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Fターム[3K107GG11]の内容

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【課題】簡単なプロセスで製造でき、濃淡に富んだ画像を表示することが可能な分散型EL素子を提供する。
【解決手段】
分散型EL素子の製造工程において、連続的に厚みが変化する凸凹が表面に加工された型押し具Mを、誘電体層3に押し当てることにより、前記凸凹を反転させた形状の凹凸を誘電体層3に転写する。 (もっと読む)


【課題】 フォトリソグラフィを用いて有機化合物層をパターニングする有機EL装置の製造方法において、パターニングに用いる剥離層の残渣が有機化合物層の表面に残り、安定した特性の有機EL装置を得ることができない。
【解決手段】 第1有機化合物層の上にマスク層および剥離層を所定のパターンに形成し、マスク層および剥離層を用いて第1有機化合物層をパターニングした後に第2有機化合物層を形成し、剥離層を溶解させる剥離液に接触させて剥離層の上に形成された第2有機化合物層を剥離層と共に除去する工程を有する有機EL装置の製造方法において、各有機化合物層のパターニングが完了するまで、第1有機化合物層および第2有機化合物層を犠牲層で覆って保護する。 (もっと読む)


【課題】電子注入層形成に係る導電性材料からなる層が隣り合う電極間に跨った状態で形成されることを抑制し、高い画質性能を有する有機ELデバイスを製造する方法を提供する。
【解決手段】基板10の準備、アノード11の形成、ホール注入層121の形成、ホール輸送層122の形成、有機発光層123の形成の後、犠牲膜20を形成する。犠牲膜20は、複数のアノード11の各一部の上方、および当該各一部同士の間の上方、の両方を覆うように連続した状態で形成される。その後、導電性材料を用い電子注入準備膜130を形成する。そして、犠牲膜20を剥離・除去することで、これに付着した電子注入準備膜130の一部も除去され、電子注入層13が形成される。最後に、カソード14を形成する。 (もっと読む)


【課題】少なくとも一つの活性有機層を備えた電子構成要素を製造する。
【解決手段】有機構成要素を巻回プロセスにて製造し得る方法を最初に開示する。連続的な製造方法は、活性半導体層の活性領域が、製造プロセスの任意の時点にて未保護の溶媒、及び/又は溶媒蒸気に露出されない利点を有している。それによって、高品質の有機構成要素を製造することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】簡便な有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法を提供することである。
【解決手段】基板200上に形成された第一電極201と、少なくとも有機発光層を含む発光媒体層と、前記発光媒体層を挟むように前記第一電極201と対向して形成された第二電極204と取り出し端子202を少なくとも備える有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法であって、前記第一電極201を形成した後、前記発光媒体層のうちの少なくとも1層の有機層203を塗布法により形成し、その後、前記取り出し端子202部分を開口させたマスクを前記基板200上に被せてUVオゾン処理をすることによって、前記取り出し端子202部分の上に形成された有機層203を除去する。 (もっと読む)


【課題】 フォトリソグラフィを用いて有機化合物層をパターニングして形成される発光装置において、素子領域の外側の領域における有機化合物層の端部を素子領域内の発光層の端部と同じ条件でエッチングすると、大きな角度になってしまい、その上に形成される第2電極が途切れたり膜厚が薄くなったりして素子を流れる電流の配線抵抗が高くなり、発光装置の非点灯、シェーディングなどの発光不良や高電圧化などの課題が生じる。
【解決手段】 フォトリソグラフィにてパターニングされる複数の有機化合物層の端部のうち、発光素子間に位置せず、かつ、前記第2電極で覆われる領域に位置する端部の傾斜角を、発光素子間に位置する端部の傾斜角よりも小さくする。 (もっと読む)


【課題】 剥離層の上に形成された層を、剥離層を溶解して剥離する工程を用いる有機発光装置の製造方法において、剥離された膜片は剥離層を溶解する剥離液には溶けないため、剥離液中を漂いパターニング後の基体の表面に付着してパターニング不良を引き起こす可能性がある。
【解決手段】 剥離層を複数の発光部にわたって連続して形成することにより、剥離層の形成パターン、即ち、剥離する膜のサイズを大きくすることによって、剥離された膜片が基体の表面に付着する確率を低減し、かつ、一旦付着しても後で除去し易くなるようにして、パターニングの不良の発生を抑制する。 (もっと読む)


