【課題】量産性や製造の容易性などの上記問題を解決した上で、ＯＬＥＤを用いた面発光素子の光の取り出し効率を改善するとともに、歩留まりを向上させ、信頼性及び信頼性が高い面発光素子用の基板とその製造方法、この基板を用いた面発光素子、およびこの面発光素子を用いた照明器具やバックライトを提供する。
【解決手段】透明電極と、有機薄膜層と、陰極とが順次積層された面発光素子の基板として用いられる発光素子基板において、透明な支持基板と、支持基板と透明電極との間に配置され、支持基板の屈折率以上の屈折率を有する１または２以上の層からなる高屈折率層とを設け、高屈折率層が、透明電極側から入射した光を散乱させる光散乱部と、透明電極と接する平坦面とを有するようにし、高屈折率層のヘイズ値を５％以下とするか、高屈折率層内に存在する気泡の直径を高屈折率層の厚みの１／１０以下とする。 （もっと読む）

【課題】圧接時の有機ＥＬ素子の損傷を抑制するとともに、圧接及び硬化に要する時間を短縮し、段取り替えが容易な有機ＥＬパネルの製造方法及び有機ＥＬパネルの封止装置を提供することを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬパネルの製造方法は、素子の位置に相対する封止基板の位置に、充填剤、吸湿剤、シール剤、及び固定剤を塗布する塗布工程と、素子基板及び封止基板を位置合わせする位置合わせ工程と、封止基板を加熱する加熱工程と、充填剤などに内包される気体を除く脱泡工程と、一対の定盤により素子基板と封止基板とを圧接する圧接工程と、圧接された素子基板及び封止基板の周囲を大気圧環境にするガス導入工程と、スポット型紫外線ランプにより固定剤に紫外線を照射し、素子基板と封止基板とを仮固定する仮固定工程と、シール剤に紫外線を照射し、シール剤を硬化させるシール硬化工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】電極間におけるリーク・ショートの発生を防ぎつつ構成材料として使用可能な材料の範囲が広範である有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されている第一画素電極及び第二画素電極上に、電荷注入輸送性材料からなる電荷注入輸送層を付き周りの良い形成方法を用いて形成する工程と、電荷注入輸送層上に第一有機ＥＬ層を形成する工程と、第一有機ＥＬ層を加工して、少なくとも第二画素電極上に設けられている第一有機ＥＬ層を除去する工程と、第二画素電極上に設けられている電荷注入輸送層の少なくとも一部を除去する工程と、第二画素電極上に、第二有機ＥＬ層２５を形成する工程と、第一画素２ａと第二画素２ｂとに共通する対向電極２６を形成する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする、有機ＥＬ表示装置１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】凹凸部分を含めて有機ＥＬ素子を的確に下地層によって被覆でき、下地層の上に形成されるバリア層にクラックが入ることを抑制することができるようにする。
【解決手段】熱の印加によって流動性を発現する材料によって下地層７を構成する。このような構成とすれば、熱の印加によって下地層７を流動させることで平坦化でき、隔壁６による凹凸部分などを含めた被覆したい領域の全域を下地層７によって被覆した状態にできる。また、下地層７の形成時に仮に気泡などが混入したり未形成領域ができたりしても、平坦化によって気泡や未形成領域を消失させられる。このため、隔壁６による凹凸部分などにおいても下地層７が応力緩和効果を発揮し、応力集中によってバリア層８にクラックが入ることを抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた低温プロセスで形成する信頼性の高い薄膜トランジスタ、その製造方法、および表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタ１は、基板１００と、前記基板上の一部に設けられたゲート電極１１０と、前記ゲート電極を覆う第１の絶縁膜１２０と、前記第１の絶縁膜を介して前記ゲート電極上に設けられた酸化物半導体膜１３０と、前記酸化物半導体膜上の一部に設けられた第２の絶縁膜１５０と、前記酸化物半導体膜から露出する酸化物半導体膜の一部と接続されたソース電極１４０Ｓおよびドレイン電極１４０Ｄと、を備え、前記酸化物半導体膜はＩｎと、Ｇａと、Ｚｎのうち少なくとも一つの元素を含む酸化物半導体を有し、前記第１の絶縁膜中に含有される水素濃度が５×１０^２０atm/ｃｍ^−３以上であり、かつ、前記第２の絶縁膜中に含有される水素濃度が１０^１９atm/ｃｍ^−３以下である。 （もっと読む）

