説明

Fターム[3K107FF15]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | パラメータ (13,035) | 形状(長さ、厚さ、面積、角度など) (4,159)

Fターム[3K107FF15]に分類される特許

41 - 60 / 4,159


【課題】品質の低下が抑制された有機ELデバイスを製造し得る有機ELデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた上向き蒸着部及び横向き蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、上向き蒸着工程と、横向き蒸着工程と、方向変換工程と、を備えている有機ELデバイスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子から光を効率よく取り出すことができ、かつエネルギー効率が高い有機EL装置の提供を目的とする。
【解決手段】透明基板10と、透明基板10の一方の面に設けられた有機EL素子20と、有機EL素子20における透明基板10と反対側に設けられた裏側基板30と、を有し、有機EL素子20が、透明基板10側から透明電極層21、正孔注入層22、正孔輸送層23、発光層24、電子輸送層25、電子注入層26及び反射電極層27が順次積層された積層体であり、電子輸送層25の厚みが30〜70nmである有機EL装置1。 (もっと読む)


【課題】 TFT形成時や通常使用時の熱による寸法変化が小さく、且つ、透明性及び信頼性に優れた樹脂−ガラス複合透明基板を得ることが可能な樹脂−ガラス複合透明基板用ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO 60〜80%、Al 0〜10%、B 15〜25%、MgO 0〜10%、CaO 0〜10%、SrO 0〜10%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜10%、LiO 0〜5%、NaO 0〜5%、KO 0〜5%、LiO+NaO+KO 0〜5%、TiO 0〜10%、ZrO 0〜10%を含有し、30〜380℃における線熱膨張係数が40×10−7/℃未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】凸版印刷法により有機発光層を形成してなる有機EL素子であって、第一電極間にある隔壁前後に供給されるインキの流れ込みを防ぎ、隔壁近傍の有機発光層の膜厚と電極中央の有機発光層の膜厚を略同等にすることにより、画素内での発光ムラ並びに混色、画素間での発光ムラの無い高光学特性の有機EL素子の提供を目的とする。
【解決手段】基板上に、第一電極(画素電極)と有機発光体層が順次積層してなる画素が隔壁で区画され、さらに前記有機発光体層側上に前記第一電極と対向するように第二電極を設けた有機エレクトロルミネッセンス素子であって、前記隔壁で区画された画素間の中央部に第二の隔壁を設けることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子である。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化・厚型化を招くことなく表示品質の低下を防止できる表示装置を提供する。
【解決手段】基板11の一方の面11a側に複数の画素部毎に発光部40が設けられる。複数の画素部の位置に対応して基板にマトリックス状に配置され発光部の発光に関する用力が伝達される複数種の配線が設けられる。複数種の配線のうち、少なくとも一種の配線33の少なくとも一部は、基板の他方の面11b側に臨んで設けられる。 (もっと読む)


【課題】照明の輝度が大きく低下することなく、光触媒機能を合わせ持った有機エレクトロルミネッセンス照明装置を提供する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス照明装置の発光面側の最表面に、内部に空隙を有する可視光応答型の光触媒粒子を有し、可視光応答型の光触媒粒子が、酸化チタンに窒素または硫黄がドープされ、または酸化タングステンにパラジウム、白金、銅の少なくとも一種が担持されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス照明装置。 (もっと読む)


【課題】隣接する開口部の内部へ有機半導体インクを塗布した際に、互いのインクの混合を抑制し、高い品質を備える薄膜トランジスタ装置とその製造方法、有機EL表示素子、および有機EL表示装置を提供する。
【解決手段】隔壁1016における開口部1016bを臨む側面部のうち、隣接する開口部1016cの側の側面部1016eは、側面部1016dを含む他の側面部よりも傾斜が相対的に急峻な斜面となっている。隔壁1016における開口部1016cを臨む側面部のうち、隣接する開口部1016bの側の側面部1016fは、側面部1016gを含む他の側面部よりも傾斜が急峻な斜面となっている。開口部1016bと開口部1016cとの各内部に対して、有機半導体インクを塗布した場合、X軸方向に互いに離れる方向に偏った表面プロファイルを有することになる。 (もっと読む)


