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Fターム[3K107FF15]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | パラメータ (13,035) | 形状(長さ、厚さ、面積、角度など) (4,159)

Fターム[3K107FF15]に分類される特許

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【課題】背景からの透過像がボケない透明ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】行列状に配置された第1金属配線111および第2金属配線112と、表示像を表示するための表示素子120と、隣り合う第1金属配線111および第2金属配線112の間の領域に対応する複数の光透過部130とを有するディスプレイパネル101と、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか一方に設けられた第1光学素子141と、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか他方に設けられた第2光学素子142と、を備え、第1光学素子141および第2光学素子142は、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか一方から入射した平行光が、光透過部130において焦点を結び、ディスプレイパネル101の表側および裏側のいずれか他方からから平行光として出射するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】有機電子デバイスにおいて、仕事関数を制御することにより、電極から有機半導体への電荷注入障壁をより小さくすることが可能となる銀ナノ粒子を適用した電極及びそれを用いた有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】平均粒径が30nm以下であり、沸点が100〜250℃の範囲内にある中短鎖アルキルアミンと沸点が100〜250℃の範囲内にある中短鎖アルキルジアミンを主成分とする保護分子により覆われた銀ナノ粒子を有機電子デバイス用電極として用いる。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成及び不純物により薄膜パターンがダメージを受けるのを抑制可能にする。
【解決手段】基板面に接触して設置され、該基板上に一定形状の複数種の薄膜パターンを形成するためのマスク1であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム2と、前記基板上に予め定められた前記複数種の薄膜パターンの形成領域のうち、一の薄膜パターンの形成領域に対応して該一の薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部5を形成した板体で構成され、前記フィルム2を保持する保持部材3と、備え、前記フィルム2は、前記基板上の前記一の薄膜パターンの形成領域に対応して前記保持部材3の前記開口部5内に前記一の薄膜パターンと同形状の開口パターン4を備え、他の薄膜パターンの形成領域に対応して前記基板との接触面側に前記他の薄膜パターンと同形状の凹部6を備えている。 (もっと読む)


【課題】複数の蒸着材料を用いて、所望の有機化合物層を容易に形成することができる発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】第1の基板100は、第1の有機化合物と第2の有機化合物とを含有する第1の層104を有し、第2の有機化合物の蒸着温度は、第1の有機化合物の蒸着温度よりも高く、第1の層において、第1の有機化合物は第2の有機化合物よりも多く含まれており、第2の基板102は、第1の電極を有し、第1の基板100上の第1の層104と、第2の基板102上の第1の電極とを対向させ、第1の層104を、第1の有機化合物の蒸着温度以上第2の有機化合物の蒸着温度未満の温度に加熱し、第1の電極上に第2の層106を形成し、第2の層106上に第2の電極を形成する発光装置の作製方法。 (もっと読む)


【課題】高温・高湿条件下でも高耐久性を維持する楕円偏光板を提供する。
【解決手段】偏光膜と当該偏光膜の片面又は両面に積層された少なくとも1層の位相差補償フィルムとを有する楕円偏光板であって、
(1)前記偏光膜は、当該膜中において偏光性材料が略同一方向に配向しており、
(2)前記偏光性材料は、平均太さ20〜300nmであり平均長さ0.4μm以上である誘電体からなるナノワイヤの表面に、厚さ1〜15nmの金属メッキ層を形成することにより得られる金属メッキナノワイヤである、
ことを特徴とする楕円偏光板。 (もっと読む)


【課題】画素内の平坦性を良好にし、局所的な発光材料への負荷を減らすことにより、より長寿命の有機EL素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係る有機EL素子は、基材と、基材上に形成され、複数の画素の各々に対応する複数の区画を有する第一電極層と、第一電極層の区画の各々の周縁部を覆うように形成される第一隔壁と、第一電極層上に形成され、画素の各々に対応する複数のスルーホールが設けられる絶縁層と、絶縁層上に形成され、スルーホールの各々を介して第一電極層に電気的に接続される第二電極層と、第二電極層上に形成される有機発光媒体層と、有機発光媒体層上に形成される第三電極層と、第三電極層を覆う封止層とを備え、各画素内の第二電極層及び各画素内の有機発光媒体層が凹面形状を有する。 (もっと読む)