【課題】発光不良や発光ムラのない有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、当該基板上に形成された対向する一対の電極と、該電極間に設けられ少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、発光媒体層の１層以上が印刷法を用いて形成されており、前記印刷法が、被印刷基板を搬送する移動定盤が印刷版の面方向に進行し、印刷版と被印刷基板との接触面でインキを転移することで印刷を行う印刷方式であり、前記接触面よりも移動定盤の進行方向側に位置し、基板上の印刷された領域が搬送される空間である印刷後基板空間と、前記接触面より移動定盤の進行方向逆側に位置し、基板上の印刷前の領域が搬送される空間である印刷前基板空間の少なくともどちらか一方の雰囲気を、印刷機設置空間とは独立に雰囲気制御して、印刷を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、電気特性の安定した半導体装置を提供する。とくに、酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と接して形成されたソース電極、及びドレイン電極と、を有し、ゲート絶縁膜は、少なくとも酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された酸素放出型の酸化膜と、により構成され、酸素放出型の酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 （もっと読む）

【課題】不良や故障の発生した有機ＥＬ素子を、素子単位で容易に交換する。
【解決手段】有機ＥＬパネル１は、複数の有機ＥＬ素子２と、複数の有機ＥＬ素子２を被覆可能な２つの被覆部材３とを備え、複数の有機ＥＬ素子２が被覆部材３間に挟持され、被覆部材３間が大気圧に対して減圧されている。 （もっと読む）

【課題】本発明の技術的課題は、レーザ封着の際に、ガス成分が放出され難い封着材料層付きガラス基板を創案することにより、有機ＥＬデバイス等の長期信頼性を高めることである。
【解決手段】本発明の封着材料層付きガラス基板は、封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。また、本発明の封着材料は、ガラス粉末を含む封着材料において、真空熱処理されてなると共に、レーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表示領域への装置外部のガスの進入を十分に防止することが可能な表示装置を提供する。
【解決手段】この表示装置は、主面側に素子が配列された第１基板と、この第１基板の素子形成面と対向して配置され、素子を取り囲む領域に凹部を有する第２基板と、凹部を充填し、かつ第１基板と第２基板との間からはみ出ることなく設けられた封止層とを有する。 （もっと読む）

【課題】真空下、可撓性支持体にロール方式で多層薄膜形成を行う生産工程において支持体や成膜面にキズの発生しないガイドロール機構を組み込んだ真空成膜装置、及びこれを用い発光寿命の改善された生産性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】可撓性支持体（ウェブ）を支持し、真空中でウェブの搬送方向を３０度以上、２４０度以下、変更するためのガイドロール機構であって、搬送中、前記可撓性支持体は、ガイドロールの両端部においてのみガイドロールに接触し、かつ、少なくとも接触部分の一部において、可撓性支持体をガイドロール上に押さえる機構を設けたことを特徴とするガイドロール機構。 （もっと読む）

【課題】塗布ムラやノズルの目詰まりが生じない有機エレクトロルミネッセンスインク組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】高分子有機エレクトロルミネッセンス材料が有機溶媒に溶解してなる溶液を、孔径０．０３〜０．１０μｍのフィルターで加圧濾過する。ここで、高分子有機エレクトロルミネッセンス材料の重量平均分子量は１×１０^４〜５×１０^５の範囲であってもよい。また、圧濾過における圧力は５ｋＰａ〜１００ｋＰａの範囲であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ポアの発生を抑制することにより良好な特性を持った有機膜を得る。
【解決手段】図１（ｃ）に示されるように、弾性膜２０は、積層構造１０の間に空隙を形成することなしに密着した状態となる。すなわち、積層構造１０がこの弾性膜（封止層）２０で封止された状態となる（封止層形成工程）。図１（ａ）の状態ではパターニングされた有機膜１２の端部が露出しているが、この端部も弾性膜２０で封止される。次に、図１（ｄ）に示されるように、図１（ｃ）の構成をそのまま冷間静水圧加圧装置５０中に入れ、加圧する（加圧工程）。 （もっと読む）

