【課題】本発明者らは、前面に発光できる有機発光素子において、素子の発光層から出る光に対して透過度（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ）が８０％以上である上部電極を使う場合であっても、上部電極と空気層との間の屈折率の差によってｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ ｅｆｆｅｃｔを示すことができ、この場合、上部電極上にさらに層を形成して光路長を調節することができるという事実を明らかにした。このような方法により、従来技術に比べて遥かに容易に光路長を調節して、発光効率に優れた有機発光素子を提供することができる。
【解決手段】前記目的を達成するために、本発明は、下部電極、発光層をはじめとする１層以上の有機物層、および上部電極を含む有機発光素子であって、赤色、緑色および青色が各々透過する領域のうちの少なくとも一つの領域の前記上部電極上に屈折率が１．３〜３である層がさらに備えられることを特徴とする有機発光素子を提供する。 （もっと読む）

【課題】透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程を行う。 （もっと読む）

【課題】成膜対象となる基板の劣化を防止ないしは抑制する。
【解決手段】原料ガスに光を照射することで種を生成し、種を基板２に堆積させることにより膜を成長させる光ＣＶＤ装置（成膜装置）１であって、光源１３と基板２を保持する試料台（基板保持部）１４の間に遮光板（遮光部材）２０を配置する。遮光板２０は、基板２の成膜面２ａと対向する裏面２０ａ、裏面２０ａの反対側に位置する表面２０ｂ、裏面２０ａおよび表面２０ｂのうちの一方から他方までを貫通する複数の貫通孔２１を有している。また、遮光板２０の裏面２０ａと基板２の成膜面２ａの距離Ｃ１は、原料ガスの気体分子の平均自由行程以下である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の発光部位への水分等の進入を防止可能な有機ＥＬ装置及びその製造方法を開発する。
【解決手段】基板上に有機ＥＬ素子を形成する有機ＥＬ素子形成工程を行い、その後、前記有機ＥＬ素子形成工程で形成された有機ＥＬ素子上に堆積層によって封止し、その際に、有機ＥＬ素子上に異物が混入した場合の有機ＥＬ装置において、堆積層の成膜時において、休止時間を空けて複数回、堆積層を積層することで堆積層内に不連続界面を形成し、有機ＥＬ素子に到達するような空隙の発生を抑制する。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイス、特に有機ＥＬパネルの本来の性能を低下させることなく、パネル表示エリアの異物影響を最小限にできるように、また、外周部にバリア性を向上させる条件でパッシベーション膜を成膜することにより、信頼性の高い有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】基板２１と、第一電極層２２と、有機発光媒体層２３と、第二電極層２４を備えた有機ＥＬパネル２０を製造する有機ＥＬパネルの製造方法であって、密度が１．６ｇ／ｃｍ^３以上２．０ｇ／ｃｍ^３以下の範囲内である被覆性層を、第二電極層２４上における発光表示エリア部上の領域に形成する被覆性層形成工程と、被覆性層形成工程の後工程であり、密度が２．３ｇ／ｃｍ^３以上２．６ｇ／ｃｍ^３以下の範囲内であるバリア層を、発光表示エリア外周部上の領域において被覆性層の端部を覆うように形成するバリア層形成工程を有する。 （もっと読む）

【課題】波長変換構造及びその製造方法並びに該波長変換構造を含む発光装置を提供する。
【解決手段】波長変換構造は、第一領域と第二領域とを含む蛍光粉層であって、前記第二領域は前記第一領域の上に位置し、且つ前記第一領域及び前記第二領域は隙間をそれぞれ有する蛍光粉層と、前記蛍光粉層の前記第一領域の隙間に形成される第一材料層と、前記蛍光粉層の前記第二領域の隙間に形成される第二材料層とを含む。 （もっと読む）