【課題】 電気的特性に優れた有機EL素子を比較的安価に製造できる方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、第1有機層及び第2有機層の少なくとも2つの有機層と、前記第1有機層と第2有機層の間に両層の形成材料が混在した混合層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法において、前記第1有機層の形成材料を含む第1蒸着源721と、前記第2有機層の形成材料を含む第2蒸着源722と、を備える蒸着装置7を用い、前記第1蒸着源721から気化された第1有機層の形成材料を基板73の被処理面に衝突させて基板73の被処理面に第1有機層を形成した後、前記第1有機層の形成材料がマイグレーション状態中に、前記第2蒸着源722から気化された第2有機層の形成材料を前記第1有機層へと衝突させて蒸着する。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体膜の被形成面近傍に含まれる不純物の濃度を低減する。また、酸化物半導体膜の結晶性を向上させる。該酸化物半導体膜を用いることにより、安定した電気特性を有する半導体装置を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極を覆い、シリコンを含む酸化物を含むゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜と接し、少なくとも前記ゲート電極と重畳する領域に設けられた酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接続するソース電極およびドレイン電極と、を有し、酸化物半導体膜における、ゲート絶縁膜との界面からの厚さが5nm以下の第1の領域において、シリコンの濃度が1.0原子%以下であり、酸化物半導体膜の第1の領域以外の領域に含まれるシリコンの濃度は、第1の領域に含まれるシリコンの濃度より小さく、少なくとも第1の領域内に、結晶部を含む半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率の最適化を行い光取り出し効率の向上を図るとともに、出射光の出射角度による色度座標の変化を改善する。
【解決手段】光取出しシート7がEL素子101表面に設けられている。光取出しシート7の光偏向要素5として、光透過性の基材8の面8aに、一方向に沿って互いに平行に配列された第一の単位レンズ40と、第一の単位レンズ40と交差する方向に沿って互いが平行に配列された複数の第二の単位レンズ50とを形成した。
第一の単位レンズ40および第二の単位レンズ50は、断面が凸状であり、一方向に連続している。第一の単位レンズ40の連続方向と第二の単位レンズ50の連続方向とは直交している。 (もっと読む)


【課題】厚膜誘電体ac電子発光ディスプレイに使用される蛍光体の動作安定性を改善するために、新規かつ改良された複合厚膜誘電体構造が提供される。
【解決手段】この新規な構造が、複合厚膜誘電体層とこれらのディスプレイの蛍光体層の底部との間に配置された1つ又はそれ以上のアルミニウム酸化物層を含む。 (もっと読む)


【課題】光取り出し効率に優れた光学シート又はその原版として好適な凹凸パターンシート、及びその製造方法、光学シートの製造方法、並びに光学装置を提供する。
【解決手段】一方の面が、下記条件を満たす凹凸構造Xと凹凸構造Yが重畳した凹凸構造Zとされていることを特徴とする凹凸パターンシート。
凹凸構造X:凹凸の最頻ピッチPが2〜200μmであり、前記最頻ピッチPに対する最頻高さHの比Rが0.350〜0.714である1次元又は2次元の凹凸構造。
凹凸構造Y:凹凸の最頻ピッチPが3〜380nmであり、前記最頻ピッチPに対する最頻高さHの比Rが0.5〜10である2次元凹凸構造。 (もっと読む)


【課題】表示不良が抑制され、かつ高精細の有機EL装置の作製を可能にするための有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に有機物化合物層を形成する工程と、前記有機化合物層の上に中間層とレジスト層とを順次形成する工程と、フォトリソグラフィ法を用いて前記レジスト層の一部を除去する工程と、前記レジスト層が除去された領域の前記中間層及び前記有機化合物層をドライエッチングにて選択的に除去する工程と、を有しており、前記中間層が、少なくとも遮光層を含み、前記遮光層が、波長190nm以上360nm以下の光を遮光することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、平坦性に優れた樹脂層付きキャリア基板を用いた、生産性に優れた電子デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ガラス基板と電子デバイス用部材とを含む電子デバイスの製造方法であって、易剥離性を示す表面を有する剥離性補助基板を準備する補助基板準備工程と、剥離性補助基板と、未硬化の硬化性樹脂組成物層と、キャリア基板とをこの順で有する硬化前積層体を形成する第1の積層工程と、硬化前積層体中の未硬化の硬化性樹脂組成物層を硬化する硬化工程と、硬化後積層体から樹脂層付きキャリア基板を分離して得る第1の分離工程と、樹脂層表面上にガラス基板を剥離可能に積層する第2の積層工程と、ガラス基板の表面上に電子デバイス用部材を形成し、電子デバイス用部材付き積層体を得る部材形成工程と、電子デバイス用部材付き積層体から、電子デバイスを分離して得る第2の分離工程と、を備える電子デバイスの製造方法。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体層へ酸素を効率よく供給し、トランジスタ特性を向上することが可能な薄膜トランジスタおよびこれを備えた表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】本技術の薄膜トランジスタは、基板上に設けられたゲート電極と、ゲート電極に対応する位置にチャネル領域を有する酸化物半導体層と、チャネル領域を覆うチャネル保護膜と、チャネル保護膜の両側の酸化物半導体層上に設けられたソース電極およびドレイン電極と、少なくともソース電極およびドレイン電極上に設けられた保護膜と、酸化物半導体層に設けられ、保護膜と同一の構成材料が充填された1または2以上の凹部とを備える。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧を低下でき、また、効率を向上できる有機EL素子及びこれの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の発光層を含む有機EL素子において、複数の発光層の間に無機酸化物層を少なくとも1層以上挿入する。 (もっと読む)


