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Fターム[3K107GG02]の内容

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蒸着 (1,279)
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Fターム[3K107GG02]に分類される特許

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【課題】遷移金属酸化物をホール注入層に用いたときのデバイスの発光特性を改善する。特に、遷移金属酸化物の電子ブロッキング特性の向上をはかる。
【解決手段】陽極および陰極と、前記陽極および陰極の間に形成された複数の機能層とを具備し、前記機能層は少なくとも1種類の有機半導体からなる発光機能を有した層と、前記陽極と前記発光機能を有した層との間に少なくとも1種類の遷移金属酸化物層からなる電荷注入層を有するエレクトロルミネッセント素子であって、該遷移金属酸化物層の陽極側における金属と酸素の比が化学量論比よりも酸素含有率が小さく、かつ発光機能を有した層側における金属と酸素の比が陽極側よりも大きくなっていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】上部電極を形成する際のホール注入層のダメージを抑制し、高いホール注入効率の確保を実現したトップエミッション構造の有機EL素子を提供する。
【解決手段】基板1上に、少なくとも下部電極2、発光層5を含む有機層(3〜7)、上部透明電極9を備えたトップエミッション有機発光素子の製造方法であって、前記有機層(3〜7)を形成した後、透明な導電性酸化物を形成可能な金属薄層8を積層する工程と、前記上部透明電極9を形成する過程で前記金属薄層8を酸化させる工程とを含んでなるトップエミッション有機発光素子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】真空下、可撓性支持体にロール方式で多層薄膜形成を行う生産工程において支持体や成膜面にキズの発生しないガイドロール機構を組み込んだ真空成膜装置、及びこれを用い発光寿命の改善された生産性の高い有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供することにある。
【解決手段】可撓性支持体(ウェブ)を支持し、真空中でウェブの搬送方向を30度以上、240度以下、変更するためのガイドロール機構であって、搬送中、前記可撓性支持体は、ガイドロールの両端部においてのみガイドロールに接触し、かつ、少なくとも接触部分の一部において、可撓性支持体をガイドロール上に押さえる機構を設けたことを特徴とするガイドロール機構。 (もっと読む)


【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、金属窒化物を含む光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第1の基板を用い、第1の基板の材料層が形成された面と、第2の基板の被成膜面とを対向させ、第1の基板の他方の面側から周波数10MHz以上、パルス幅100fs以上10ns以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第2の基板の被成膜面に成膜する。 (もっと読む)


【課題】水分、酸素および有害成分の透過を防止し、可撓性に優れた傾斜組成封止薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板と、固定層と、傾斜組成層とを含む傾斜組成封止薄膜であって、前記固定層は、前記基板と前記傾斜組成層との間に存在し、かつ、Siを含む有機/無機複合高分子を含む傾斜組成封止薄膜である。基板と傾斜組成層との接着力を向上させて傾斜組成層の成膜条件を有利とすることで、水分および酸素の透過防止特性に優れているだけでなくその他の化学種の拡散に対して高い抵抗性を有している。 (もっと読む)


【課題】容易に製造することができ、また発光特性及び寿命特性が良好な有機EL素子及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】有機EL素子1は、基板6上に、陽極2、正孔注入層7、発光層4、電子注入層5および陰極3がこの順に積層されて構成される。電子注入層5が、モリブデン、タングステン、バナジウム、タンタル、チタン、およびIIb族から成る群から選ばれる1種以上の金属の酸と、カリウム、ルビジウムおよびセシウムから成る群から選ばれる1種以上のアルカリ金属との塩を含む。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子の層形成において、先に形成された層に対しダメージを与えにくい、有機EL素子の製造方法を提供することを課題とするものである。また、層形成過程においてダメージを受けにくい構造を備える有機EL素子を提供することを課題とする。
【解決手段】支持基板上に第一電極層を形成する工程と、前記第一電極層より上層に発光層を形成する工程と、前記発光層より上層に電荷注入層を形成する工程と、前記電荷注入層より上層に、アルミニウム、銀、錫、銅およびこれらの2種以上を含む複合金属材料からなる群より選ばれる材料を含有する金属層を形成する工程と、前記金属層より上層に、透明導電性酸化物、透明導電性窒化物及びこれらの複合材料から選ばれる電極材料を、低ダメージスパッタリング法、イオンプレーティング法、またはCVD法により積層させて前記第二電極層を形成する工程とを経て、有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する。 (もっと読む)