【課題】耐熱性無機基板上に塗布法で形成された高い仕事関数を有する有機ＥＬ用透明導電性基材とその製造方法、有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】基板１上に、主成分として有機インジウム化合物、または有機インジウム化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液、あるいは、主成分として有機錫化合物、または有機錫化合物とドーパント用有機金属化合物を含有する透明導電膜形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜を乾燥して乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を無機化して、酸化インジウム、またはドーパント金属酸化物を含む酸化インジウムである導電性酸化物を主成分とする無機膜、あるいは酸化錫、またはドーパント金属酸化物を含む酸化錫を主成分とする無機膜を形成する無機化工程の各工程からなる塗布法により透明導電膜３を形成する有機ＥＬ用透明導電性基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】気相蒸着装置、気相蒸着方法及び有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着工程を効率的に進めることができ、蒸着膜特性を容易に向上させる、基板に薄膜を蒸着するための気相蒸着装置に係り、排気口を具備するチャンバ、チャンバ内に配置され、基板を装着するように装着面を具備するステージ、基板の薄膜が形成される平面方向と平行にガスを注入する少なくとも一つ以上の注入ホールを具備する注入部、及び基板と対向し、基板と離隔するように配置されるプラズマ発生部を含む気相蒸着装置、気相蒸着方法及び有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、このような透明繊維複合樹脂シート上に、従前よりも緻密な無機質膜を形成し、ガスバリア性に優れる透明繊維複合樹脂層含有多層シートを製造することができる方法を提供することにある。
【解決手段】本発明に係る透明繊維複合樹脂層含有多層シート製造方法では、透明繊維複合樹脂シート又は透明繊維複合樹脂層含有多層シートが加熱されながら透明繊維複合樹脂シートまたは透明繊維複合樹脂層含有多層シートの少なくとも片面上に透明無機質膜が成形される。なお、加熱は、透明繊維複合樹脂シート又は透明繊維複合樹脂層含有多層シートの温度が１５０度Ｃ以上「樹脂成分の劣化温度」以下の温度になるようになされるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】有機電界発光素子における表示領域を保護する保護膜の薄膜化を図るとともに低屈折率化を図り、効率向上および寿命向上を図ること。
【解決手段】本発明は、発生した光を共振させる共振器構造の表示領域２０と、表示領域２０を覆う状態で形成される保護膜１７と、保護膜１７の上に形成される樹脂層１８と、樹脂層１８によって貼り付けられる封止層１９とを備える表示装置であり、保護膜１７が窒化シリコンの単層で構成され、波長４５０ｎｍでの屈折率が１．６５以上、１．７５以下となっているものである。 （もっと読む）

【課題】構造が簡素でかつ低コストの白色発光素子を提供する。
【解決手段】基板はＳｉ（１００）もしくはＧａＡｓ（１００）面を使用し、その上に水素化窒化炭素薄膜をスパッタ装置およびプラズマＣＶＤ装置によって２層もしくは多層成長し、膜厚増加方向に窒素含有量が増加するように成長させる。窒素含有量が増加するとバンドギャップが広がるので、バンドギャップの狭い下部の水素化窒化炭素からも吸収することなく白色発光を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子を有するデバイスにおいて、有機ＥＬ層からの光取出し効率を劣化させることなく、水分バリア性および平坦化性が高い封止膜、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板の主面側から順に形成されたアノード電極１０３、有機ＥＬ層１０５およびカソード電極１０６と、当該発光層を覆うように基板上に設けられた封止膜とを有するデバイスにおいて、封止膜は平坦化膜であるバッファ膜１０８、１１０、１１２と、水分バリア性が高いバリア膜１０９、１１１とを交互に積層した積層膜を含み、平坦化膜およびバリア膜は酸窒化シリコン膜を含むものとする。また、デバイスの製造工程では、真空紫外光を用いた光ＣＶＤ法により酸窒化シリコンを含むバッファ膜１０８を形成し、この工程では真空紫外光の照射中にリモートプラズマによるラジカル照射を行う。 （もっと読む）

【課題】有機電子デバイス、特に有機エレクトロルミネッセンスパネルの本来の性能を低下させることなく、製造工程で混入した異物に対し段差被覆性、水蒸気透過率、成膜速度を向上させる条件でパッシベーション膜を成膜することにより、成膜時間を短縮し、かつ信頼性の高い有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供する。
【解決手段】少なくとも第一電極、有機発光層を含む有機発光媒体層、第二電極、パッシベーション層を基板上に備えた有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記パッシベーション層は３層以上から構成され、パッシベーション層最下層の被覆率が６０％以上かつ水蒸気透過率が０．０５ｇ／ｍ２／ｄａｙ、パッシベーション層中段層の被覆率が７０％以上、パッシベーション層最上層の水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、各層それぞれが異なる開口のマスクでパターニング成膜されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板の温度が１００℃以下の低温環境下において、基板上にシリコン窒化膜を適切に成膜し、当該シリコン窒化膜の膜特性を向上させる。
【解決手段】ガラス基板Ｇ上にアノード層２０、発光層２１、カソード層２２、シリコン窒化膜２３を順次成膜して、有機ＥＬデバイスＡを製造する。シリコン窒化膜２３は、プラズマ成膜装置の処理容器内にシランガス、窒素ガス及び水素ガスを含む処理ガスを供給し、処理容器内の基板の温度を１００℃以下に維持し、且つ処理容器内の圧力を２０Ｐａ〜６０Ｐａに維持した状態で、処理ガスを励起させてプラズマを生成し、当該プラズマによるプラズマ処理を行って成膜される。 （もっと読む）