【課題】4色のサブ画素を用いて映像表示を行う際に、高画質化を実現することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置は、各々が、赤(R),緑(G),青(B)の各色に対応する第1〜第3のサブ画素と、第1〜第3のサブ画素よりも高輝度を示す第4のサブ画素とを有する複数の画素を備える。各画素では、第1〜第4のサブ画素が、対向配置された一対の基板間に発光素子を有する。第1〜第3のサブ画素では、一対の基板のうちの一方の基板側に、対応する色光を選択的に透過させるカラーフィルタが設けられ、第4のサブ画素では、発光素子から発せられた光の透過率が、第4のサブ画素の一部または全部の領域において低減するように構成される。カラーフィルタを有する第1〜第3のサブ画素とカラーフィルタを有さない第4のサブ画素との間の透過率差が軽減され、輝度バランスが良好となり、所望の色度を表現し易くなる。 (もっと読む)


【課題】パネルの薄型化を達成するに際して、有機EL素子に機械的なダメージが加わらないようにする。
【解決手段】有機ELパネルは、基板1上に直接又は他の層を介して形成された第1電極2上に成膜された有機層5と、有機層5上に成膜された第2電極6とを備え、発光部を被覆する被覆膜7を備え、封止構造の内面に接触対象が配備され、接触対象は凸状部811を有し、被覆膜7は凸状部811の長さよりも膜厚を厚くする。 (もっと読む)


【課題】発光層から出力された光の一部が画素間に設けられる壁部材に入射することによって生じる取出し光の損失を低減し、かつ明るさの視野角依存性が改善された表示装置を提供する。
【解決手段】基板10と、基板10上にマトリクス状に設けられる複数の画素20と、から構成され、画素20が、発光色が異なる複数種類の副画素(20R,20G,20B)からなり、前記副画素が、第一電極23と、発光層25を含む有機化合物層と、第二電極27と、を有し、基板10上、かつ所定の副画素間に壁部材21が設けられ、画素20が設けられている領域(表示領域)が、壁部材21によって副画素ごと又は1個あるいは複数個の画素ごとに区画される表示装置において、可視光領域における壁部材21の透光性が、第二電極27と同程度あるいは第二電極27よりも高いことを特徴とする、表示装置1。 (もっと読む)


【課題】 フレキシブルで、軽く、安定で高導電性の導電材料およびこれを用いた電気素
子を提供する。
【解決手段】
本発明の導電材料は、少なくとも一つの次元方向が200nm以下であり、かつ炭素原
子の一部が少なくとも窒素原子に置換された単層グラフェン及び多層グラフェンの少なく
とも1種よりなるカーボン材料と、金属の粒子及び線材の少なくとも1種よりなる金属材
料とが、混合及び/又は積層されてなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】シリンダー状の金型をパターン母型として使用して透光性基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂を用いて作成することで、所望のレンズ形状及び強拡散性能を得ることができ、高い表面耐擦傷性能を得ることが可能となる。
【解決手段】凹凸部が活性エネルギー線硬化性樹脂を介して透光性基材表面に凹凸構造が付与された金型40を圧着させ、前記硬化性樹脂を介さない金型40と透光性基材との圧着部における金型40の幅方向接線長L0に対する透光性基材の幅方向接線長L2との接触長さ率Aが0.1≦A≦0.7であり、成形離型補助部42が金型40の表面に付与された箇所と、透光性基材とが接触点を有さず、その接触部と非接触部とが少なくとも1回以上繰り返してなり、透光性基材の法線方向での成形離型補助部42の凹部42aとの距離hが20μm<h<200μmとなるように製造される光学シートの製造方法を提供する。 (もっと読む)


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