【課題】キャリア輸送層の膜厚むらを低減する。
【解決手段】略長方形状の開口部13aの短手方向に、複数の開口部13aが並んだ凹部の列に沿いノズルNを相対的に移動させて、キャリア輸送層(正孔注入層8b、発光層8c)となる材料が含有される液状体を複数の開口部13aに亘って連続的に塗布することによって、略長方形状の開口部13aの長手方向に複数の開口部13aが並んだ凹部の列に沿いノズルNを相対的に移動させて、その液状体を開口部13aに塗布することに比べて、這い上がりといわれるキャリア輸送層の不均一な成膜を抑えることが可能になり、キャリア輸送層の膜厚をより均一にすることができる。 (もっと読む)


【課題】有機発光層の膜厚むらを低減する。
【解決手段】ELパネル1における有機EL素子8の正孔注入層8bは、バンク13が形成される前に、PEDOT/PSSなどの有機材料が含有される液状体を、基板10の上面側のほぼ全域に塗布しコートすることで形成することができるので、バンク13の開口部13aに液状体を塗布し正孔注入層を形成する手法に比べて這い上がりの影響を低減することができ、その正孔注入層8bに機能層8iと発光層8cを積層してなる有機発光層の膜厚むらを低減することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】正孔輸送層の膜厚方向に対して組成比勾配を有する無機化合物を用いることにより、正孔注入を効率的に行うことができ、プロセスの簡略化及び高効率な有機電界発光表示装置及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、基板上に形成された第一電極と、第一電極上に形成された無機化合物である正孔輸送層と有機発光層とを含む複数の層を有する有機発光媒体層と、有機発光媒体層上に形成された第二電極と、を備え、正孔輸送層は膜厚方向に対して組成比勾配を有することを特徴とする有機電界発光表示装置。 (もっと読む)


【課題】光照射による成膜を行う場合において、所望の材料のみが成膜されることを可能にし、材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させると共に、均一性の高い膜を成膜することが可能な成膜用基板を提供する。
【解決手段】成膜の際に成膜用基板に照射されるレーザ光の波長にあわせて、同一基板上の所望の位置にレーザ光が選択的に照射されるよう制御することができる成膜用基板である。具体的には、成膜の際にレーザ光を照射した場合に、レーザ光を反射する領域と吸収する領域とが形成されている成膜用基板である。 (もっと読む)


本発明は、基板をコーティングするための方法、その方法を実行するためのコーティング装置、およびコーティング装置のための取扱いモジュールに関する。取扱いモジュールは、コーティングすべき基板のための可動サポート(13)であって、少なくとも2つの位置の間を移動させることができる可動サポート(13)を備えている。さらに、マスクを基板に取り付けるため、およびマスクを基板から取り外すための少なくともいずれかのためのマスク配置デバイス(415)、およびマスクを基板に対して整列させるためのマスク整列デバイスが提供され、マスク整列デバイスは、サポートと共に移動できるように可動サポート(13)に取り付けられる。別法としては、取扱いモジュールは、真空チャンバと、コーティングすべき基板のための可動サポート(13)であって、真空チャンバ内に配置され、かつ、少なくとも2つの位置の間で回転できる可動サポート(13)とを備えており、マスクを基板に取り付けるため、およびマスクを基板から取り外すための少なくともいずれかのためのマスク配置デバイス(415)が、取扱いモジュールの真空チャンバ内に配置されている。
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【課題】発光特性を発光色に応じて最適化可能な有機EL素子の製造方法、この製造方法を用いて製造された有機EL素子を備えた有機ELディスプレイを提供すること。
【解決手段】本適用例の有機EL素子の製造方法は、素子基板1上に複数の画素電極としての陽極31を形成する画素電極形成工程と、複数の陽極31をプラズマガスに曝すプラズマ処理工程と、プラズマ処理が施された複数の陽極31上に発光層を含む機能層32R,32G,32Bを形成する機能層形成工程と、機能層32R,32G,32Bを覆うように共通電極としての陰極34を形成する共通電極形成工程と、を備え、プラズマ処理工程は、複数の陽極31のうち、少なくとも1色の発光色に対応する陽極31に対して他の陽極31をマスクしてプラズマガスに曝すことにより、当該陽極31のプラズマ処理条件が他の陽極31に対して異なるようにプラズマ処理する工程を含む。 (もっと読む)


