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Fターム[3K107GG00]の内容

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【課題】電気的特性が向上した、酸化物半導体を用いた半導体装置の作製方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体膜と、酸化物半導体膜と重畳するゲート電極と、酸化物半導体膜と電気的に接続するソース電極およびドレイン電極と、を有する半導体装置の作製方法であって、酸化物半導体膜上に接して、酸化ガリウムを含む第1の絶縁膜を形成し、第1の絶縁膜上に接して第2の絶縁膜を形成し、第2の絶縁膜上にレジストマスクを形成し、第1の絶縁膜および第2の絶縁膜にドライエッチングを行ってコンタクトホールを形成し、レジストマスクを、酸素プラズマによるアッシングを用いて除去し、コンタクトホールを介して、ゲート電極、ソース電極またはドレイン電極のいずれか一または複数と電気的に接続される配線を形成する、半導体装置の作製方法である。 (もっと読む)


【課題】導電性、透明性、フレキシブル性、電流の面均一性に優れ、高い膜強度を持つ透明電極を、電極やフィルム基板を損傷することなく製造する方法を提供する。さらに、該電極を用いた、寿命に優れた有機電子素子を提供する。
【解決手段】透明支持体上に、金属細線を有する導電性金属層と、π共役系導電性高分子とポリアニオンに、さらに水酸基を有する特定の重合単位からなるポリマーを添加し導電性ポリマー層を構成した後、周波数10〜60GHzのマイクロ波を照射し該ポリマー層を選択的に加熱処理することを特徴とする透明電極の製造方法。 (もっと読む)


【課題】閾値電圧のシフトが少なく安定性の向上した酸化物薄膜トランジスタアレイ基板を作製する。
【解決手段】基板上に複数の酸化物薄膜トランジスタを形成する薄膜トランジスタ形成工程と、各酸化物薄膜トランジスタのゲート電極にゲート電圧を印加することによって各酸化物薄膜トランジスタの閾値電圧のシフトを発生させる閾値電圧シフト工程と、ゲート電圧の印加を停止した後、その発生した閾値電圧のシフトを元の閾値電圧に向かって回復させる回復工程とによって作製する。 (もっと読む)


【課題】製造過程で用いられるフォトエッチング工程数を最小化できるように簡素な構造を有する有機発光表示装置を提供する。また、前記有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係る有機発光表示装置は、基板本体と、基板本体上に形成された多結晶アクティブ層および第1キャパシタ電極を含む多結晶シリコン層パターンと、多結晶シリコン層パターン上に形成されたゲート絶縁膜パターンと、ゲート絶縁膜パターン上に形成されたゲート電極および第2キャパシタ電極を含む第1導電膜パターンと、第1導電膜パターン上に形成された層間絶縁膜パターンと、層間絶縁膜パターン上に形成されたソース電極、ドレイン電極、および画素電極を含む第2導電膜パターンとを含む。ゲート絶縁膜パターンは、多結晶シリコン層パターンおよび第1導電膜パターンのうちのいずれか1つと共にパターニングされる。 (もっと読む)


【課題】平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に薄膜トランジスタの半導体層を形成する第1マスク工程と、ゲート絶縁膜をはさんで半導体層上にゲート電極を形成し、半導体層のソース及びドレイン領域にイオン不純物をドーピングする第2マスク工程と、第1導電層、第1絶縁層及び第2導電層を順次に形成し、薄膜トランジスタと離隔された領域に第1導電層、第1絶縁層及び第2導電層をパターニングして、キャパシタを形成する第3マスク工程と、第2絶縁層を形成し、第2絶縁層を貫通してソース及びドレイン領域及び第2導電層を露出させるコンタクトホールを形成する第4マスク工程と、コンタクトホールを通じてソース及びドレイン領域及び第2導電層に接続するソース及びドレイン電極を形成する第5マスク工程と、を含む平板表示装置の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子とカラーフィルターとの合せずれを低減して、高精細かつ色純度の向上した有機EL装置を得る。
【解決手段】基板10上に設けられた複数の発光素子50と、複数の発光素子50を覆い、平面視で各々の発光素子50の少なくとも一部と重なるように設けられた薄膜部28と、薄膜部28を囲む厚膜部26とを有する透明性を有する封止膜22と、厚膜部26と薄膜部28とで構成される凹部30に充填されたカラーフィルター90と、を有することを特徴とする電気光学装置1。 (もっと読む)


