【課題】透明導電性酸化物膜の表面の表面最大粗さ（Ｒｐｖ）が小さな透明導電性酸化物膜付基板を好適に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】基板の上に透明導電性酸化物膜を形成する。研磨剤を含まない酸性溶液またはアルカリ性溶液を透明導電性酸化物膜の表面に供給しながら擦る処理工程を行う。 （もっと読む）

【課題】凹凸部分を含めて有機ＥＬ素子を的確に下地層によって被覆でき、下地層の上に形成されるバリア層にクラックが入ることを抑制することができるようにする。
【解決手段】熱の印加によって流動性を発現する材料によって下地層７を構成する。このような構成とすれば、熱の印加によって下地層７を流動させることで平坦化でき、隔壁６による凹凸部分などを含めた被覆したい領域の全域を下地層７によって被覆した状態にできる。また、下地層７の形成時に仮に気泡などが混入したり未形成領域ができたりしても、平坦化によって気泡や未形成領域を消失させられる。このため、隔壁６による凹凸部分などにおいても下地層７が応力緩和効果を発揮し、応力集中によってバリア層８にクラックが入ることを抑制することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】電極間におけるリーク・ショートの発生を防ぎつつ構成材料として使用可能な材料の範囲が広範である有機ＥＬ表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されている第一画素電極及び第二画素電極上に、電荷注入輸送性材料からなる電荷注入輸送層を付き周りの良い形成方法を用いて形成する工程と、電荷注入輸送層上に第一有機ＥＬ層を形成する工程と、第一有機ＥＬ層を加工して、少なくとも第二画素電極上に設けられている第一有機ＥＬ層を除去する工程と、第二画素電極上に設けられている電荷注入輸送層の少なくとも一部を除去する工程と、第二画素電極上に、第二有機ＥＬ層２５を形成する工程と、第一画素２ａと第二画素２ｂとに共通する対向電極２６を形成する工程と、を少なくとも含むことを特徴とする、有機ＥＬ表示装置１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】アクチュエータを設けることなく、基板を確実に保持できる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダー９１と、基板搬送機から基板６を受取るための基板受けピン６６と、基板ホルダー昇降機構６８と、基板ホルダー９１の端部に設けられ、基板クランプ６１とクランプ支持金具６２とクランプ付勢バネからなる基板保持機構と、基板６を基板クランプ６１から解放するためのクランプ開閉ピン６７とを備え、クランプ支持金具６２は縦方向に回転し第１の腕６２ａ
と第２の腕６２ｃを有し、第１の腕６２ａの端には基板クランプ６１の一端が固定され、第２の腕６２ｃの端には縦方向に回転する回転部が設けられ、基板クランプ６１が基板６を基板ホルダー９１に押圧するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】厚さが均一なコーティングを得る方法を提供すること。
【解決手段】材料を気化させて基板の表面に膜を形成する方法は、所定量の材料を気化装置の中に供給し、その気化装置の中にあるその材料を第1の温度状態に加熱し、その材料の一部に作用する熱パルスを印加してその材料のその部分を気化させることにより基板の表面に付着させる操作を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】発光効率が高くて、青色純度が優れており、駆動劣化に伴う色度変化が小さい有機電界発光素子の提供。
【解決手段】基板と、該基板上に配置され、陽極及び陰極からなる一対の電極と、該電極間に配置され、発光層を含む少なくとも一層の有機層とを有し、前記有機層の少なくとも一層に一般式（１）で表される化合物を含む有機電界発光素子（式中、２つのＸは同じ連結基であり、共にＯ原子または共にＳ原子を表し、Ｒ¹〜Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、複数のＲ¹〜Ｒ¹⁰で共同して環を形成してもよい。但し、２つのＸが共にＳ原子の場合、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち少なくとも１つは置換基を表す）。
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【課題】基板とマスクとの隙間を高精度に制御することのできる有機ＥＬデバイス製造装置を提供する。
【解決手段】真空処理室内に設けられたシャドウマスクと、基板を載置する基板ホルダーと、基板とシャドウマスクとの間を、接近させ又は離間させる基板密着手段と、基板ホルダーの四隅に設けられた距離計測機構とを備え、距離計測機構は、基板ホルダーを貫通するように設けられた距離計測用空間と、基板ホルダーの表面上に設けられた透明ガラス板と、距離計測用空間に配置された距離計測部とを備え、距離計測部は、光を発射し反射光を受光して距離を計測する距離計と、距離計を真空処理室内の雰囲気から隔離する距離計筐体と、距離計筐体の一部に設けられた透明ガラス窓とを備え、距離計が、透明ガラス窓を介して透明ガラス板とシャドウマスクとの間の距離を計測するよう、有機ＥＬデバイス製造装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板２上に一定形状の薄膜パターン４を成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、箔状の磁性部材５に薄膜パターン形成領域９に対応して該薄膜パターン４と同形状の貫通する開口パターン６を形成し、磁性部材５が磁力により第１の磁気チャック３の平坦な吸着面３ａに吸着されて保持されたマスク１の開口パターン６を、第２の磁気チャック８上に載置された基板２の薄膜パターン形成領域９に位置合わせするステップと、第２の磁気チャック８の磁力により磁性部材５を吸着してマスク１を第１の磁気チャック３から基板２上に移すステップと、マスク１の開口パターン６を介して基板２上の薄膜パターン形成領域９に成膜し、薄膜パターン４を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板９上に一定形状の薄膜パターンを成膜形成する薄膜パターン形成方法であって、可視光を透過し一面に磁性体膜１を被着したフィルム２に薄膜パターン形成領域１１に対応して薄膜パターン１２と同形状の貫通する開口パターン３を形成し、磁性体膜１側を第１の磁気チャック６の平坦面に吸着して保持されたマスク４の開口パターン３を、第２の磁気チャック１０上に載置された基板９の薄膜パターン形成領域１１に位置合わせするステップと、第２の磁気チャックにより磁性体膜１を吸着してマスク４を第１の磁気チャック６から基板９上に移すステップと、マスク４の開口パターン３を介して基板９上の薄膜パターン形成領域１１に成膜し、薄膜パターン１２を形成するステップと、を行うものである。 （もっと読む）

