説明

Fターム[3K107GG04]の内容

エレクトロルミネッセンス光源 (181,921) | 製造方法、装置 (15,131) | 成膜方法 (6,048) | 乾式 (2,141) | 蒸着 (1,279)

Fターム[3K107GG04]に分類される特許

141 - 160 / 1,279


【課題】大型の成膜対象物の表面に分布が均一な成膜を簡素な構成の装置で行うことができる技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着装置100は、真空槽100aと、真空槽100aの外部に設けられたホスト材料蒸発源70h、第1及び第2のドーパント材料蒸発源80d、90dと、ホスト材料蒸発源70h、第1及び第2のドーパント材料蒸発源80d、90dから供給された蒸発材料の蒸気を基板5に向って放出する蒸気放出器8とを備える。蒸気放出器8は、同心状に配置された径の異なる第1〜第5の筒状の蒸気拡散部11〜15を有するとともに、隣接する蒸気拡散部が、蒸発材料の蒸気が通過可能な第1〜第4の連通口21〜24を介して互いに接続されている。蒸気放出器8は、基板5に対し、蒸気放出器8の延びる方向と直交する方向に移動するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】 リニアソースに好適な水晶発振式膜厚モニタ装置と共に、膜厚モニタを用いたEL材料の蒸発源装置や薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 外周端に沿って複数の水晶振動子50を保持する円盤状の水晶振動子ホルダ10と、その表面を覆い、かつ、その一個に対応した位置にだけ開口部21を設けたカバー20を備えたヘッダと、ヘッダの裏面に設けられた回転機構と、ホルダの回転に伴って開口部から表面を外部に露出する一の水晶振動子の共振周波数を検出する共振周波数検出手段を備えた水晶発振式膜厚モニタ装置では、ヘッダを構成する円盤状のホルダの外周部を円錐状に、内側に角度θだけ窪ませて水晶振動子表面から延長した垂線を円盤状のホルダの回転軸に対して角θだけ傾斜させ、ホルダを回転する駆動部550を含む回転機構を、水晶振動子ホルダの回転軸に対して垂直に伸びた方向に設ける。 (もっと読む)


【課題】小形の蒸着マスク2でも大型の基板4を離間状態で相対移動させることで広範囲に蒸着マスクによる成膜パターンの蒸着膜を蒸着でき、蒸着マスクの温度上昇を十分に抑えて蒸着マスク2を一定の温度に保持ができるため、蒸着マスクの熱による歪みを防止でき、高精度の蒸着が行える画期的な蒸着装置を提供すること。
【解決手段】基板4と蒸着マスク2とを離間状態に配設し、この基板4と蒸発源1との間に、制限用開口部5を設けた飛散制限部を構成するマスクホルダー6を配設し、このマスクホルダー6に前記蒸着マスク2を接合させて付設し、このマスクホルダー6に蒸着マスク2の温度を保持する温度制御機構9を設け、基板4をこの蒸着マスク2に対して相対移動することにより蒸着マスク2より広い範囲に、精度の高い成膜パターンの蒸着膜を形成できる蒸着装置。 (もっと読む)


【課題】蒸着ヘッドから噴射された成膜材料が被処理基板と、処理室又は他の蒸着ヘッドとの間で反跳し、蒸着されるべき箇所とは異なる部位に成膜材料が付着したり、各成膜材料噴出部からの蒸気が混じりあい隣接する膜中に不純物として混入する。
【解決手段】被処理基板Gを収容する処理室11と、成膜材料の蒸気を該被処理基板へ向けて噴出する成膜材料噴出部13とを備える成膜装置1に、成膜材料噴出部13から噴出され、被処理基板Gで反跳した成膜材料を捕捉する捕捉部16,16…を処理室11の内部に備える。 (もっと読む)


【課題】 放出装置によってマスク板が加熱されない有機薄膜製造装置を提供する。
【解決手段】蒸気を放出しながら移動する放出装置31〜36を、マスク板14と対面する位置を通過させ、マスク板14の貫通孔底面に露出する部分の基板13の成膜面に有機薄膜を形成する有機薄膜製造装置10に於いて、高温に昇温される放出装置31〜35又は36は、マスク板14に近い位置を通過させないようにする。高温の放出装置31〜35又は36が放射する熱によるマスク板14の加熱が緩和され、マスク板14が変形しないようになる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、低コストで連続的に製造できる、有機エレクトロルミネッセンス(以下「EL」とする)素子の製法を提供する。
【解決手段】
ロールトゥロールにより有機EL素子を製造するのに際し、粘着面および所定の開口パターンを有するシート状のフレキシブルフィルムからなるマスクを、シート状の基板に対して貼り合せ、上記マスクの上から上記第2電極を形成した後、上記マスクを剥離して所定パターンを有する第2電極を形成するようにした。 (もっと読む)