【課題】各種デバイスを積層するための基材とするためのポリイミドフィルムと支持体との積層体であって、デバイス作製時の高温プロセスにおいても剥がれることなく、しかもポリイミドフィルム上にデバイスを作製した後には容易に支持体からポリイミドフィルムを剥離することができる積層体を提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルム６として、少なくとも支持体１に対向させる面にプラズマ処理が施されたフィルムを用い、支持体１とポリイミドフィルム６とが対向する面の少なくとも一方にカップリング剤を用いて、接着剥離強度は異なり表面粗さは略同一である良好接着部分と易剥離部分とを形成するパターン化処理を施した後、重ね合わせて加圧加熱処理することとし、ポリイミドフィルム６は、７０モル％以上がベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類を主成分とするジアミン類とテトラカルボン酸類との反応によって得られる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯ膜の結晶性を非加熱処理で向上させつつ、キャリア移動度（電子注入）を高める有機ＥＬ素子の製造方法を提供する。
【解決手段】トップエミッション型有機ＥＬ素子の製造方法は、基板４上に第一電極である反射陽極７、有機発光層１２を含む有機薄膜１２、ｎ型ドーパントを含む電子注入性保護膜１３、及び第二電極であるＩＴＯからなる透明電極１４をこの順に形成する工程と、第一電極７、有機薄膜１２、電子注入性保護膜１３、及び第二電極１４を覆うように封止層３０を形成する工程とを備え、電子注入性保護膜１３上に形成されたＩＴＯ膜の面方位２２２におけるＸＲＤ回折ピーク強度はアモルファスＩＴＯ膜のそれより大きい。 （もっと読む）

【課題】一次粒径が１００ｎｍ以下で、凝集がなく、単結晶であり、高結晶性のペロブスカイト型構造を有する蛍光体微粒子、該蛍光体微粒子を比較的低温かつ短時間で、更に環境負荷の極めて低い水媒体中で製造可能な蛍光体微粒子の製造方法、該蛍光体微粒子を用いた蛍光体薄膜及びＥＬデバイスを提供すること。
【解決手段】本発明の蛍光体微粒子は、下記一般式（１）で表されるペロブスカイト型構造を有する蛍光体微粒子であって、一次粒径が大きくとも１００ｎｍ以下で、凝集がなく、単結晶であることを特徴とする。
ＡＢＯ_３：Ｐｒ^３＋ （１）
ただし、前記式（１）において、Ａは、Ｃａ、Ｂａ及びＳｒのいずれかの金属元素若しくはこれらの金属元素うちの少なくとも２つの金属元素の組み合わせを示し、Ｂは、Ｔｉ及びＴｉとＡｌの組み合わせのいずれかを示す。 （もっと読む）

【課題】液滴の塗布量を増大することなく、液滴の充填不良を回避する。
【解決手段】電気光学素子の製造方法は、電気光学素子の構成材料を高沸点溶媒で分散又は溶解させた液滴２６ｂを画素領域４０に塗布する塗布工程と、画素領域４０に塗布された液滴２６ｂを低沸点溶媒の蒸気に曝す蒸気供給工程とを備える。画素領域４０に塗布された液滴２６ｂを低沸点溶媒の蒸気に曝すことによって、液滴２６ｂの部分的又は局所的な濡れ不足を解消することができる。 （もっと読む）

【課題】高い配向度、高い外部量子効率および高い耐久性を満足することができる有機電界発光素子を転写により作製するためのドナーシートを提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも、電荷輸送性化合物を含有する有機層と、ホスト化合物及びアスペクト比が３より大きい発光性化合物を含有する有機層とをこの順に有し、前記少なくとも２層の有機層は転写により同時に転写される層である、有機電界発光素子用ドナーシート。なお、前記発光性化合物のアスペクト比は、前記ホスト化合物として、非液晶性のホスト化合物を使用する際は（分子長／分子厚み）と定義し、液晶性のホスト化合物を使用する際は（分子コア直径／分子コア厚み）と定義する。 （もっと読む）

【課題】粒子状材料を容器から気化ゾーンに効率的に移動させる方法を提供する。
【解決手段】粒子状材料を気化させて表面上に凝縮させることで層を形成する1つの方法では、ある量の粒子状材料を、その粒子状材料が自由に通過できるサイズの開口部を有する第1の容器５０に供給する。その粒子状材料は、開口部を通じてスクリュー構造８０の中に移される。そのスクリュー構造の少なくとも一部を回転させて粒子状材料を第1の容器から供給路６０に沿って気化ゾーンに移し、その気化ゾーンでその粒子状材料の少なくとも1つの成分を気化させて表面に供給することで層を形成する。スクリュー構造のサイズは、粒子状材料が開口部を自由に通過するのが容易になるように選択されている。 （もっと読む）