【課題】信頼性の高い発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上に設けられる発光領域２０と、基板１０上であって、発光領域２０の外縁に設けられる非発光領域３０と、から構成され、発光領域２０には、複数の発光画素２１が周期的に配列され、発光画素２１が、発光色が異なる複数種類の発光副画素を有し、前記発光副画素が、第一電極２３と、有機化合物層２４と、第二電極２５と、をこの順に有し、非発光領域３０には、複数の非発光副画素３２を有する非発光画素３１が複数配列され、前記発光副画素及び非発光副画素３２が、それぞれ素子分離膜１５によって区画され、非発光領域３０のうち、発光領域２０の行方向の外縁に設けられる非発光領域には、当該領域に含まれる非発光画素を区画するスペーサ１６が設けられる。 （もっと読む）

【課題】隣接する画素間のリーク電流を低減することの可能な表示パネル、表示装置および電子機器を提供する。
【解決手段】表示パネルは、表示領域に複数の画素を備えている。各画素は、有機ＥＬ素子と、有機ＥＬ素子を駆動する画素回路とを有している。有機ＥＬ素子は、アノード電極と、カソード電極と、アノード電極とカソード電極との間に設けられた有機層とを有している。アノード電極の側面は、当該アノード電極のカソード電極側の断面積が当該アノード電極のカソード電極とは反対側の断面積よりも大きくなるような構造となっている。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成及び不純物により薄膜パターンがダメージを受けるのを抑制可能にする。
【解決手段】基板面に接触して設置され、該基板上に一定形状の複数種の薄膜パターンを形成するためのマスク１であって、可視光を透過する樹脂製のフィルム２と、前記基板上に予め定められた前記複数種の薄膜パターンの形成領域のうち、一の薄膜パターンの形成領域に対応して該一の薄膜パターンよりも形状の大きい貫通する開口部５を形成した板体で構成され、前記フィルム２を保持する保持部材３と、備え、前記フィルム２は、前記基板上の前記一の薄膜パターンの形成領域に対応して前記保持部材３の前記開口部５内に前記一の薄膜パターンと同形状の開口パターン４を備え、他の薄膜パターンの形成領域に対応して前記基板との接触面側に前記他の薄膜パターンと同形状の凹部６を備えている。 （もっと読む）

【課題】 電気的特性に優れた有機ＥＬ素子を比較的安価に製造できる方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、第１有機層及び第２有機層の少なくとも２つの有機層と、前記第１有機層と第２有機層の間に両層の形成材料が混在した混合層と、を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を製造する方法において、前記第１有機層の形成材料を含む第１蒸着源７２１と、前記第２有機層の形成材料を含む第２蒸着源７２２と、を備える蒸着装置７を用い、前記第１蒸着源７２１から気化された第１有機層の形成材料を基板７３の被処理面に衝突させて基板７３の被処理面に第１有機層を形成した後、前記第１有機層の形成材料がマイグレーション状態中に、前記第２蒸着源７２２から気化された第２有機層の形成材料を前記第１有機層へと衝突させて蒸着する。 （もっと読む）

