、反射層（３４）及び半透明半反射層たる前記対向電極からなる、複数の共振器が対応する。有機ＥＬ素子には、赤色用、緑色用、及び青色用の区別がある。このうち緑色用の有機ＥＬ素子は２つあり、そのうちの１つである有機ＥＬ素子（８Ｇ１）に対応する共振器内の画素電極（１３Ｇ１）の厚さは、他の１つである有機ＥＬ素子（８Ｇ２）に対応する共振器内の画素電極（１３Ｇ２）の厚さと異なる。これにより、両有機ＥＬ素子における共振対象波長が異なることになる。かかる状況によると、いわゆる短波長シフトが生じても、正対視する場合と同じ緑色が、視認者に認識されうる。 （もっと読む）

【課題】半導体層をゲート電極層、ソース電極層及びドレイン電極層上に設ける場合であっても、素子特性を向上させると共に、素子の信頼性を向上させることを目的の一とする。
【解決手段】ゲート電極層と、ゲート電極層上に設けられたゲート絶縁層と、ゲート絶縁層を介してゲート電極層の一部と重なるように設けられたソース電極層及びドレイン電極層と、ゲート絶縁層、ソース電極層及びドレイン電極層上に設けられた半導体層を有する構造において、ソース電極層とドレイン電極層の間の領域に位置するゲート絶縁層の膜厚を、ゲート電極層とソース電極層の間に設けられたゲート絶縁層及びゲート電極層とドレイン電極層の間に設けられたゲート絶縁層の膜厚より小さくなるように設ける。 （もっと読む）

【課題】ドライプロセスで製造可能で、且つ、高効率の色変換が可能であると共に、長寿命である色変換膜並びに該色変換膜を用いた色変換基板、色変換フィルタ基板、および有機電界発光素子を提供すること。
【解決手段】特定の波長を有する光源から発せられた光をそれよりも長波長の光へと波長変換し、母骨格が環員数３〜７の縮合多環式芳香族炭化水素化合物からなるホスト材料と、緑色発光性または赤色発光性の蛍光発光体からなる発光性ゲスト材料を含有すること。 （もっと読む）

【課題】本発明は、むらなく発光する発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の発光素子は、第１電極と、透光性の第２電極と、第１電極と第２電極との間に設けられかつ発光体を内部に有する透光性の担持体部とを備え、第１電極は、前記担持体部と接する表面に複数の凸部を有し、前記凸部の上端と第２電極との間の長さは、第１電極の前記凸部以外の部分と第２電極との間の長さより短いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、凹部を形成する方法として、超音波ロータリー加工方法を用い、レーザーやガラス研磨とは異なる、該凹部に適した工具を開発・使用して、好適な形状と大きさを有する凹部を形成して、該凹部底面部に遮光剤を埋め該凹部底面部以外には透明材を表面が平坦になるように埋めることにより不良輝点を隠蔽して、表示パネルの表示品質を改善する方法及び装置を提供することを目的とする。
【解決手段】フラットパネル表示装置の製造工程で発生する不良輝点を修復する方法であって、不良輝点に対応する第１基板および／または第２基板に超音波ロータリー加工機を用いてカラーフィルターまたは有効画素のブラックマトリックスの幅を考慮したサイズの底面を有する凹部を形成し、凹部に修正用材料を充填する工程においては側面には付着せず底部だけに塗布し、塗布された遮光剤のうえに透明剤を前記凹部を設置した基板の表面と平坦になるまで充填する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、略称ＯＬＥＤとして知られている有機発光ダイオード、およびそのような有機発光ダイオードの製造方法に関するものである。本発明によれば、発光体層(5)をもつＯＬＥＤまたは有機発光ダイオードは作製されると、前記発光体層は特に白色光を発する。発光体層(5)は、減衰光共振器内に位置している。
【解決手段】 共振器の２つの反射層間の光路長は、光共振器ひいては発光ダイオードから発する光の色を決定する。様々な色の作製を可能にするために、異なる光路長が、2つの反射面の間になければならない。最新の技術と対照的に、対応して異なる距離をフォトリソグラフィ方法によって、一つのステップのみで発生させることができる。その結果が、エミッタ層（５）およびフォトリソグラフィで形成できる層を有する減衰光共振器を備える有機発光ダイオードである。前記層(4)は、光化学的に硬化可能な材料から成る。本発明による有機発光ダイオードは、光源、照明、センサまたは分光計に使用することができる。 （もっと読む）

【課題】光の取り出し効率の高い発光装置およびそれを備えた表示装置を提供する。
【解決手段】基板２２上に、透明電極２２、有機ＥＬ層２５および反射電極２６を基板２２側から順に有する発光素子２３が設けられている。基板２２の透明電極２４側の表面には、Ｘ軸方向にナノオーダーの規則性を有する立体構造２２Ａが設けられている。透明電極２２、有機ＥＬ層２５および反射電極２６のうち少なくとも透明電極２４には、基板２２とは反対側の表面に立体構造２２Ａに倣った立体構造２４Ａが設けられている。 （もっと読む）