【課題】有機EL素子において、光取り出し効率の向上等を図る。
【解決手段】有機EL素子である発光素子4は、第1電極層43と第2電極層45との間に配置された、少なくとも1層以上の発光機能層443を含む有機化合物層44を含み、第2電極層45が発光機能層443で発せられた光の一部を該発光機能層443に向けて反射し、他の一部を透過させる半透明半反射層として機能する。これに加えて、第2電極層(半透明半反射層)45を中心として反射層41が位置するのとは反対側に、かつ、第2電極層(半透明半反射層)45に接するように配置される反射増強層46を備え、反射増強層46は酸化モリブデンまたは酸化タングステンから構成される。 (もっと読む)


【課題】成膜材料を微量に蒸発させることで成膜材料の利用効率を高めることができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】基板K上に薄膜を蒸着形成する蒸着装置10において、有機材料からなる成膜材料Pを収容する容器3と、容器3に収容された成膜材料Pに混入される導電性の粒状混合物4と、容器3内の粒状混合物4を誘導加熱する加熱部5と、を備え、粒状混合物4の成膜材料Pに対する体積比は、1/10000以上で1/100未満の範囲内の値である。 (もっと読む)


【課題】長寿命で、コントラストと色純度が高く、消費電力の小さい有機EL表示装置を提供する。また低コストで製造するために、少ない部品構成で、大型基板を用いた生産性の良い有機EL表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置100は、ボトムエミッション型であって、透明基板2上に隔壁としてのバンク部112で区画された赤色、緑色、青色に対応する透明な画素電極111と、画素電極111上に形成された正孔輸送層110bと、正孔輸送層110b上に形成されインクジェット法で塗り分けられた赤色、緑色、青色それぞれの有機発光層110cと、これらの有機発光層110cを覆う対向電極12と、を備え、画素電極111は有機発光層110cからの発光色と同色の光を選択透過する着色成分を含有されてなり、画素電極111の膜厚が0.3μm以上2μm以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明では、高画質で信頼性の高い表示装置を低いコストで歩留まり良く製造す
ることができる技術を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、画素領域における画素電極層上、及び画素電極層周辺を覆う隔壁
として機能する絶縁層上に、スペーサを有する。このスペーサによって、発光材料を画素
電極層上に形成する際、選択的に形成するためのマスクは支持され、マスクのよじれやた
わみなどによって画素電極層に接することを防止する。よって、画素電極層にはマスクに
よる傷などの損傷が生じず、画素電極層は形状不良とならないので、高繊細な表示を行う
、高信頼性な表示装置を作製することができる。 (もっと読む)


【課題】種々の多数の基板に対して真空蒸着法による成膜を効率良く行う技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空槽2内において、第1及び第2のマスク31、32を介して第1及び第2の基板51、52上に蒸着を行う真空蒸着装置である。本発明は、第1及び第2の基板51、52を保持する保持手段80と、第1及び第2のマスク31、32をそれぞれ支持するマスク支持部17、18と、マスク支持部17、18を非接触の状態でそれぞれ位置合わせを行う第1及び第2のXYθステージ15、16とを有する。第1及び第2のXYθステージ15、16は、コ字形状に形成され、第1及び第2のXYθステージ15、16の端部がそれぞれ対向するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】 下部電極から蒸着マスクまでの距離を短くして、蒸着物質の回り込みによる混色を防止する。
【解決手段】 発光領域に対応して設けられた平坦化膜と、平坦化膜を覆い、発光領域の周囲の平坦化膜が形成されていない領域の一部に延長して形成された下部電極と、下部電極の表面に形成された発光材料を含む有機膜と、有機膜を覆う上部電極とを有し、
発光領域の周囲の平坦化膜が形成されていない領域に、下部電極の端部を覆う隔壁が設けられていることを特徴とする表示装置。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板100に対して薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着材料を放出する第1蒸着源203と、搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着源203に対して搬送方向Aにずれて配置され、放出された第1蒸着材料に重なり合うように第2蒸着材料を放出する第2蒸着源204と、第2蒸着源204が延在する方向と同一の方向に延在し、放出された第2蒸着材料に重なる位置であって、放出された第1蒸着材料に重ならない位置に設けられた遮蔽部材230と、を備え、遮蔽部材230は、放出された第2蒸着材料の一部を通過する開口部231を有する。 (もっと読む)