【課題】陰極に透明電極をスパッタ法にて形成する場合に、有機発光層へのダメージを抑制して成膜することができる有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に第一電極（陽極）３、発光媒体層５、第二電極（陰極）６をこの順に形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、第二電極（陰極）６を形成する際、先ず、発光媒体層５上に蒸着法によって導電性金属酸化物からなる第一透明電極１０を形成し、その後、第一透明電極１０上にスパッタ法によって導電性金属酸化物からなる第二透明電極１１を形成する。 （もっと読む）

【課題】駆動電圧を低下でき、また、効率を向上できる有機ＥＬ素子及びこれの製造方法を提供する。
【解決手段】複数の発光層を含む有機ＥＬ素子において、複数の発光層の間に無機酸化物層を少なくとも１層以上挿入する。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する基板上に有機化合物を含む層を有する素子が設けられた半導体装置を歩留まり高く作製することを課題とする。
【解決手段】基板上に剥離層を形成し、剥離層上に、無機化合物層、第１の導電層、及び有機化合物を含む層を形成し、有機化合物を含む層及び無機化合物層に接する第２の導電層を形成して素子形成層を形成し、第２の導電層上に第１の可撓性を有する基板を貼りあわせた後、剥離層と素子形成層とを剥す半導体装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】発光層から出力された光の一部が画素間に設けられる壁部材に入射することによって生じる取出し光の損失を低減し、かつ明るさの視野角依存性が改善された表示装置を提供する。
【解決手段】基板１０と、基板１０上にマトリクス状に設けられる複数の画素２０と、から構成され、画素２０が、発光色が異なる複数種類の副画素（２０Ｒ，２０Ｇ，２０Ｂ）からなり、前記副画素が、第一電極２３と、発光層２５を含む有機化合物層と、第二電極２７と、を有し、基板１０上、かつ所定の副画素間に壁部材２１が設けられ、画素２０が設けられている領域（表示領域）が、壁部材２１によって副画素ごと又は１個あるいは複数個の画素ごとに区画される表示装置において、可視光領域における壁部材２１の透光性が、第二電極２７と同程度あるいは第二電極２７よりも高いことを特徴とする、表示装置１。 （もっと読む）

【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】平板に薄膜パターンよりも形状寸法の大きい開口部を形成した保持部材を基板上に予め定められた薄膜パターン形成領域が開口部内に位置するように位置合わせした状態で、該保持部材と基板との間に可視光を透過する樹脂製のフィルムを挟持し、基板上の薄膜パターン形成領域に対応したフィルム部分にレーザ光を照射し、当該部分のフィルムに薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを設けてマスクを形成し、基板上の薄膜パターン形成領域にマスクの開口パターンを介して成膜した後、マスクを剥離して基板上に一定形状の薄膜パターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】アルミの這い上がりを防止して破損が起こりにくい安定な蒸発源を有する成膜装置を提供することである。さらには、基板を垂直にして横方向から蒸着する縦型蒸着に適した成膜装置を提供することである。
【解決手段】少なくとも、坩堝と、加熱部からなり、坩堝は蒸着材料に対する濡れ性の異なる材質からなる２種類の構造からなる坩堝であって、少なくとも開口部は濡れ性の小さい材料からなり、蒸着材料が供給される部分は濡れ性の大きい材料からなる蒸発源を有することを特徴とする成膜装置。 （もっと読む）

【課題】発光層への水分等の侵入を抑制できる発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】発光領域２０と、発光領域２０とＸ軸方向に隣接する配線領域３０とをそれぞれ含む複数の素子領域１０が、Ｘ軸方向とＹ軸方向とにそれぞれ配列された基板Ｗに作製される。Ｙ軸方向に延在しＸ軸方向に配列された複数のバー４２と、複数のバー４２間に形成された複数の開口部４３とを有するマスク４０が、バー４２が配線領域３０を被覆し、開口部４３から発光領域２０が露出するように、基板Ｗ上に配置される。マスク４０を介して、基板Ｗ上に無機膜８と有機膜９とが交互に成膜される。基板Ｗが、素子領域１０毎に分離される。このように製造された発光素子１は、無機膜８と有機膜９からなる保護膜Ｐを有し、保護膜Ｐによって発光層５への水分等の侵入が抑制される。 （もっと読む）