【課題】輸送時における破損を防止することができるガラスフィルムのガラスロール、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】オーバフローダウンドロー法により成形された厚み１μｍ〜５００μｍのガラスフィルム２が梱包緩衝シート３に重ねて巻き取られていることを特徴とする液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに用いられるガラス基板や太陽電池のガラス基板等のデバイスのガラス基板、及び有機ＥＬ照明の基板やそのカバーガラス等に使用されるガラスフィルムのガラスロール１。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の封止性能を損なうことなく狭額縁化を図る構造を提供する。
【解決手段】本発明の有機ＥＬ装置１は、複数の有機ＥＬ素子が形成されてなる素子基板１０と、素子基板１０と対向して設けられ、複数の有機ＥＬ素子の周囲を囲む閉じた枠状のシール材３０を介して素子基板１０と接着された封止基板２０と、を備える有機ＥＬ装置１であって、封止基板２０のシール材３０に囲まれた領域に、封止基板２０を貫通して開口された封止口２１が少なくとも１ヶ所設けられ、封止口２１内が、ガラスフリットを溶融または軟化させて形成された封止部材２２によって塞がれていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】エミッタ電極−コレクタ電極間において、低電圧で大電流変調を可能とするトランジスタ素子を提供する。また、そうしたトランジスタ素子の製造方法、また、そのトランジスタ素子有する発光素子及びディスプレイを提供する。
【解決手段】エミッタ電極３とコレクタ電極２との間に、半導体層５（５Ａ，５Ｂ）とシート状のベース電極４が設けられているトランジスタ素子により、上記課題を解決する。半導体層５は、エミッタ電極３とベース電極４との間及びコレクタ電極２とベース電極４との間に設けられて、それぞれ第２半導体層５Ｂ及び第１半導体層５Ａを構成し、さらに、ベース電極の厚さが８０ｎｍ以下であることが好ましい。また、少なくともエミッタ電極とベース電極との間又はコレクタ電極とベース電極との間には、暗電流抑制層が設けられていてもよい。 （もっと読む）

【課題】欠陥修正後の有機ＥＬ表示装置の信頼性を向上する有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ膜ＯＥＬと、有機ＥＬ膜ＯＥＬの下側に設けられる第１導電膜を構成するアノード電極ＡＤ及び反射電極ＲＡＬと、有機ＥＬ膜ＯＥＬの上側に設けられる第２導電膜を構成するカソード電極ＣＤと、を備える少なくとも１つの有機ＥＬ素子を有機ＥＬ素子基板ＳＵＢ１に形成する有機ＥＬ素子基板形成工程と、有機ＥＬ素子を上側から覆うように熱可塑性を有する封止樹脂ＰＬを設ける樹脂封止工程と、有機ＥＬ素子の欠陥を検出する欠陥検出工程と、前記欠陥検出工程で検出された欠陥に、レーザを照射して解消する欠陥解消工程と、を含むことを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタにおいて、電界効果移動度を向上させることを課題の一とする。また、薄膜トランジスタの電界効果移動度を向上させても、オフ電流の増大を抑制することを課題の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層を用いた薄膜トランジスタにおいて、酸化物半導体層とゲート絶縁層の間に、該酸化物半導体層より導電率が高く、膜厚が薄い半導体層を形成することによって、該薄膜トランジスタの電界効果移動度を向上させ、且つオフ電流の増大を抑制することができる。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率を高めつつ、各色間でのクロストークの発生を抑制することが可能なカラーフィルタおよびその製造方法並びに発光装置を提供する。
【解決手段】封止パネル２０において、カラーフィルタ層２２側の一部が連結してなる複数の突部４１が、カラーフィルタ層２２に接して色ごとに設けられ、各突部４１の側面には、反射鏡膜４２が形成されている。各突部４１へ入射した各色光は、突部４１内を直進あるいは反射鏡膜４２によって反射されて通過したのち、対応するカラーフィルタへ入射する。カラーフィルタ層２２と複数の突部４１との間に接着層や他の基板を介在させる場合に比べ、各突部４１からの出射光が対応するカラーフィルタへ入射し易くなる。 （もっと読む）

【課題】本発明は発光効率よく及びむらなく発光する発光素子を提供する。
【解決手段】本発明の発光素子は、ｐｎ接合するｐ型半導体部及びｎ型半導体部を少なくとも上面に有する基板と、前記基板の上に設けられかつ発光体を内部に有する透光性の絶縁体層と、前記絶縁体層の上に設けられた透光性電極と、前記ｐ型半導体部の表面でありかつ上に前記絶縁体層が設けられていない部分の上に設けられた第１電極と、前記ｎ型半導体部の表面でありかつ上に前記絶縁体層が設けられていない部分の上に設けられた第２電極とを備え、前記基板の上面の前記ｐ型半導体部及び前記ｎ型半導体部がｐｎ接合した部分の上に前記絶縁体層および前記透光性電極がこの順で設けられたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法を採用し、安定した膜厚分布が得られるインライン蒸着装置、有機ＥＬ装置の製造装置、有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のインライン蒸着装置としての有機蒸着部は、減圧可能なチャンバーとしての有機蒸着室１２５と、有機蒸着室１２５内において基板Ｗを所定の搬送方向に搬送する基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃと、基板Ｗの搬送方向に複数の蒸着室１２５ｅとを有し、それぞれの蒸着室１２５ｅにおいて、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの数を３本とするとき、３＋１個の蒸着源１１０を搬送方向に直交する方向において、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの直下を避けた位置に等間隔に設けた。 （もっと読む）