【課題】処理ガスを大量に活性化させ、かつ失活させずに供給することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板Ｗを支持する基板支持体３と、触媒板５と、触媒板５に接触させて活性化させる第１処理ガスを供給する第１処理ガス供給部７０aと、触媒板５を誘導加熱する誘導加熱コイル６とを備え、基板支持体３は、触媒板５の一面側に配され、誘導加熱コイル６は、触媒板５の他面側に配され、触媒板５は、処理室１を、誘導加熱コイル６側の第１空間及び基板支持体３側の第２空間に隔てる。 （もっと読む）

【課題】防湿性の向上を図り、光取り出し効率と信頼性に優れた有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】反射性電極２と半透明性電極７との間に、発光層４を含む有機化合物層を配置し、さらに、半透明性電極７の光出射側に、蒸着膜であるバッファ層８と、バッファ層８に接し、ＣＶＤ法で形成され、バッファ層８と屈折率が異なる第１の無機保護層９と、第１の無機保護層９に接して、ＣＶＤ法で形成され、第１の無機保護層９と屈折率が異なる第２の無機保護層１０と、が順次積層されている。 （もっと読む）

【課題】プラスチックフィルムの表面粗さに左右されることなく、所望の水蒸気バリア性を確保できるバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】上記バリアフィルムは、プラスチックフィルムで形成された基材１１と、基材１１の上に形成された紫外線硬化樹脂からなる下地層１２と、下地層１２の上にスパッタ法で形成されたＳｉ−Ｃｒ−Ｚｒ系酸化物からなるバリア層１３とを具備する。下地層１２は、基材１１の表面平坦度の改善を目的として形成され、バリア層１３による基材表面の被覆性を高める。これにより、バリア層１３の膜質が高まり、所望の水蒸気バリア性を確保することができる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性及び光学特性のいずれにも優れる光学基材の提供。
【解決手段】エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物との共重合体を含む基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層が積層されたことを特徴とする光学基材；エチレン及び直鎖状α−オレフィンからなる群より選ばれる１種以上と、環状オレフィンと、ビニル化合物とを共重合させ、得られた基材の片面又は両面に、少なくとも１層のガスバリア層を積層することを特徴とする光学基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能な積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明の積層フィルムは、基材と、前記基材の少なくとも片方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層のうちの少なくとも１層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、該薄膜層の膜厚方向における該薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する炭素原子の量の比率との関係を示す炭素分布曲線において、（ｉ) 前記炭素分布曲線が極大値と極小値を有すること、（ｉｉ) 前記炭素分布曲線の極大値が５ａｔ％以下であること、（ｉｉｉ) 前記炭素分布曲線において少なくとも１つの１ａｔ％以上の極大値があることを全て満たすことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】十分なガスバリア性を有しており、しかもフィルムを屈曲させた場合においてもガスバリア性の低下を十分に抑制することが可能であり、かつ反りが軽減された積層フィルムを提供すること。
【解決手段】基材と、前記基材の両方の表面上に形成された少なくとも１層の薄膜層とを備える積層フィルムであって、前記薄膜層が珪素、酸素及び炭素を含有しており、且つ、前記薄膜層の膜厚方向における前記薄膜層の表面からの距離と、珪素原子、酸素原子及び炭素原子の合計量に対する珪素の原子比、酸素の原子比及び炭素の原子比との関係をそれぞれ示す珪素分布曲線、酸素分布曲線及び炭素分布曲線が特定の条件を満たすことを特徴とする積層フィルム。 （もっと読む）