【課題】長期に亘って均一な輝度特性を維持することができる表示装置及び表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】映像を表示する表示領域を規定する複数の表示画素と、前記複数の表示画素に電流を供給するTFT層と、を含む表示パネルと、該表示パネルを駆動する駆動部と、を備え、前記表示画素は、前記電流に応じて発光する発光層を含む機能層を含み、前記映像を表示するために前記表示パネルを駆動するときに生ずる熱によって、前記表示領域には、第1領域と該第1領域よりも高温の第2領域とを有する温度分布が生じ、前記第2領域に存する前記表示画素の前記機能層は、前記第1領域に存する前記表示画素の前記機能層よりも厚いことを特徴とする表示装置。 (もっと読む)


【課題】光の取り出し効率と共に信頼性が改善された発光モジュールを提供する。また、光の取り出し効率と共に信頼性が改善された発光モジュールの作製方法を提供する。
【解決手段】ガスバリア性を備える素子基板を用いるものであり、当該素子基板の一方の表面の側には発光素子が光学的に接続され、他方の表面の側には拡散反射層が接する構成を有する。なお、当該拡散反射層は拡散反射率が75%以上100%未満である。また、当該発光素子は一対の透光性を有する電極の間に発光性の有機化合物を含む層を備えるものである。そして、当該素子基板は発光素子が発する光を透過し、その屈折率は発光性の有機化合物を含む層との屈折率の差が0.2以下であって、且つその形成温度が当該発光素子の形成温度または拡散反射層の形成温度のいずれよりも高いものである。 (もっと読む)


【課題】品質の低下が抑制された有機ELデバイスを製造し得る有機ELデバイスの製造方法及び製造装置を提供する。
【解決手段】帯状の基材を長手方向に移動させつつ蒸着により該基材に有機EL素子の構成層を形成する有機ELデバイスの製造方法であって、前記基材を長手方向に移動させつつ、該基材の移動方向に沿って設けられた第1及び第2蒸着部にて、前記基材の一面に蒸着源から気化材料を吐出して順次蒸着を行う構成層形成工程を備え、該構成層形成工程は、複数の上向き蒸着工程と、方向変換工程とを備えている有機ELデバイスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】十分な外光が無い場合や外光が強すぎる場合であっても多彩なデザインや情報を視認しやすく、低コストで簡便な発光装置及び発光システムを提供する。
【解決手段】全体として均一色に発光し且つ発光色が可変である面発光パネルを複数有し、前記面発光パネルを組み合わせて発光させることにより発光パターンの形成を制御する発光制御部を備える発光装置であって、前記面発光パネルが透光性構造を有することを特徴とする発光装置。 (もっと読む)


【課題】加熱処理に供されても性能劣化を抑制しうる有機EL素子を提供する。
【解決手段】1対の電極と、前記1対の電極間に形成された発光層と、前記1対の電極の一方と前記発光層との間に形成された電子輸送層と、を有する有機EL素子が開示されている。当該有機EL素子では、前記電子輸送層には、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはこれらの金属塩が含有され、前記電子輸送層の前記発光層側に隣接する位置には、前記電子輸送層の金属イオンの前記発光層への拡散を防止するための拡散防止層が形成され、前記拡散防止層がヘテロ元素を含まない有機化合物から構成されている。 (もっと読む)


【課題】表示装置用部材に有用な、薄膜且つ高偏光性能の偏光膜などを提供する。
【解決手段】波長400〜800nmの範囲に吸収を有し、下記一般式(1)で表されるポリアゾ系色素の少なくとも1種と、重合性スメクチック液晶化合物とを含有する組成物から形成される偏光膜、該偏光膜を備えた液晶表示装置。


[式(1)中、Arは下記に示す基から選ばれる。]


前記重合性スメクチック液晶化合物は、高次のスメクチック相の液晶状態を示す化合物であると好ましい。 (もっと読む)