【課題】走査線をパターニング後、レジスト剥離の際、剥離液と水で形成されるアルカリによって走査線の断面端部が逆テーパとなることを防止する。
【解決手段】基板100にAl合金層1011とMoCr合金層1012を積層し、MoCr合金層1012にレジスト50を形成し、MoCr合金層1012、Al合金層1011の順にウェットエッチングする。Al合金層1011にはテーパθが形成されている。この状態で、基板100をチャンバー内に投入して窒素プラズマ処理を行うことにより、Al合金層1011の端部側面にはAlN層1013が形成される。Al合金層1011の端部にAlN層1013が形成されているので、レジスト剥離を行う際に、剥離液と水で形成されるアルカリによって、Al合金層1011がサイドエッチされて走査線断面が逆テーパとなることを防止できる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタにおいて、酸化物半導体膜に接し、且つソース電極及びドレイン電極を覆う帯電を防止するための金属酸化膜を形成し、該金属酸化膜を通過して酸素を導入(添加)し、加熱処理を行う。この酸素導入及び加熱工程によって、水素、水分、水酸基又は水素化物などの不純物を酸化物半導体膜より意図的に排除し、酸化物半導体膜を高純度化する。また、金属酸化膜を設けることで、トランジスタにおいて酸化物半導体膜のバックチャネル側に寄生チャネルが発生するのを防止する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、表面平滑性に優れ、薄膜素子の特性劣化を抑制することが可能な薄膜素子用基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、所定の方法で算出した相対溶存酸素飽和率が95%以下となるように、ポリイミド樹脂組成物を脱気する脱気工程と、金属基材上に、上記ポリイミド樹脂組成物を塗布して絶縁層を形成する絶縁層形成工程とを有し、上記絶縁層の表面粗さRaが30nm以下であることを特徴とする薄膜素子用基板の製造方法を提供することにより、上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコン層、その製造方法、多結晶シリコン層を利用した薄膜トランジスタ及び薄膜トランジスタを備えた有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板10上のバッファ層11上に非晶質シリコン層12を形成する工程と、非晶質シリコン層12上に触媒金属層を1011ないし1015原子/cmの密度を有するように形成する工程と、触媒金属層の触媒金属が非晶質シリコン層12に拡散して非晶質シリコン層12とバッファ層11との界面でピラミッド形態の結晶化シードを形成し、結晶化シードによってシリコン結晶が成長して多結晶シリコン層22を形成するように、非晶質シリコン層12を熱処理する工程と、を含むシリコン層の結晶化方法である。 (もっと読む)


【課題】小型軽量、かつ高精細なディスプレイ装置を高信頼性で生産する。
【解決手段】第1FPC12aと第2FPC12bを重畳させて、それぞれの一方の端部をディスプレイパネル基板11に圧着接続する。PCB14と重畳して接続する第1FPC12aと第2FPC12bそれぞれの他方の端部を、第1FPC12aを長く構成して第2FPC12bが被さることなく第1FPC12aとPCB14を圧着接続する。ディスプレイパネル基板11とPCB14を近寄る方向に動かし、第1FPC12aをたわませて、第2FPC12bとPCB14を接続する位置決めを行う。PCB14の先の圧着接続による位置ずれを調整し、第2FPC12bと圧着接続する。ディスプレイパネル基板11の設備間移動による影響をなくし、PCB14と第1,第2FPC12a,12bの圧着接続の負荷をなくして容易にでき、高精細なディスプレイ装置を高信頼性で生産できる。 (もっと読む)


【課題】電子ペーパー等の表示装置に適用した場合に、その消費電力を小さくでき、歩留まりを向上させることができるアクティブマトリクス型駆動基板及びその製造方法等を提供する。
【解決手段】第1絶縁膜2を表面に有する導電基材1上に設けられた薄膜トランジスタ10及び保持容量20と、薄膜トランジスタ10及び保持容量20を第2絶縁膜16,17を介して覆う画素電極30を有し、保持容量20が第1電極21と誘電体膜22と薄膜トランジスタ10のソース・ドレイン電極14,15に接続する第2電極23との積層体であるアクティブマトリクス型駆動基板50であって、導電基材1と第1電極21とが第1絶縁膜2の開口部4で接続されているように構成する。第2絶縁膜(16,17)が少なくとも層間絶縁膜17を有し、導電基材1が金属基材であり、第1絶縁膜2が金属基材1の表面粗さを低減する平坦化膜であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】薄膜トランジスタの閾値電圧を調整する。
【解決手段】薄膜トランジスタの作製に際して、処理室内に半導体材料ガスを導入し、ゲート電極を覆って設けられたゲート絶縁層上に前記処理室内で半導体膜を形成し、前記処理室内の前記半導体材料ガスを排気し、前記処理室内に希ガスを導入し、前記処理室内で前記半導体膜にプラズマ処理を行い、前記半導体膜上に不純物半導体膜を形成し、前記半導体膜と前記不純物半導体膜を島状に加工して半導体積層体を形成し、前記半導体積層体が有する不純物半導体層に接してソース電極及びドレイン電極を形成し、前記半導体膜の形成と前記希ガスプラズマ処理は、好ましくは前記処理室内の圧力及び温度を変化させずに行い、前記処理室内のガス種のみを異ならせる。希ガスとしてはアルゴンが好ましく、前記半導体膜には希ガス元素を2.5×1018cm−3以上含ませることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】防湿性を維持しながら可撓性を向上させ、さらに、生産性も向上させる。
【解決手段】有機発光装置1Aは、可撓性を有する基材2と、基材2上に設けられた有機発光素子4と、有機発光素子4を覆う保護膜5とを備え、保護膜5は、有機発光素子4上に設けられ有機発光素子4を覆う第1の無機層5aと、第1の無機層5a上に設けられ有機ポリマーを含み可撓性を有する可撓層5bと、可撓層5b上に設けられ可撓層5bを覆う第2の無機層5cとを具備している。 (もっと読む)