【課題】 電子デバイスを形成するための改善された方法の必要性が存在する。
【解決手段】 第1の層の上に、閉じ込められた第2の層を形成する方法であって、第1の表面エネルギーを有する第1の層を形成する工程と、第1の層を反応性界面活性組成物で処理して、第1の表面エネルギーよりも低い第2の表面エネルギーを有する処理された第1の層を形成する工程と、処理された第1の層を放射線に曝露する工程と、第2の層を形成する工程とを含む方法が提供される。また、該方法によって製造される有機電子デバイスも提供される。 (もっと読む)


【課題】より色収差が少なく、光出力の向上が可能な発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極層1と陰極層2との間に少なくとも有機発光層3が設けられた有機EL素子10と、有機EL素子10の光出射面側に設けられた透光性である支持体とを備え、支持体は、第一の基板と、第一の基板の光出射面側に形成され第一の基板とは別の材料よりなる第二の基板とを備えた発光素子20の製造方法であって、支持体に転写層を形成する転写層形成工程と、転写層形成工程後、転写層に凹凸パターンを形成したモールドを押圧保持した後、分離することにより、モールドの凹凸パターンを転写層に転写する転写工程とを有する凹凸のパターン加工を予め支持体の両面に行い、両面に予め凹凸を形成した支持体を用いて、有機EL素子10を形成する。 (もっと読む)


【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にする。また、材料の利用効率を高めることによって製造コストを低減させる。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させる。
【解決手段】一方の面に、開口部を有する反射層と、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第1の基板を用い、第1の基板の材料層が形成された面と、第2の基板の被成膜面とを対向させ、第1の基板の他方の面側からレーザ光を照射し、反射層の開口部と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第2の基板の被成膜面に成膜する。 (もっと読む)


【課題】シャドウマスクを使用することなく高精細な薄膜パターンの蒸着形成を容易にする。
【解決手段】真空容器内で有機EL材料を蒸発させて、有機EL表示用基板面にマトリクス状に設けられた複数の画素電極上に選択的に被着させ、有機EL材料の発光層を形成する有機EL表示装置の製造方法であって、発光層を形成する箇所に対応して位置する画素電極の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体に通電せず、又は該抵抗体に有機EL材料を昇華させない程度に制限された温度が発生するように通電する段階と、発光層を形成しない箇所に対応して位置する画素電極の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体に有機EL材料を昇華させるのに十分な温度が発生するように通電する段階と、を行うものである。 (もっと読む)


【課題】シャドウマスクを使用することなく高精細な薄膜パターンの蒸着形成を容易にする。
【解決手段】蒸発源2から蒸発した有機EL材料の蒸着分子23が有機EL表示用基板5に到達する前に上記蒸着分子23を帯電させる段階と、発光層16を形成する箇所に対応して位置する画素電極14の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体21に、帯電された蒸着分子23の帯電極性とは異なる極性で且つ有機EL材料を昇華させない程度に制限された温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、発光層16を形成しない箇所に対応して位置する画素電極14の基板側の面に電気的に接触させて設けられた抵抗体21に、帯電された蒸着分子23の帯電極性と同じ極性で且つ有機EL材料を昇華させるのに十分な温度を発生させ得る電圧を印加して通電する段階と、を行う。 (もっと読む)


【課題】歩留まりや信頼性の低下を防止すると共に構成部材である有機EL素子の性能を向上させるための有機EL装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】下部電極21と、上部電極と、前記下部電極21と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、からなる有機EL素子を有する画素を複数備える有機EL装置の製造方法において、前記下部電極21が設けられた基板上に保護層を形成する工程と、少なくとも一部の画素に対応する領域に開口部31を有するマスク30を前記保護層に密着させた状態で、前記開口部31に対応する領域に設けられている保護層を選択的に除去する工程と、前記保護層が除去された領域において、前記下部電極21上に有機化合物層を形成する工程と、を有することを特徴とする、有機EL装置の製造方法。 (もっと読む)