【課題】UV洗浄を行っても、紫外線硬化樹脂層のダメージがなく、安定した性能を発揮する表示素子用プラスチック基板を提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも片面に、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素及び窒化ケイ素から選ばれた1種以上の材料が用いられ膜厚が10〜300nmである無機化合物層と、アクリルモノマーを主成分とする樹脂からなる膜厚が3.5〜30μmである紫外線硬化樹脂層を該順序で交互に1回以上積層し、さらに最外層として無機化合物層を積層することにより各紫外線硬化樹脂層は上下に無機化合物層が積層された表示素子用プラスチック基板とし、得られた表示素子用プラスチック基板をUV洗浄することにより耐UV性を表示素子用プラスチック基板に付与し、耐UV性を付与した表示素子用プラスチック基板を用いて表示装置を製造する。 (もっと読む)


【課題】成膜対象となる基板の劣化を防止ないしは抑制する。
【解決手段】原料ガスに光を照射することで種を生成し、種を基板2に堆積させることにより膜を成長させる光CVD装置(成膜装置)1であって、光源13と基板2を保持する試料台(基板保持部)14の間に遮光板(遮光部材)20を配置する。遮光板20は、基板2の成膜面2aと対向する裏面20a、裏面20aの反対側に位置する表面20b、裏面20aおよび表面20bのうちの一方から他方までを貫通する複数の貫通孔21を有している。また、遮光板20の裏面20aと基板2の成膜面2aの距離C1は、原料ガスの気体分子の平均自由行程以下である。 (もっと読む)


【課題】耐熱性の低い材料が設けられた基板にも適用可能な、組成物の加熱方法を提供する。また、クラックの発生が抑制された、ガラスパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された組成物に対してレーザ光を照射して、局所的に加熱して焼成する。組成物の中央部と外側部とで照射される期間に差が生じないように、レーザ光を走査すればよい。より具体的には、組成物と重畳するビームスポットの、走査方向の幅が略一定であるようなレーザ光を用いて走査すればよい。 (もっと読む)


【課題】蒸着法にて有機EL層を形成する際に点灯不良を回避することができる有機EL表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板1と、基板1上に配置された第一電極2と、第一電極2上に形成される有機EL層5と、有機EL層5上に形成される第二電極6と、からなる有機EL素子を複数有し、有機EL層5を構成する層のうち少なくとも第一層が蒸着法によって形成される有機EL表示装置の製造方法において、有機EL層5の形成工程に先立って下記(1)及び(2)の工程を行うことを特徴とする、有機EL表示装置の製造方法。
(1)導体でない間隙充填材料からなる層4を第一電極2上に成膜する工程
(2)間隙充填材料からなる層4をエッチングして第一電極2を露出させる工程 (もっと読む)


【課題】有機薄膜太陽電池への使用に適した透明電極基材を提供するとともに、安価で大面積化が容易な透明電極基材の製造方法を提供する。
【解決手段】透明電極基材1は、板状の透明基材2と、前記透明基材2の片側に形成された透明樹脂層3と、前記透明樹脂層3の前記透明基材2とは反対側の面に埋め込まれたパターン電極4と、前記透明樹脂層3および前記パターン電極4の直上に形成された透明な集電電極5とを有し、前記集電電極5の表面15が平坦である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、基材層に粒子を分散させることにより寸法安定性に優れた粒子分散系樹脂シートや光拡散性に優れた粒子分散系樹脂シートを提供すること、および上記粒子分散系樹脂シートを用いた液晶表示装置を提供することを課題とする。
【解決手段】樹脂に無機酸化物が分散された基材層を少なくとも有する粒子分散系樹脂シート。 (もっと読む)


【課題】TFT工程時に高温でもバリア層の特性に変化がなく、基板のストレスを軽減させて工程安定性を高めることができるだけでなく、基板の量産が可能な、新規かつ改良された有機発光装置の製造方法及び有機発光装置を提供する。
【解決手段】有機発光装置の製造方法は、基板10を用意する工程と、基板10上にバリア層20を形成する工程とを含み、バリア層20を形成する工程は、基板10上にバリア層側第1無機膜21を形成する工程と、バリア層側第1無機膜21上にポリイミド形成用モノマーを、熱蒸着法、プラズマ化学気相蒸着または原子層蒸着法を利用して蒸着させた後、熱処理することでポリイミドからなるバリア層側第1有機膜22を形成する工程と、バリア層側第1有機膜22上にバリア層側第2無機膜23を形成する工程と、を含む。 (もっと読む)


41 - 60 / 4,159