構成素子をカプセリングするバリア層を有する電子構成素子を作製する本発明の方法には殊に以下のステップが含まれる。すなわち、− 少なくとも1つの機能層(22)を有する基板(1)を準備するステップと、− プラズマレス原子堆積法(PLALD)を用いて上記の機能層(22)に少なくとも1つの第1バリア層(3)を被着するステップと、− プラズマ支援化学気相成長(PECVD)を用いて前記の機能層(22)に少なくとも1つの第2バリア層(4)を被着するステップとを有する。
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【課題】有機膜にダメージを与えずに、かつ簡便にフォトマスクと基板との位置ズレが検査できる有機EL装置の製造方法、有機EL装置の検査方法を提供する。
【解決手段】有機EL装置11の製造方法は、まず、基板上にフォトマスクを配置する。次に、フォトマスクを介して、画素領域51及び画素領域51の外側の領域にある検査領域52にRの発光層材料42aを蒸着する。検査領域52の第1検査部分53には、フォトマスクと基板との位置関係に相当する位置に、Rの発光層材料42aが蒸着する。その後、Rの発光層材料42aの位置ズレを検査する。具体的には、第1検査部分53に紫外線を照射して蒸着パターンを励起させる。そして、蛍光顕微鏡によって、フォトルミネッセンス光を観察し、Rの発光層材料42aの位置ズレを検査する。 (もっと読む)


【課題】ディスプレイ作製の基礎となる赤色の発色が可能な、酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜を提供すること。
【解決手段】アルミニウム元素をペロブスカイトに置換した多結晶ターゲット材料としてパルスレーザー堆積法によって、600℃以上800℃以下の温度でエピタキシャル成長により基板上に薄膜が形成されたことを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜であり、前記多結晶ターゲット材料が、(Sr1-xPrx)(Ti1-yAly)O3 :0≦x≦0.1、0≦y≦0.2であり、赤色蛍光を得ることを特徴とする酸化物蛍光体エピタキシャル薄膜である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、コンタクト電極層と第2電極層との電気的接続を安定にすることが可能な有機ELディスプレイ及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第1電極層13と、第1電極層13と間を空けて併設されるコンタクト電極層11と、コンタクト電極層11の直上に形成される導電層18と、第1電極層13上から導電層18上にかけて形成され、且つ第1電極層13の一部と導電層18の一部を露出するとともに、導電層18との間に隙間Gを有する絶縁物17と、露出する第1電極層13上から露出する導電層18上にかけて形成され、且つ一部が隙間Gに充填される電荷注入層14と、第1電極層13の直上に位置する電荷注入層14上に形成される有機発光層15と、有機発光層15上から導電層18の直上に位置する電荷注入層14上にかけて形成される第2電極層16と、を備えたことを特徴とする有機ELディスプレイ1。 (もっと読む)


【課題】ロールオフの小さい有機レーザーアレイを提供することであって、2層の有機EL層が並列接続される単位素子構成を有するパッシブマトリクス型有機レーザーアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも反射電極、第1の色の光を発する第1有機EL層、第1透明電極、第1の色と同じ第2の色の光を発する第2有機EL層および第2透明電極をこの順に備える有機レーザーアレイの製造方法であって、(1)反射電極と第1有機EL層とを備える第1有機発光基板を用意する工程と、(2)第2透明電極と第2有機EL層とを備える第2有機発光基板を用意する工程と、(3)第1透明電極を両面に備える中間電極基板を用意する工程と、(4)第1有機EL層と第2有機EL層がそれぞれ第1透明電極に面するように、中間電極基板を第1有機発光基板と第2有機発光基板の間に配置する工程と、を有する有機レーザーアレイの製造方法である。 (もっと読む)


本発明の多層封止膜は、一つ以上の平坦化有機薄膜層、一つ以上のコンフォーマル有機薄膜層および一つ以上の無機薄膜層を含んでなる。前記薄膜層は、(a)平坦化有機薄膜層/無機薄膜層/コンフォーマル有機薄膜層/無機薄膜層、(b)コンフォーマル有機薄膜層/無機薄膜層/平坦化有機薄膜層/無機薄膜層、(c)平坦化有機薄膜層/コンフォーマル有機薄膜層/無機薄膜層、または(d)コンフォーマル有機薄膜層/平坦化有機薄膜層/無機薄膜層の順序で積層される。本発明の多層封止膜は、平坦化有機薄膜層によって表面粗さを向上させることができ、コンフォーマル有機薄膜層によってパーティクルに対する均一なカバーリングを実現することができる。 (もっと読む)


【課題】転写回数を削減することができるドナー基板およびこれを用いた有機発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ドナー基板40に隔壁42を設ける。隔壁42で分割された領域ごとに異なる色の発光材料を含む赤色転写層50R,緑色転写層50Gおよび青色転写層50Bを形成し、一回の転写で被転写基板にR,G,Bすべての発光層を形成する。隔壁42により分割された領域の幅をWd、被転写基板11上の発光領域13Cの幅をWsとすると、Wd>Wsを満たすことにより、赤色転写層50R,緑色転写層50Gおよび青色転写層50Bの膜厚が均一な部分のみを転写する。更に、光熱変換層43の幅をWtとすると、Ws<Wt<Wdを満たすようにすれば、より好ましい。ドナー基板40の全面にレーザ光LBを照射することができる。 (もっと読む)


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