【課題】チャネル保護層に対するソース、ドレイン電極及び不純物層のアライメントずれが生じた場合であっても、オン電流特性のばらつきを抑制することができる半導体装置及びその製造方法を提供する。また、製品の歩留まりを向上させることができるとともに、良好な画質を有する発光装置、並びに、該発光装置を実装した電子機器を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタTFTの半導体層14上に設けられるチャネル保護層15と、ソース、ドレイン電極18及び不純物半導体層17との間に、カーボン絶縁膜16が設けられている。半導体層14は、例えば非晶質シリコンをレーザーアニール処理することにより結晶化された微結晶シリコンにより形成されている。カーボン絶縁膜16は、このレーザーアニール処理において適用される光熱変換層であり、当該光熱変換層の一部を残したものである。 (もっと読む)


【課題】有機照明装置の製造方法を提供する。
【解決手段】前記方法には、一又は複数の小型フォームファクタの第1製品サイズ基板のハイスループットな一又は複数の第1小型フォームファクタ製造工程を含む。活性層堆積工程を複数の前記第1製品サイズ基板上で実行する。ハイスループットな一又は複数の第2小型フォームファクタ製造工程を、一又は複数の第2製品サイズ基板上で実行する。少なくとも一つの前記第1製品サイズ基板を、少なくとも一つの前記第2製品サイズ基板でカプセル化して前記有機照明装置を形成させる。前記第1製品サイズ基板と前記第2製品サイズ基板は、それぞれ、30cm x 30cm以下の第1所定フォームファクタと第2所定フォームファクタを有し、従って、前記有機照明装置の欠陥を減少させる。 (もっと読む)


【課題】面内の電圧降下を抑制し、均一な明るさを得ると共に、光取り出し効率を向上した高効率の照明装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】有機発光層を含み、第1主面30aと第2主面30bとを有する有機発光部30と、第1主面に設けられた第1電極10と、第2主面に設けられた第2電極20と、第2電極の有機発光部とは反対の側に設けられた光学層40と、を備えた照明装置が提供される。第2電極は、導電層20bと、導電層に電気的に接続され、第1主面に対して平行な第1方向に延在し、導電層よりも導電率が高い第1配線21及び第2配線22と、を有する。光学層は、第1主面に対して垂直な方向から見て、第1配線及び前記第2配線と重なる部分を有する低屈折率部40aと、低屈折率部の前記部分に接触する部分を有し、低屈折率部よりも高い屈折率を有する高屈折率部40bと、を有する。 (もっと読む)


【課題】構造が簡単で、有機発光層に水分または酸素が浸透するのを抑制する、有機発光装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態による有機発光装置は、基板本体、前記基板本体上に形成された透明電極、前記透明電極上に形成された有機発光層、前記有機発光層上に形成されて、金属で形成されたカバー電極、及び前記カバー電極の周縁と重なるように前記基板本体上に形成されて、前記有機発光層の側面をカバーするシーラントを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、アクティブマトリクス型表示装置の製造コストを低減することを課題とし、安価な表示装置を提供することを課題とする。また、本発明の表示装置を表示部に用いた安価な電子装置を提供することを目的とする。
【解決手段】アクティブマトリクス型表示装置の製造コストを低減するために画素部に用いるTFTを全て一導電型TFT(ここではpチャネル型TFTもしくはnチャネル型TFTのいずれか一方を指す)とし、さらに駆動回路もすべて画素部と同じ導電型のTFTで形成することを特徴とする。これにより製造工程を大幅に削減し製造コストを低減することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】導電性及び透明性に優れたパターン電極、および該電極を用いた有機電子デバイスを簡便に提供する。
【解決手段】透明支持体10上に、金属繊維を含有する導電性金属層1を有し、更にπ共役系導電性高分子とポリアニオンを含んで成る導電性ポリマーおよび下記ポリマー(A)を含有する導電性ポリマー層2とを有する透明パターン電極20において、該導電性金属層と該導電性ポリマー層が、パターン像様の積層構造を有することを特徴とする透明パターン電極。
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