【課題】マスクを利用して有機EL装置を製造する際に、マスクを有機EL装置の特定の構成部材に接触させないようにしつつ有機EL素子の構成部材となる薄膜を精度よく成膜することを可能にする有機EL装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上であって成膜用マスクと対向する面側にスペーサを設けるスペーサ設置工程と、第一のマスクを用いて少なくとも表示領域の一部に薄膜を形成する第一成膜工程と、第二のマスクを用いて表示領域に薄膜を形成する第二成膜工程と、を有し、前記スペーサが、前記表示領域以外の領域に設けられ、前記第一成膜工程において、前記第一のマスクが前記スペーサに支持されており、前記第二のマスクが前記スペーサの設置位置に対応する位置に開口を有することにより、前記第二成膜工程において、前記第二のマスクが前記スペーサに支持されていないことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】レーザー熱転写装置及びこれを用いた有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】アクセプター基板を基板ステージ上に配する段階と、アクセプター基板上にドナーフィルムを形成する段階と、アクセプター基板上にパターン化されたマスクを設ける段階と、レーザービーム発生部から出射されたレーザービームを、マスクの開口を通じてドナーフィルムに照射する段階と、ドナーフィルムのパターンをアクセプター基板に転写する段階と、を含むレーザー熱転写法を用いた有機発光表示装置の製造方法。これにより、基板のサイズに関係なくレーザービームをスキャニングして、ドナーフィルムの転写層を基板上に容易に転写させる。 (もっと読む)


【課題】最良のパフォーマンス/コスト比を有するフルカラー・アクティブ・マトリクス有機発光ディスプレイを提供する。
【解決手段】透明な基板12、カラー・フィルタ14、および、カラー・フィルタ上に重なる関係で配置され、かつ、ピクセルのアレイを画定する金属酸化物薄膜トランジスタ・バックパネル18を含む。OLEDのアレイ20は、バックパネル上に形成され、フルカラー・ディスプレイのバックパネル、カラー・フィルタ、およびの基板を通って光を下方へ透過するために配置される。各OLEDによって発光された光は、複数の原色うちの2つの範囲にわたって広がる波長を有する第1発光帯域、および、残りの原色の範囲にわたって広がる波長を有する第2発光帯域を含む。カラー・フィルタは、各ピクセルのために、第1発光帯域を2つの別個の原色に分離する2つのゾーン、および、第2発光帯域を透過させる第3のゾーンを含む。 (もっと読む)


【課題】色純度が良好であり、高い輝度を有し、且つ耐熱性に優れた着色画素を有するカラーフィルタの作製に好適な着色硬化性組成物、及び、着色剤として有用な新規化合物の提供。
【解決手段】下記一般式(I)で表される化合物から選択された着色剤、(B)前記(A)特定着色剤とは異なる色相を有する着色剤、及び(C)重合性化合物を含有する着色硬化性組成物。式中、R及びRは、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又はシアノ基を表す。R及びRは、それぞれ独立に置換基を表し、互いに連結して環構造を形成してもよい。
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【課題】信頼性の高い発光装置を提供する。また、メタルマスクに起因する不具合が抑制された発光装置を提供する。また、発光素子の上部電極層の抵抗に起因する不具合が抑制された発光装置を提供する。
【解決手段】あらかじめ基板上に電極層を設け、当該電極層と重なるようにEL層及び上部電極層を、メタルマスクを用いずに同一パターンで形成し、その後、電極層と上部電極層とを電気的に接続する。接続方法として、レーザ光を照射する方法や、物理的に加圧する方法、また物理的に加圧しながら加熱する方法などを用いる。 (もっと読む)


【課題】各種デバイスを積層するための基材とするためのポリイミドフィルムと支持体との積層体であって、デバイス作製時の高温プロセスにおいても剥がれることなく、しかもポリイミドフィルム上にデバイスを作製した後には容易に支持体からポリイミドフィルムを剥離することができる積層体を提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルム6として、少なくとも支持体1に対向させる面にプラズマ処理が施されたフィルムを用い、支持体1とポリイミドフィルム6とが対向する面の少なくとも一方にカップリング剤を用いて、接着剥離強度は異なり表面粗さは略同一である良好接着部分と易剥離部分とを形成するパターン化処理を施した後、重ね合わせて加圧加熱処理することとし、ポリイミドフィルム6は、70モル%以上がベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類を主成分とするジアミン類とテトラカルボン酸類との反応によって得られる。 (もっと読む)


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