【課題】ITOなどの透明電極をスパッタリング法によって成膜する際のダメージが抑制された素子構造を提供する。
【解決手段】蒸着法で形成されたモリブデン酸化物を含む層206を、スパッタリング法により形成されるITOなどの透明電極207に接して下側に設ける。スパッタリング法によるダメージをモリブデン酸化物によって抑制できる。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を蒸着させる場合であっても精度良く成膜を行う。
【解決手段】搬送される基板100に対して薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着材料を放出する第1蒸着源203と、基板100に対向して搬送方向Aに直交する幅方向に延在し、第1蒸着源203に対して搬送方向Aにずれて配置され、第1蒸着材料に重なり合うように第2蒸着材料を放出する第2蒸着源204と、搬送方向Aに沿って配列された複数の羽板部材207aと、を備え、複数の羽板部材207aは、放出された第2蒸着材料の進行方向に対して傾斜し、且つ、放出された第1蒸着材料の進行方向に対して平行となるように設けられている。 (もっと読む)


【課題】搬送される基板に対して、均一に共蒸着することのできる蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空容器1内で基板K上に薄膜を蒸着形成する蒸着装置10において、真空容器1内に、基板Kを搬送する搬送手段2と、基板Kの搬送方向と直交する直交方向に延在するよう搬送方向に沿って並んで配され、基板Kに対して成膜材料を蒸気として噴出する線状蒸着源3A,3Bと、搬送方向に沿って並んで配され、基板Kに対して線状蒸着源3A,3Bから噴出される成膜材料より低濃度な成膜材料を蒸気として噴出する複数の点状蒸着源部4A,4Bと、を備え、線状蒸着源3A,3Bと、複数の点状蒸着源部4A,4Bと、から噴出された蒸気により共蒸着が行われることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】簡易な方法で均一な膜厚および膜質の蒸着膜を成膜可能な蒸発源およびこれを備えた蒸着装置ならびに蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機EL表示装置1の有機層16を真空蒸着法によって形成する。底部が平坦な加熱用容器21に、溶媒に溶解または均一に分散させた有機材料を流し込む。加熱用容器21を加熱することにより溶媒を除去し、加熱用容器21の底部に均質に分散した有機膜22を形成する。この有機膜22を蒸発源2とすることより、基板11の大きさにかかわらず、均一な膜厚および膜質の有機層16を容易に形成することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】ホスト材料とゲスト材料とを同時蒸着させる蒸着装置において、微量のゲスト材料を精度良く蒸着させるとともに、蒸着材料のロスを抑制する。
【解決手段】真空処理室201内において、基板100に対して蒸着材料を蒸着させて薄膜を形成する真空蒸着装置200であって、内部に収容された蒸着材料を加熱し、発生した蒸着材料の蒸気を放出口204aから基板100へ向けて放出する第2蒸着源204と、第2蒸着源204に連結され、第2蒸着源204の内部で発生した蒸着材料の蒸気を導く導管220と、導管220を流れる蒸着材料の蒸気の流量を制御する流量制御バルブ221と、導管220を介して第2蒸着源204に連結されて、第2蒸着源204の内部で発生した蒸着材料の蒸気を回収する回収容器230と、を備える。 (もっと読む)


【課題】隣接画素へのリークの問題を解消して良好な色再現性を得ることが可能な有機EL表示装置、及び、当該有機EL表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】白色有機EL素子21Wとカラーフィルタ80との組み合わせにより、RGBの各色光を取り出す方式を採用し、しかも、タンデム構造の画素構造を有する有機EL表示装置において、有機層(電荷注入層214や接続層216,217)に対して電気的に接続された金属配線90をアノード電極211の周囲を囲むように形成する。そして、当該金属配線90の電位を有機EL素子21が非発光時のアノード電極211の電位よりも低い電位に設定する。 (もっと読む)


【課題】防湿性の向上を図り、光取り出し効率と信頼性に優れた有機EL素子を提供する。
【解決手段】反射性電極2と半透明性電極7との間に、発光層4を含む有機化合物層を配置し、さらに、半透明性電極7の光出射側に、蒸着膜であるバッファ層8と、バッファ層8に接し、CVD法で形成され、バッファ層8と屈折率が異なる第1の無機保護層9と、第1の無機保護層9に接して、CVD法で形成され、第1の無機保護層9と屈折率が異なる第2の無機保護層10と、が順次積層されている。 (もっと読む)


141 - 160 / 1,279